(trimethylsilyl)diazoethane | 54388-71-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: (trimethylsilyl)diazoethane
• 英文别名: 1-Trimethylsilyl-1-diazoethan；[(1E)-1-diazoethyl]-trimethylsilane
• CAS: 54388-71-5
• 化学式: C₅H₁₂N₂Si
• 分子量: 128.249
• InChiKey: KKYMHQAYHWFILA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.55
• 重原子数：
  8
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (trimethylsilyl)diazoethane 以 solid matrix 为溶剂， 生成 乙烯基三甲基硅烷
  参考文献：
  名称：

  用分子氧氧化甲基硅烷。基质分离研究

  摘要：

  已在 O 2 掺杂的氩基质中研究了 1-甲基硅烯（2-硅丙烯）（1a）、1,1-二甲基硅烯（1b）和 1,1,2-三甲基硅烯（1c）的光化学和热氧化。所有 silene 1 在含有超过 1% O 2 的基质中很容易被光氧化，但三甲基硅烷 (1c) 是唯一一种在低至 20-40 K 的温度下对氧气表现出热反应性的 silene。光化学反应性从 1a 增加到 1c双键上的甲基数量增加，电离电位降低。1 的光化学和热氧化的关键中间体是硅二氧杂环丁烷 9

  DOI：

  10.1021/ja00078a016
• 作为产物：
  描述：

  三甲基硅烷化重氮甲烷 、 碘甲烷 在 正丁基锂 作用下， 生成 (trimethylsilyl)diazoethane
  参考文献：
  名称：

  用分子氧氧化甲基硅烷。基质分离研究

  摘要：

  已在 O 2 掺杂的氩基质中研究了 1-甲基硅烯（2-硅丙烯）（1a）、1,1-二甲基硅烯（1b）和 1,1,2-三甲基硅烯（1c）的光化学和热氧化。所有 silene 1 在含有超过 1% O 2 的基质中很容易被光氧化，但三甲基硅烷 (1c) 是唯一一种在低至 20-40 K 的温度下对氧气表现出热反应性的 silene。光化学反应性从 1a 增加到 1c双键上的甲基数量增加，电离电位降低。1 的光化学和热氧化的关键中间体是硅二氧杂环丁烷 9

  DOI：

  10.1021/ja00078a016

文献信息

• Oxidation of methylsilenes with molecular oxygen. A matrix isolation study
  作者：Martin Trommer、Wolfram Sander、Andreas Patyk

  DOI：10.1021/ja00078a016

  日期：1993.12

  investigated in O 2 -doped argon matrices. All silenes 1 are easily photooxidized in matrices containing more than 1% O 2 , but trimethylsilene (1c) is the only silene that exhibits thermal reactivity toward oxygen at temperatures as low as 20-40 K. The photochemical reactivity increases from 1a to 1c with increasing number of methyl groups at the double bond and decreasing ionization potential. Key intermediates

  已在 O 2 掺杂的氩基质中研究了 1-甲基硅烯（2-硅丙烯）（1a）、1,1-二甲基硅烯（1b）和 1,1,2-三甲基硅烯（1c）的光化学和热氧化。所有 silene 1 在含有超过 1% O 2 的基质中很容易被光氧化，但三甲基硅烷 (1c) 是唯一一种在低至 20-40 K 的温度下对氧气表现出热反应性的 silene。光化学反应性从 1a 增加到 1c双键上的甲基数量增加，电离电位降低。1 的光化学和热氧化的关键中间体是硅二氧杂环丁烷 9