Titanocene based compound, photosensitive composition, photosensitive transfer sheet and pattern forming method
申请人:Sugiyama Takekatsu
公开号:US20070212642A1
公开(公告)日:2007-09-13
A titanocene compound having a carbonyl group, and a photosensitive composition whose sensitivity has been enhanced by containing this as a photopolymerization initiator, a photosensitive transfer sheet using said photosensitive composition, and a pattern forming method using said photosensitive transfer sheet are provided.
Fotoresist-Formulierungen zur Ausbildung von Reliefstrukturen aus hochwärmebeständigen Polyimid-Polymeren, enthaltend in einem organischen Lösungsmittel im wesentli- chen mindestens je
a) ein fotopolymerisierbare Reste tragendes Polyamidester-Präpolymer
b) eine strahlungsreaktive copolymerisierbare ungesättigte Verbindung
c) einen Fotosensibilisator
d) einen Fotoinitiator
e) einen Leucofarbstoff,
zeigen eine gesteigerte Lichtempfindlichkeit, wenn in ihnen als Fotoinitiator eine Verbindung vom Typ der N-Azidosulfonylarylmaleinimide und als Leucofarbstoff eine Verbindung von Typ der Triarylmethane enthalten ist.
用于利用高耐热聚酰亚胺聚合物形成浮雕结构的光刻胶配方,在有机溶剂中基本上含有以下至少一种成分
a) 带有可光聚合残留物的聚酰胺酯预聚物
b) 具有辐射反应的可共聚的不饱和化合物
c) 一种光敏剂
d) 光引发剂
e) 一种白色染料、
如果含有一种 N-叠氮磺酰基马来酰亚胺化合物作为光引发剂,并含有一种三芳基甲烷化合物作为白兰地染料,它们的光敏性就会提高。
Fotochromes System, damit hergestellte Schichten und deren Verwendung
申请人:BASF Aktiengesellschaft
公开号:EP0239868A1
公开(公告)日:1987-10-07
Das fotochrome System, enthält einen oxidierbaren Leukofarbstoff und einen fotochemisch aktivierbaren Initiator, der den Leukofarbstoff in den Farbstoff überführt, wobei der Initiator ein Phenanthroimidazolderivat ist.
Das fotochrome System eignet sich zur Herstellung fotochromer Schichten für Photoresists und Druckplatten.
Composition for actinic energy ray and method of forming pattern
申请人:——
公开号:US20040248037A1
公开(公告)日:2004-12-09
A composition for activation energy rays comprising a specific vinyl ether group-containing compound (A) in which a vinyl ether group is bonded to a secondary or tertiary carbon atom, a polymer (B) having a carboxyl group and/or a hydroxyphenyl group, and a photo-acid generator compound (C) can form a resist pattern having an excellent sensitivity without carrying out any heat treatment at a temperature of 60° C. or more after irradiation.