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(triethylsilanyl)phosphine | 39179-46-9

中文名称
——
中文别名
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英文名称
(triethylsilanyl)phosphine
英文别名
(triethylsilyl)phosphine;Triethylsilylphosphane
(triethylsilanyl)phosphine化学式
CAS
39179-46-9
化学式
C6H17PSi
mdl
——
分子量
148.26
InChiKey
JGQBDYOQJCERNV-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.87
  • 重原子数:
    8
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    0
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    0

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    (triethylsilanyl)phosphine二(三氟甲基)亚膦酰碘 以99%的产率得到1,1-双(三氟甲基)二膦
    参考文献:
    名称:
    Demuth, R.; Grobe, J.; Steiner, L., Zeitschrift fur Naturforschung, 1971, vol. 26 b, p. 731 - 732
    摘要:
    DOI:
  • 作为产物:
    描述:
    三乙基氯硅烷磷化氢sodium氢化钾 作用下, 以 乙二醇二甲醚正己烷 为溶剂, 反应 48.0h, 生成 (triethylsilanyl)phosphine 、 tris(triethylsilyl)phosphine 、 bis(triethylsilanyl)phosphine
    参考文献:
    名称:
    用于量子点合成的位阻三(三烷基甲硅烷基)膦前体
    摘要:
    具有窄尺寸分布的纳米材料的合成具有挑战性,特别是对于III–V半导体纳米颗粒(也称为量子点)。关于磷化物,这个问题主要归因于反应过度的前体的使用。由于用于III–V半导体合成的有效试剂范围狭窄,问题变得更加严重。我们报道了在InP量子点(QD)合成中使用空间受限的三(三乙基甲硅烷基)膦和三(三丁基甲硅烷基)膦。假设是这些试剂的反应性不如近乎普遍的前体三(三甲基甲硅烷基)膦,可用于制造更均匀的材料。发现InP产品的量子产率和发射色饱和度(fwhm)有所提高,但未达到CdSe量子点中实现的水平。而不管,这些试剂还有其他积极特性;它们的自发性较低,可用于II-V半导体和有机磷化合物的合成。关于安全实践,我们证明了氟化氢可以有效替代高毒性的HF,用于III-V半导体量子点的后处理。
    DOI:
    10.1021/acs.inorgchem.0c02440
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文献信息

  • Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: F: PerFHalOrg.3, 1.2, page 14 - 30
    作者:
    DOI:——
    日期:——
  • Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: F: PerFHalOrg.3, 2.9, page 222 - 225
    作者:
    DOI:——
    日期:——
  • Darstellung und charakterisierung von (CF3)2PPH2 und (CF3)2AsPH2
    作者:R. Demuth、J. Grobe
    DOI:10.1016/s0022-1139(00)81917-x
    日期:1973.1
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