dimethyl(2,2-dimethylhydrazino)silane | 318981-38-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: dimethyl(2,2-dimethylhydrazino)silane
• 英文别名: 2-(Dimethylsilyl)-1,1-dimethylhydrazine；2-dimethylsilyl-1,1-dimethylhydrazine
• CAS: 318981-38-3
• 化学式: C₄H₁₄N₂Si
• 分子量: 118.254
• InChiKey: QFDIPNFLALEXTD-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  84.9±9.0 °C(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.04
• 重原子数：
  7
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  15.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  二甲基一氯硅烷 、 dimethyl(2,2-dimethylhydrazino)silane 在 正丁基锂 作用下， 以 正己烷 为溶剂， 反应 7.0h， 以63.5%的产率得到N,N-bis(dimethylsilyl)-N',N'-dimethylhydrazine
  参考文献：
  名称：

  [EN] PRECURSORS AND METHODS FOR PREPARING SILICON-CONTAINING FILMS
  [FR] PRÉCURSEURS ET PROCÉDÉS DE PRÉPARATION DE FILMS CONTENANT DU SILICIUM

  摘要：

  提供了一些液态硅前体，用于沉积含硅膜，例如含硅、氮化硅、氧氮化硅、二氧化硅、碳化硅、掺碳氮化硅或掺碳氧氮化硅的膜。还提供了利用气相沉积技术形成这些膜的方法。

  公开号：

  WO2021202315A1
• 作为产物：
  描述：

  二甲基一氯硅烷 、 偏二甲肼 以 乙醚 为溶剂， 以84%的产率得到dimethyl(2,2-dimethylhydrazino)silane
  参考文献：
  名称：

  Syntheses and structures of (N′,N′-dimethylhydrazido)silanes

  摘要：

  叠氮硅烷Ph2Si(NHNMe2)2(1)、Me2Si(NHNMe2)2(2)、PhSi(NHNMe2)3(3)、MeSi(NHNMe2)3(4)、PhClSi(NHNMe2)2(5)、MeClSi(NHNMe2)2(6)、Me2ClSi(NHNMe2)(7)、MeClHSi(NHNMe2)(8)、MeHSi(NHNMe2)2(9)、Me2HSi(NHNMe2)(10)、Me2NN[HSi(NHNMe2)2]2(11)和Si(NHNMe2)4(12)通过相应的氯硅烷与N,N-二甲基肼反应制备得到。一些同时含有Si-Cl和N-H官能团的化合物(6,7,8)反应性很高，倾向于聚合，只能通过光谱学方法(1H、13C、29Si NMR、IR、MS)进行表征。所有其他化合物还可以通过元素分析进行表征。1、2、5、9、11和12的固态结构通过X射线衍射确定。这些包括首次含有SiH-NH-N(9,11)和SiCl-NH-N(5)单元的化合物的结构确定。

  DOI：

  10.1039/b900293f

文献信息

• PRECURSORS AND METHODS FOR PREPARING SILICON-CONTAINING FILMS
  申请人：ENTEGRIS, INC.

  公开号：US20210301400A1

  公开（公告）日：2021-09-30

  Provided are certain liquid silicon precursors useful for the deposition of silicon-containing films, such as films comprising silicon, silicon nitride, silicon oxynitride, silicon dioxide, silicon carbide, carbon-doped silicon nitride, or carbon-doped silicon oxynitride. Also provided are methods for forming such films utilizing vapor deposition techniques.

  提供了一些液态硅前体，用于沉积含硅膜，例如含硅、氮化硅、氧氮化硅、二氧化硅、碳化硅、掺碳氮化硅或掺碳氧氮化硅的膜。还提供了利用气相沉积技术形成这些膜的方法。
• ——
  作者：V. I. Rakhlin、A. N. Fomina、R. G. Mirskov、V. G. Kanaev、L. G. Larionova、M. G. Voronkov

  DOI：10.1023/a:1022527112583

  日期：——
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  作者：A. N. Fomina、B. A. Gostevskii、R. G. Mirskov、M. G. Voronkov、V. I. Rakhlin、V. A. Lopyrev

  DOI：10.1023/a:1015385010312

  日期：——

  Heating of dimethyl (2,2-dimethylhydrazino)si lane and methylbis(2,2-dimethylhydrazino)silane with 1-hexene or styrene in the presence of a catalytic amount of rhodium dicarbonylacetylacetonate gives rise to adducts by the terminal carbon atom (yields 45-84%). The same reactions with phenylacetylene give complex mixtures of products formed primarily by disproportionation of the starting organosilicon reagents.