tetrakis(2,3,6-trimethylphenol)-1,3,5-benzene tricarbaldehyde | 895164-39-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 三苯基化合物
• 英文名称: tetrakis(2,3,6-trimethylphenol)-1,3,5-benzene tricarbaldehyde
• 英文别名: 4-[[3,5-Bis[bis(4-hydroxy-2,3,5-trimethylphenyl)methyl]phenyl]-(4-hydroxy-2,3,5-trimethylphenyl)methyl]-2,3,6-trimethylphenol
• CAS: 895164-39-3
• 化学式: C₆₃H₇₂O₆
• 分子量: 925.261
• InChiKey: VPZVKDNAWONMSF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  16.5
• 重原子数：
  69
• 可旋转键数：
  9
• 环数：
  7.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  121
• 氢给体数：
  6
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  tetrakis(2,3,6-trimethylphenol)-1,3,5-benzene tricarbaldehyde 、 1-(Chloromethoxymethyl)-4-cyclohexylcyclohexane 在 三乙胺 作用下， 以 N-甲基吡咯烷酮 为溶剂， 反应 3.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  BICYCLOHEXANE DERIVATIVE AND PRODUCTION METHOD FOR SAME

  摘要：

  提供了一种在光刻胶领域、药物和杀虫剂的中间体领域等领域中有用的一种萜环己烷衍生物化合物，以及其制备方法。提供了由下述通用公式（II）表示的一种萜环己烷衍生物化合物。（在公式（II）中，Y独立表示1至10个碳原子的烷基、卤素原子、酰氧基、烷氧羰基或羟基，X1表示卤素原子，m表示0至11的整数，m'表示0至10的整数。）

  公开号：

  EP2524907A1
• 作为产物：
  描述：

  均苯三甲醛 、 2,3,6-三甲基苯酚 在 硫酸 、 3-巯基丙酸 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 生成 tetrakis(2,3,6-trimethylphenol)-1,3,5-benzene tricarbaldehyde
  参考文献：
  名称：

  BICYCLOHEXANE DERIVATIVE AND PRODUCTION METHOD FOR SAME

  摘要：

  提供了一种在光刻胶领域、药物和杀虫剂的中间体领域等领域中有用的一种萜环己烷衍生物化合物，以及其制备方法。提供了由下述通用公式（II）表示的一种萜环己烷衍生物化合物。（在公式（II）中，Y独立表示1至10个碳原子的烷基、卤素原子、酰氧基、烷氧羰基或羟基，X1表示卤素原子，m表示0至11的整数，m'表示0至10的整数。）

  公开号：

  EP2524907A1

文献信息

• Compound for Resist and Radiation-Sensitive Composition
  申请人：Echigo Masatoshi

  公开号：US20080113294A1

  公开（公告）日：2008-05-15

  A radiation-sensitive composition containing 1 to 80% by weight of a solid component and 20 to 99% by weight of a solvent. The solid component contains a compound B which has (a) a structure derived from a polyphenol compound A by introducing an acid-dissociating group to at least one phenolic hydroxyl group of the polyphenol compound A which is synthesized by a condensation between a di- to tetrafunctional aromatic ketone or aromatic aldehyde each having 5 to 36 carbon atoms with a compound having 1 to 3 phenolic hydroxyl groups and 6 to 15 carbon atoms, and (b) a molecular weight of 400 to 2000. The composition containing the compound B is useful as an acid-amplified, non-polymeric resist material, because it is highly sensitive to radiation such as KrF excimer lasers, extreme ultraviolet rays, electron beams, and X-rays, and provides resist patterns with a high resolution, high heat resistance, and high etching resistance.

  一种辐射敏感的组合物，包含1至80重量％的固体组分和20至99重量％的溶剂。固体组分包含化合物B，其具有（a）通过向多酚化合物A的至少一个酚羟基引入酸解离基而导出的结构，多酚化合物A通过二元至四元芳香酮或芳香醛的缩合反应，每个具有5至36个碳原子的化合物与具有1至3个酚羟基和6至15个碳原子的化合物结合，并且（b）分子量为400至2000。含有化合物B的组合物非常敏感于辐射，例如KrF准分子激光器，极紫外线，电子束和X射线，并且提供具有高分辨率，高耐热性和高蚀刻抗性的抗阻图案，因此可用作酸放大的非聚合物抗阻材料。
• COMPOUND FOR RESIST AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
  申请人：ECHIGO Masatoshi

  公开号：US20110165516A1

  公开（公告）日：2011-07-07

  A radiation-sensitive composition containing 1 to 80% by weight of a solid component and 20 to 99% by weight of a solvent. The solid component contains a compound B which has (a) a structure derived from a polyphenol compound A by introducing an acid-dissociating group to at least one phenolic hydroxyl group of the polyphenol compound A which is synthesized by a condensation between a di- to tetrafunctional aromatic ketone or aromatic aldehyde each having 5 to 36 carbon atoms with a compound having 1 to 3 phenolic hydroxyl groups and 6 to 15 carbon atoms, and (b) a molecular weight of 400 to 2000. The composition containing the compound B is useful as an acid-amplified, non-polymeric resist material, because it is highly sensitive to radiation such as KrF excimer lasers, extreme ultraviolet rays, electron beams, and X-rays, and provides resist patterns with a high resolution, high heat resistance, and high etching resistance.

  一种辐射敏感组合物，含有1-80重量％的固体组分和20-99重量％的溶剂。固体组分包含化合物B，其具有（a）从多酚化合物A导出的结构，通过在多酚化合物A的至少一个酚羟基上引入酸解离基团而合成，多酚化合物A是由具有5至36个碳原子的二元至四元芳香酮或芳香醛与具有1至3个酚羟基和6至15个碳原子的化合物之间的缩合反应合成的；（b）分子量为400至2000。含有化合物B的组合物可用作酸放大，非聚合物抗蚀材料，因为它对KrF准分子激光、极紫外线、电子束和X射线等辐射非常敏感，并提供具有高分辨率、高耐热性和高蚀刻抗性的抗蚀图案。
• BICYCLOHEXANE DERIVATIVE COMPOUND AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME
  申请人：Echigo Masatoshi

  公开号：US20130030211A1

  公开（公告）日：2013-01-31

  A bicyclohexane derivative compound useful in the field of photoresist, the field of intermediate of drugs and pesticides, and the like, and a manufacturing method of the same are provided. A bicyclohexane derivative compound represented by the following general formula (II) is provided. (In formula (II), Y independently represents an alkyl group of 1 to 10 carbons, a halogen atom, an acyloxy group, an alkoxycarbonyl group or a hydroxyl group, X 1 represents a halogen atom, m represents an integer of 0 to 11, and m represents an integer of 0 to 10.)

  提供了一种在光刻领域、药物和农药中间体领域等方面有用的双环己烷衍生物化合物，以及其制造方法。提供了一种由以下通式（II）表示的双环己烷衍生物化合物。（在式（II）中，Y独立表示1至10个碳原子的烷基，卤素原子，酰氧基，烷氧羰基或羟基，X1表示卤素原子，m表示0至11的整数，n表示0至10的整数。）
• RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP2080750B1

  公开（公告）日：2020-07-29
• Compound for resist and radiation-sensitive composition
  申请人：MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.

  公开号：EP2808736B1

  公开（公告）日：2018-07-18