通过对适当的前体分子进行193 nm激光快速光解而生成的甲
硅烷基SiH2和二甲基甲
硅烷基SiMe2的时间分辨研究已获得其在气相中与
二甲基锗烷Me2GeH2的双分子反应的速率常数。在299-555 K范围内的五个温度下对SiMe2 + Me2GeH2进行了研究。在高于400 K的温度下193 nm处衬底紫外线吸收的问题意味着只能可靠地使用三个温度进行速率常数测量。这些速率常数给出了Arrhenius参数log(A / cm3分子(-1)s(-1))= -13.25 +/- 0.16和E(a)=-(5.01 +/- 1.01)kJ mol(-1) 。仅在室温下对SiH2进行了研究。这些给出的值是(4.05 +/- 0.06)x 10(-10)cm3分子(-1)s(-1)(在295 K时为SiH2 + Me2GeH2)和(4.41 +/- 0)。07)x 10(-10)cm3分子(-1)s(-1)(在296