1,2,3,4,5,6-Hexamethylhexaphenylcyclohexasilan | 84129-73-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: 1,2,3,4,5,6-Hexamethylhexaphenylcyclohexasilan
• CAS: 84129-73-7
• 化学式: C₄₂H₄₈Si₆
• 分子量: 721.356
• InChiKey: DPFAMNPMIOOYQD-BOFJXSDSSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.39
• 重原子数：
  48.0
• 可旋转键数：
  6.0
• 环数：
  7.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  0.0
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  0.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,2,3,4,5,6-Hexamethylhexaphenylcyclohexasilan 在 氢溴酸 作用下， 反应 72.0h， 以97%的产率得到1,2,3,4,5,6-Hexabromhexamethylcyclohexasilan
  参考文献：
  名称：

  Darstellung und Eigenschaften einiger Hexamethylcyclohexasilanderivate

  摘要：

  DOI：

  10.1007/bf00810749
• 作为产物：
  描述：

  甲基苯基二氯硅烷 在 lithium 作用下， 以30%的产率得到1,2,3,4,5,6-Hexamethylhexaphenylcyclohexasilan
  参考文献：
  名称：

  Darstellung und Eigenschaften einiger Hexamethylcyclohexasilanderivate

  摘要：

  DOI：

  10.1007/bf00810749

文献信息

• Soluble polycyclosilane–polysiloxane hybrid material and silicon thin film with optical properties at 193 nm and etch selectivity
  作者：Sung Jin Park、Hyeon Mo Cho、Myong Euy Lee、Miyoung Kim、Kwenwoo Han、Seunghee Hong、Sanghak Lim、Hansong Lee、Byeonggyu Hwang、Sang Kyun Kim、Sangdeok Shim、Philjae Kang、Moon-Gun Choi

  DOI：10.1039/c4tc01917b

  日期：——

  Silicon thin films that fulfil the needs of current semiconductor lithography were prepared from a new class of polycyclosilane–polysiloxane hybrid materials.

  从一种新型的多环硅烷-聚硅氧烷杂化材料制备出符合当前半导体光刻需求的硅薄膜。