1,1-bis-(4-hydroxy-phenyl)-1-phenyl-propane | 47252-81-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 三苯基化合物
• 英文名称: 1,1-bis-(4-hydroxy-phenyl)-1-phenyl-propane
• 英文别名: 1,1-Bis-(4-hydroxy-phenyl)-1-phenyl-propan；1-ethyl-1-phenyl-bis-(4-hydroxyphenyl)-methane；4-(1-(4-hydroxyphenyl)-1-phenylpropyl)phenol；4-[1-(4-hydroxyphenyl)-1-phenylpropyl]phenol；4,4'-(1-phenylethylidene)bisphenol
• CAS: 47252-81-3
• 化学式: C₂₁H₂₀O₂
• 分子量: 304.389
• InChiKey: CNMNEYFYZTUKLS-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  176 °C(Solv: benzene (71-43-2))
• 沸点：
  484.1±35.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.158±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.4
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  苯丙酮 、 苯酚 在 盐酸 作用下， 生成 1,1-bis-(4-hydroxy-phenyl)-1-phenyl-propane
  参考文献：
  名称：

  Campbell, Proceedings of the Royal Society of London. Series B, Biological sciences, 1940, vol. 129, p. 528,537

  摘要：

  DOI：

文献信息

• NOVEL DIAZONAPHTHOQUINONESULFONIC ACID BISPHENOL DERIVATIVE USEFUL IN PHOTO LITHOGRAPHIC SUB MICRON PATTERNING AND A PROCESS FOR PREPARATION THEREOF
  申请人：Reddy Vummadi Venkat

  公开号：US20100081084A1

  公开（公告）日：2010-04-01

  The present invention provides novel diazonaphthoquinonesulfonic acid bisphenol derivatives. More particularly, the present invention relates to photo restive coating comprising alkali-soluble resin, a photoactive compound and a surfactant. The photoresist film prepared has less then one micron. The photoactive compound is soluble or swellable in aqueous alkaline solutions and is diazonaphthoquinonesulfonic bisphenol esters of the general formula (A), wherein DNQ represents a 2-Diazo-1-naphthoquinone-4-sulfonyl, 2-Diazo-1-naphthoquinone-5-sulfonyl, 1-Diazo-2-naphthoquinone-4-sulfonyl groups and R1 R1 represents an alkyl, aryl and substituted aryl groups. The invention also provides a process for coating and imaging the light-sensitive composition.

  本发明提供了新型二氮基萘醌磺酸双酚衍生物。更具体地说，本发明涉及包括碱溶性树脂、光敏化合物和表面活性剂的光敏涂层。制备的光刻膜厚度小于1微米。光敏化合物在水性碱性溶液中可溶或可膨胀，是一般式（A）中的二氮基萘醌磺酸双酚酯，其中DNQ代表2-二氮基-1-萘醌-4-磺酰基、2-二氮基-1-萘醌-5-磺酰基、1-二氮基-2-萘醌-4-磺酰基基团，R1代表烷基、芳基和取代芳基基团。本发明还提供了一种涂覆和成像光敏组合物的方法。
• CURABLE RESIN COMPOSITION, CURABLE RESIN MOLDED BODY, CURED RESIN MOLDED BODY, METHOD FOR PRODUCING EACH OF SAME, AND LAMINATE BODY
  申请人：LINTEC CORPORATION

  公开号：US20140350187A1

  公开（公告）日：2014-11-27

  Provided is a curable resin composition comprising a thermoplastic resin (A) that includes a cyclic structure in its main chain, and has a glass transition temperature (Tg) of 140° C. or more, and a monofunctional curable monomer (B). The present invention provides: a cured resin formed article that has heat resistance and low birefringence, a method for producing the same, a curable resin composition and a curable resin formed article that are useful as a raw material for producing the cured resin formed article, and a laminate that includes a layer formed of a cured resin.

  提供的是一种可治愈树脂组合物，包括热塑性树脂（A），其主链中包含环状结构，并具有140℃或更高的玻璃化转变温度（Tg），以及单官能团可固化单体（B）。本发明提供了具有耐热性和低双折射率的固化树脂成型品，其生产方法，作为生产固化树脂成型品的原材料有用的可固化树脂组合物和可固化树脂成型品，以及包括由固化树脂形成的层的层压板。
• Polycarbonate and optical disc substrate
  申请人：MITSUBISHI KASEI CORPORATION

  公开号：EP0177713A1

  公开（公告）日：1986-04-16

  A polycarbonate containing from 25 to 100% by weight, based on the total carbonate bond-constituting units, of carbonate bond-constituting units each containing at least one pendant aromatic group, and having an average molecular weight of from 9,500 to 14,000.

  一种聚碳酸酯，按重量计，含有 25%至 100%的碳酸键组成单元，每个碳酸键组成单元至少含有一个芳香族基团，平均分子量为 9,500 至 14,000。
• Trialkylsilyloxy-1,1-diphenyl-ethylene und damit hergestellte Polymere
  申请人：BAYER AG

  公开号：EP0348744A2

  公开（公告）日：1990-01-03

  Trialkylsilyloxy-1,1-diphenylethylene der allgemeinen Formel I und damit hergestellte neue Polymere mit Aryl-trialkyl-silyl-ether- oder phenolischen Hy­droxyl-Endgruppen und ein Verfahren zur Herstellung dieser Polymeren durch anionische Polymerisation. worin R¹, R² = H, C₁-C₄-Alkyl, OCH₃ R³ = H, C₁-C₄-Alkyl, O-C₁-C₄-Alkyl, R⁴ = H, C₁-C₄-Alkyl, R⁵ = C₁-C₄-Alkyl, R⁶ = C₁-C₄-Alkyl.

  通式 I 的三烷基硅氧基-1,1-二苯基乙烯和用其制备的具有芳基-三烷基-硅醚或酚羟基末端基团的新聚合物，以及通过阴离子聚合法制备这些聚合物的工艺。 其中 R¹、R² = H、C₁-C₄-烷基、OCH₃ R³ = H、C₁-C₄-烷基、O-C₁-C₄-烷基、 R⁴ = H、C₁-C₄-烷基、 R⁵ = C₁-C₄-烷基、 R⁶ = C₁-C₄-烷基。
• Film for a resistance layer for an electric-thermal print system
  申请人：MITSUBISHI KASEI CORPORATION

  公开号：EP0356962A2

  公开（公告）日：1990-03-07

  A film for a resistance layer for an electric-thermal print system, which comprises from 50 to 85% by weight of a polycarbonate resin and from 15 to 50% by weight of carbon black, and which further contains from 0.1 to 30 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the polycarbonate resin, of an elastomer.

  一种用于电热印刷系统电阻层的薄膜，由 50 至 85% 重量的聚碳酸酯树脂和 15 至 50% 重量的炭黑组成，相对于 100 重量的聚碳酸酯树脂，还含有 0.1 至 30 重量份的弹性体。