2-(2-Methylprop-2-enoyloxy)ethyl piperidine-1-carboxylate | 117378-39-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 哌啶类
• 英文名称: 2-(2-Methylprop-2-enoyloxy)ethyl piperidine-1-carboxylate
• CAS: 117378-39-9
• 化学式: C₁₂H₁₉NO₄
• 分子量: 241.287
• InChiKey: XZBBQNXPJKDRHJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.8
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.67
• 拓扑面积：
  55.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1-哌啶酰氯 在 吡啶 、 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 22.0h， 生成 2-(2-Methylprop-2-enoyloxy)ethyl piperidine-1-carboxylate
  参考文献：
  名称：

  (METH)ACRYLIC ACID ESTER, ACTIVATION ENERGY RAY CURING COMPOSITION, AND INKJET RECORDING INK

  摘要：

  (Meth)acrylic acid ester，其中每个分子含有一个或多个由以下式1表示的部分结构，其中该部分结构是一种脲酯结构，不具有直接与以下式1中的氮原子结合的氢原子：其中氮原子未与氢原子结合。

  公开号：

  US20130144057A1

文献信息

• PHOTORESIST COMPOSITIONS AND METHODS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US20170090283A1

  公开（公告）日：2017-03-30

  New photoresists are provided that are useful in a variety of applications, including negative-tone development processes. Preferred resists comprise a first polymer comprising first units comprising a reactive nitrogen-containing moiety spaced from the polymer backbone, wherein the nitrogen-containing moiety produces a basic cleavage product during lithographic processing of the photoresist composition.

  提供了新的光阻剂，可用于各种应用，包括负调色剂开发过程。首选光阻剂包括第一聚合物，其中包括与聚合物骨架间隔的含有反应性氮基团的第一单元，其中氮基团在光刻处理光阻剂组合物期间产生碱性裂解产物。
• OVERCOAT COMPOSITIONS AND METHODS FOR PHOTOLITHOGRAPHY
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US20170090287A1

  公开（公告）日：2017-03-30

  Topcoat compositions are provided that are suitably applied above a photoresist composition. Preferred topcoat compositions comprise a first polymer comprising first units comprising a reactive nitrogen-containing moiety spaced from the polymer backbone, wherein the nitrogen-containing moiety produces a basic cleavage product during lithographic processing of the photoresist composition.

  提供了适合应用在光阻剂组合物上方的面漆组合物。首选的面漆组合物包括第一聚合物，其中第一单元包括与聚合物主链相距的含反应性氮基团，氮基团在光刻加工光阻剂组合物时产生碱性裂解产物。
• Photoresist compositions and methods
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US10564542B2

  公开（公告）日：2020-02-18

  New photoresists are provided that are useful in a variety of applications, including negative-tone development processes. Preferred resists comprise a first polymer comprising first units comprising a reactive nitrogen-containing moiety spaced from the polymer backbone, wherein the nitrogen-containing moiety produces a basic cleavage product during lithographic processing of the photoresist composition.

  本文提供的新型光阻可用于多种应用，包括负色调显影工艺。优选的光刻胶由第一种聚合物组成，第一种聚合物由第一单元组成，第一单元包含与聚合物骨架间隔开的活性含氮分子，其中含氮分子在光刻胶组合物的光刻处理过程中产生碱性裂解产物。
• Overcoat compositions and methods for photolithography
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd.

  公开号：US11016388B2

  公开（公告）日：2021-05-25

  Topcoat compositions are provided that are suitably applied above a photoresist composition. Preferred topcoat compositions comprise a first polymer comprising first units comprising a reactive nitrogen-containing moiety spaced from the polymer backbone, wherein the nitrogen-containing moiety produces a basic cleavage product during lithographic processing of the photoresist composition.

  本发明提供了适用于光刻胶组合物之上的面涂层组合物。优选的面漆组合物包含第一种聚合物，第一种聚合物包含第一单元，第一单元包含与聚合物骨架间隔开的活性含氮分子，其中含氮分子在光刻胶组合物的光刻处理过程中产生碱性裂解产物。
• (Meth) Acrylic acid ester, activation energy ray curing composition, and inkjet recording ink
  申请人：Ricoh Company, Ltd.

  公开号：EP2602244B1

  公开（公告）日：2017-07-26