1-chloro-1,3-disilapropane | 32832-35-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: 1-chloro-1,3-disilapropane
• 英文别名: Si-chloro-Si,Si'-methanediyl-bis-silane；Chloro(silylmethyl)silane；chloro(silylmethyl)silane
• CAS: 32832-35-2
• 化学式: CH₇ClSi₂
• 分子量: 110.691
• InChiKey: OPECQUXHKJLILW-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  43.2±19.0 °C(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.95
• 重原子数：
  4
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-chloro-1,3-disilapropane 、 氨 以 正戊烷 为溶剂， 反应 60.0h， 以50%的产率得到tris((silylmethyl)silyl)amine
  参考文献：
  名称：

  [EN] CARBOSILANE SUBSTITUTED AMINE PRECURSORS FOR DEPOSITION OF SI-CONTAINING FILMS AND METHODS THEREOF
  [FR] PRÉCURSEURS D'AMINE À SUBSTITUTION CARBOSILANE POUR LE DÉPÔT DE FILMS CONTENANT SI ET PROCÉDÉS ASSOCIÉS

  摘要：

  公开了含有碳硅烷取代胺前体的含硅薄膜形成组合物。这些碳硅烷取代胺前体具有以下结构式：(R1)aN(-SiHR2-CH2-SiH2R3)3-a，其中a = 0或1；R1为H、C1到C6烷基或卤素；R2和R3分别独立为H、卤素、具有OR'结构的烷氧基，其中R'为烷基（C1到C6）；或具有NR"2结构的烷基氨基，其中每个R"独立为H、C1-C6烷基、C1-C6烯基或C3-C10芳基或杂环基。还公开了合成碳硅烷取代胺前体的方法以及它们在沉积过程中的应用。

  公开号：

  WO2016049154A1
• 作为产物：
  描述：

  disilylmethane 在 盐酸 、 三氯化铝 作用下， 生成 1-chloro-1,3-disilapropane
  参考文献：
  名称：

  （卤代甲硅烷基）甲基硅烷的合成与表征

  摘要：

  合成了以前未报告的（卤代甲硅烷基）甲基硅烷XSiH 2 CH 2 SiH 3（X = F，Cl，Br和I），并通过PMR，红外光谱，质谱，蒸气压数据和熔点进行了表征。另外，描述了母体氢化物的新制备物二甲硅烷基甲烷。

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(00)92085-0

文献信息

• [EN] ALKYLAMINO-SUBSTITUTED CARBOSILANE PRECURSORS<br/>[FR] PRÉCURSEURS DE CARBOSILANE À SUBSTITUTION ALKYLAMINO
  申请人：AIR LIQUIDE

  公开号：WO2016007708A1

  公开（公告）日：2016-01-14

  Disclosed are Si-containing film forming compositions comprising alkylamino-substituted carbosilane precursors, methods of synthesizing the same, and their use for vapor deposition processes.

  揭示了包含烷基氨基取代碳硅烷前体的含硅膜形成组合物，以及其合成方法，以及它们用于蒸汽沉积过程的用途。
• [EN] CARBOSILANE SUBSTITUTED AMINE PRECURSORS FOR DEPOSITION OF SI-CONTAINING FILMS AND METHODS THEREOF<br/>[FR] PRÉCURSEURS D'AMINE À SUBSTITUTION CARBOSILANE POUR LE DÉPÔT DE FILMS CONTENANT SI ET PROCÉDÉS ASSOCIÉS
  申请人：AIR LIQUIDE

  公开号：WO2016049154A1

  公开（公告）日：2016-03-31

  Disclosed are Si-containing film forming compositions comprising carbosilane substituted amine precursors. The carbosilane substituted amine precursors have the formula (R1)aN(-SiHR2-CH2-SiH2R3)3-a, wherein a = 0 or 1; R1 is H, a C1 to C6 alkyl group, or a halogen; R2 and R3 is each independently H; a halogen; an alkoxy group having the formula OR', wherein R' is an alkyl group (C1 to C6); or an alkylamino group having the formula NR"2, wherein each R" is independently H, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkenyl group, or a C3-C10 aryl or heterocycle group. Also disclosed are methods of synthesizing the carbosilane substituted amine precursors and their use for deposition processes.

  公开了含有碳硅烷取代胺前体的含硅薄膜形成组合物。这些碳硅烷取代胺前体具有以下结构式：(R1)aN(-SiHR2-CH2-SiH2R3)3-a，其中a = 0或1；R1为H、C1到C6烷基或卤素；R2和R3分别独立为H、卤素、具有OR'结构的烷氧基，其中R'为烷基（C1到C6）；或具有NR"2结构的烷基氨基，其中每个R"独立为H、C1-C6烷基、C1-C6烯基或C3-C10芳基或杂环基。还公开了合成碳硅烷取代胺前体的方法以及它们在沉积过程中的应用。
• Synthesis and characterization of the (halosilyl)methylsilanes
  作者：J.A. Morrison、J.M. Bellama

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)92085-0

  日期：1975.6

  The previously unreported (halosilyl)methylsilanes, XSiH2CH2SiH3 (X = F, Cl, Br, and I), were synthesized and characterized by PMR, infrared, mass spectra, vapor pressure data, and melting points. In addition, a new preparation of the parent hydride, disilylmethane, is described.

  合成了以前未报告的（卤代甲硅烷基）甲基硅烷XSiH 2 CH 2 SiH 3（X = F，Cl，Br和I），并通过PMR，红外光谱，质谱，蒸气压数据和熔点进行了表征。另外，描述了母体氢化物的新制备物二甲硅烷基甲烷。