1,3-dimethyl-1,3-divinyl-1,3-disilacyclobutane | 22053-38-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: 1,3-dimethyl-1,3-divinyl-1,3-disilacyclobutane
• 英文别名: 1,3-divinyl-1,3-dimethyl-1,3-disilacyclobutane；1,3-dimethyl-1,3-divinyl-1,3-disilacyclobutan；1,3-dimethyl-1,3-divinyl-[1,3]disiletane；1,3-Bis(ethenyl)-1,3-dimethyl-1,3-disiletane
• CAS: 22053-38-9
• 化学式: C₈H₁₆Si₂
• 分子量: 168.386
• InChiKey: SIEGHFALOWOQNT-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  167.1±33.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.82±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.69
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,3-dimethyl-1,3-divinyl-1,3-disilacyclobutane 、 二甲基磷化氢 以81%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  AUNER, N.;GROBE, J., Z. ANORG. UND ALLG. CHEM., 1982, 489, N 6, 23-41

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  1-Methyl-1-ethenylsilacyclobutane 以75%的产率得到1,3-dimethyl-1,3-divinyl-1,3-disilacyclobutane
  参考文献：
  名称：

  Silaethane：II：1,3-disilacyclobutanen的Darstellung und charakterisierung von silaethane：II：Darstellung und charakterisierung von 1,3-disilacyclobutanen

  摘要：

  类型的1,3- Disilacyclobutanes被制备：（a）由环合成从chloromethylchlorosilanes - [R 1 - [R 2的Si（CH 2由monosilacyclobutanes的热分解- [R Cl）的氯，（b）中1 - [R 2 ħ 2 CH 2，和（c）通过用步骤（a）或（b）获得的含SiCl的1，3-二硅环丁烷中的烷基取代氯。该化合物已通过分析和光谱研究表征。严格比较了合成方法。

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(00)82810-7

文献信息

• Kinetics of the pyrolsis of 1- methyl-1-vinyl-1 silacyclobutane; some observations on the stability of vinyl silyl radicals and silabutadienes
  作者：Iain M. T. Davidson、Andrew M. Fenton、Peter Jackson、F. Timothy Lawrence

  DOI：10.1039/c39820000806

  日期：——

  give ethene and a silabutadiene has the same Arrhenius parameters as pyrolysis of 1,1-dimethyl-1 silacycologutane whence the allylic stabillisation in a vinyl silyl radical is estimated to be ⩽29 kJ mol–1 some comments are also made on the stability of silabutadienses.

  标题化合物的热解生成乙烯和硅丁二烯具有与1,1-二甲基-1硅基古洛丹烷的热解相同的阿伦尼乌斯参数，据估计，乙烯基甲硅烷基中的烯丙基稳定化⩽29kJ mol –1一些评论也制成的稳定性稳定的silabutadienses。
• Silylene to silene thermal rearrangement. Generation and rearrangement of cyclopropylsilylene and vinylsilylene
  作者：Thomas J. Barton、Gary T. Burns、William F. Goure、William D. Wulff

  DOI：10.1021/ja00368a064

  日期：1982.2
• [EN] COMPOSITIONS AND METHODS FOR DEPOSITING SILICON-CONTAINING FILMS<br/>[FR] COMPOSITIONS ET PROCÉDÉS PERMETTANT UN DÉPÔT DE FILMS CONTENANT DU SILICIUM
  申请人：VERSUM MAT US LLC

  公开号：WO2019055393A8

  公开（公告）日：2020-03-26
• Grobe, Joseph; Ziemer, Harald, Zeitschrift fur Naturforschung, B: Chemical Sciences, 1993, vol. 48, # 9, p. 1193 - 1202
  作者：Grobe, Joseph、Ziemer, Harald

  DOI：——

  日期：——
• AUNER N.; GROBE J., J. ORGANOMETAL. CHEM., 1980, 188, NO 2, 151-177
  作者：AUNER N.、 GROBE J.

  DOI：——

  日期：——