在这项研究中,通过使用两种类型的烷氧基
硅烷前体,即4- [3-(三乙氧基甲
硅烷基)丙氧基]
偶氮苯(P1)和4- [3-(二乙氧基甲基甲
硅烷基)丙氧基]自组装制备具有层状结构的光响应性
偶氮苯-
硅氧烷杂化物
偶氮苯(P2)。膜H1和H2是通过将
水解的P1和P2的溶液分别旋涂在
玻璃基板上,然后加热以引起缩聚而制备的。X射线衍射图谱表明H1和H2的层状结构具有不同的d-间距(分别为3.20nm和2.37nm),表明
偶氮苯部分的排列是不同的。这些样品在光照射下显示出d间距的轻微但可逆的变化。在紫外线照射下,H1的d间距略有下降,而H2的d间距略有增加。这种变化是由膜中一部分
偶氮苯部分的反式-顺式异构化引起的,这已通过紫外可见吸收光谱法得到证实。这些过程是可逆的,其中d-间距在可见光照射下恢复其原始值。此外,P1和P2将其与四乙氧基
硅烷共
水解并缩聚,得到层状薄膜(H1'和H2'),显示出较高的
偶氮苯部分