1,1,1-tris(4-acetylphenyl)ethane | 65740-05-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 三苯基化合物
• 英文名称: 1,1,1-tris(4-acetylphenyl)ethane
• 英文别名: 1,1',1''-[Ethane-1,1,1-triyltri(4,1-phenylene)]tri(ethan-1-one)；1-[4-[1,1-bis(4-acetylphenyl)ethyl]phenyl]ethanone
• CAS: 65740-05-8
• 化学式: C₂₆H₂₄O₃
• 分子量: 384.475
• InChiKey: ANUDZVURQGOSNK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.9
• 重原子数：
  29
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.19
• 拓扑面积：
  51.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,1,1-tris(4-acetylphenyl)ethane 、 苯酚 在 盐酸 、 溶剂黄146 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 48.0h， 以20%的产率得到1-[4-[1,1-Bis[4-[1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]phenyl]ethyl]phenyl]ethanone
  参考文献：
  名称：

  레지스트 화합물, 이를 사용한 패턴 형성 방법, 및 이를 사용한 반도체 소자 제조 방법

  摘要：

  本发明提供了使用注册化合物进行模式形成的方法以及制造半导体器件的方法。根据本发明，该化合物可以表示为以下化学式1。[化学式1]

  公开号：

  KR20210032090A

文献信息

• POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：HIRANO Shuji

  公开号：US20080248419A1

  公开（公告）日：2008-10-09

  A positive resist composition, includes: (A) a resin that has a group having absorption at 248 nm at a main chain terminal of the resin (A), and a pattern forming method uses the composition.

  一种正性光刻胶组合物，包括：（A）一种具有在树脂（A）的主链端具有在248nm处吸收的基团的树脂，并且使用该组合物进行图案形成的方法。
• US4161494A
  申请人：——

  公开号：US4161494A

  公开（公告）日：1979-07-17
• US4236035A
  申请人：——

  公开号：US4236035A

  公开（公告）日：1980-11-25
• US4311818A
  申请人：——

  公开号：US4311818A

  公开（公告）日：1982-01-19
• US8182975B2
  申请人：——

  公开号：US8182975B2

  公开（公告）日：2012-05-22