4-Amino-1-methyl-3-aminomethyl-piperidin | 35415-32-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 哌啶类
• 英文名称: 4-Amino-1-methyl-3-aminomethyl-piperidin
• 英文别名: opt.-inakt. 4-Amino-3-aminomethyl-1-methyl-piperidin；3-aminomethyl-1-methyl-piperidin-4-ylamine；4-Amino-1-methyl-3-piperidinemethanamine；3-(aminomethyl)-1-methylpiperidin-4-amine
• CAS: 35415-32-8
• 化学式: C₇H₁₇N₃
• mdl: MFCD19204950
• 分子量: 143.232
• InChiKey: DNKZFIIYXQXIQD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.6
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  55.3
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  3

文献信息

• Beschichtetes Material und seine Verwendung
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0134752A1

  公开（公告）日：1985-03-20

  Beschichtetes Material aus einem Träger auf dem eine strahlungsempfindliche aus einem Homo- oder Copolymer mit mindestens 5 Mol.-%, bezogen auf das Polymer, Struktureinheiten der Formel 1 worin R ein zweiwertiger aliphatischer Rest, der durch Heteroatome, aromatische, heterocyclische oder cycloaliphatische Gruppen unterbrochen sein kann, ein cycloaliphatischer, heterocyclischer oder araliphatischer Rest, ein aromatischer Rest, bei dem zwei Arylkerne über eine aliphatische Gruppe verknüpft sind, oder ein durch mindestens eine Alkylgruppe, Cycloalkylgruppe, Alkoxygruppe, Alkoxyalkylgruppe, Alkylthiogruppe, Alkylthioalkylgruppe, Hydroxyalkylgruppe, Hydroxyalkoxygruppe, Hydroxyalkylthiogruppe, Aralkylgruppe oder zwei benachbarte C-Atome des aromatischen Restes durch eine Alkylengruppe substituierter aromatischer Rest ist, R' unabhängig die gleiche Bedeutung wie R hat und q für 0 oder 1 steht, wobei R als aromatischer Rest nicht durch Alkylen und nicht durch die zuvor genannten Reste substituiert ist, wenn q = 0 ist, aufgebracht ist. Die Schicht kann direkt durch Strahlungseinwirkung vernetzt werden. Das Material eignet sich z.B zur Herstellung von Schutzfilmen und von Reliefabbildungen.

  一种涂层材料，包括一种支撑物，在该支撑物上有一种辐射敏感的均聚物或共聚物，该均聚物或共聚物含有至少 5 摩尔%的式 1 结构单元（以聚合物为基数）。 烷硫基、羟基烷基、羟基烷氧基、羟基烷硫基、芳基或被亚烷基取代的芳香基的两个相邻 C 原子，R'独立地具有与 R 相同的含义，q 为 0 或 1，其中作为芳香基的 R 在 q = 0 时未被亚烷基取代，也未被前面提到的基取代。该层可通过辐射直接交联。这种材料适用于制作保护膜和浮雕图像等。
• Homo- und Copolymere, Verfahren zu deren Vernetzung und derenVerwendung
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0162017A2

  公开（公告）日：1985-11-21

  Homo-und Copolymere mit einem mittleren Molekulargewicht von mindestens 2000, das mindestens 5 mol-%, bezogen auf das Polymer, mindestens eines Strukturelementes der Formeln (I) oder (II) enthält, R, R', R1, R2, R3, a, b, c, d und q die in Anspruch 1 angegebene Bedeutung haben. Die Polymeren sind strahlungsempfindlich und können zur Herstellung von Schutzüberzügen oder von photographischen Reliefabbildungen verwendet werden.

  平均分子量至少为 2000 的均聚物和共聚物，其中至少含有 5 摩尔%的式 (I) 或 (II) 结构元素、 R、R'、R1、R2、R3、a、b、c、d 和 q 具有权利要求 1 中的含义。 这些聚合物对辐射敏感，可用于生产保护涂层或照相浮雕图像。
• Verfahren zur Herstellung von Filmen und Reliefabbildungen aus Polyimiden
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0181837A2

  公开（公告）日：1986-05-21

  Polyimide die im wesentlichen aus 0,1 bis 100 Mol-% mindestens eines Strukturelementes der Formel I und 99,9 bis 0 Mol-% mindestens eines Strukturelementes der Formel II und/oder III bestehen, worin Z, Z', Q', X und X' die in Anpruch 1 angegebene Bedeutung haben, sind autophotovernetzbar. Sie eignen sich zur Herstellung von Schutzfilmen und photographischen Reliefabbildungen.

  聚酰亚胺主要由 0.1 至 100 摩尔%的至少一种式 I 结构元素和 99.9 至 0 摩尔%的至少一种式 II 和/或 III 结构元素组成，其中 Z、Z'、Q'、X 和 X'具有权利要求 1 中给出的含义，可自动交联。 它们适用于生产保护膜和照相浮雕图像。
• Polyimide, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0182745B1

  公开（公告）日：1990-11-22
• US4677186A
  申请人：——

  公开号：US4677186A

  公开（公告）日：1987-06-30