Bis-(trimethylsilyl)-dimethylhydroxysilyl-methan | 110086-50-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: Bis-(trimethylsilyl)-dimethylhydroxysilyl-methan
• 英文别名: [Bis(trimethylsilyl)methyl](dimethyl)silanol；bis(trimethylsilyl)methyl-hydroxy-dimethylsilane
• CAS: 110086-50-5
• 化学式: C₉H₂₆OSi₃
• 分子量: 234.561
• InChiKey: ZKNOQXNBGVPXKV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.31
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Bis-(trimethylsilyl)-dimethylhydroxysilyl-methan 在 air 作用下， 反应 72.0h， 生成 Bis[(bis(trimethylsilyl)methyl)dimethylsilyl]oxid
  参考文献：
  名称：

  A novel molecular species incorporating a cyclic organolithate anion and a disiloxane-solvated lithium cation

  摘要：

  二硅氧烷O{SiMe2CH(SiMe3)2}2在四氢呋喃（thf）中很容易被LiMe金属化，生成化合物SiMe2C(SiMe)3LiC(SiMe3)2SiMe2OLi(thf)2，其晶体结构已报道。

  DOI：

  10.1039/a802553c
• 作为产物：
  描述：

  ((bromodimethylsilyl)bis(trimethylsilyl)methyl)lithium 在 正丁基锂 、 水 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙醚 、 正己烷 为溶剂， 生成 Bis-(trimethylsilyl)-dimethylhydroxysilyl-methan
  参考文献：
  名称：

  硅和锗的混合物：XVI。Stabilisierung DES labilen silaethens我2 SiC（森达3）2第三人以adduktbildung MIT donoren。Reaktivität冯我2 SiMe 3）2 ·NME 3

  摘要：

  Silaethene我2 SiC（森达3）3（1），在-100℃下对于二聚化不稳定的，形成的加合物我2 SiC（森达3）2 ·NME 3（1和NME，并且可以因此，作为源1，随着1作为中间，加合物3种发生反应与丁二烯，环戊二烯，2,3- dimethylbutadine中，Ph 2 CNSiMe 3，吨BUN 3，异丁烯或丙酮给予任一cycloadducts或烯反应产品加合物3与ROH（R ​​= H，Me，t Bu，Ph）反应生成插入产物，可能是通过3的质子加合物，而不是通过1。以NMe 3为例的其他供体（D）形成加合物1 ·D，产生了新型的硅化合物。作为d的路易斯碱度，相对于1，减小（F - ρNME 3 ρ净3 ρ溴- ρTHF），向加合物的分解电阻1 d·到的二聚体1和d也降低。

  DOI：

  10.1016/0022-328x(86)80406-5

文献信息

• Wiberg, N.; Preiner, G.; Wagner, G., Zeitschrift fur Naturforschung, B: Chemical Sciences, 1987, vol. 42, # 9, p. 1062 - 1074
  作者：Wiberg, N.、Preiner, G.、Wagner, G.、Koepf, H.

  DOI：——

  日期：——
• WIBERG N.; KOPF H., J. ORGANOMET. CHEM., 315,(1986) N 1, 9-18
  作者：WIBERG N.、 KOPF H.

  DOI：——

  日期：——
• WIBERG, N.;PREINER, G.;WAGNER, G.;KOPF, H., Z. NATURFORSCH. B, 42,(1987) N 9, C. 1062-1074
  作者：WIBERG, N.、PREINER, G.、WAGNER, G.、KOPF, H.

  DOI：——

  日期：——