Hf(NMe₂)₃N(SiMe₃)₂ | 952524-58-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: Hf(NMe₂)₃N(SiMe₃)₂
• 英文别名: (Me2N)3Hf-N(SiMe3)2；tris(dimethylamino)(bis(trimethylsilyl)amino)hafnium；Bis(trimethylsilyl)azanide;dimethylazanide;hafnium(4+)；bis(trimethylsilyl)azanide;dimethylazanide;hafnium(4+)
• CAS: 952524-58-2
• 化学式: C₁₂H₃₆HfN₄Si₂
• 分子量: 471.106
• InChiKey: ATMZZFUOBOOLTK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.89
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Hf(NMe₂)₃N(SiMe₃)₂ 、 [K(18-crown-6)]2[(Me3Si)2Si(CH2)2Si(SiMe3)2] 以 氘代苯 为溶剂， 生成 K(18-crown-6)1.5[(Me2N)3Hf[η2-(Me3Si)2Si(CH2)2Si(SiMe3)2]]
  参考文献：
  名称：

  酰胺-甲硅烷基配体交换和第4组酰胺和甲硅烷基复合物之间的平衡。

  摘要：

  发现Li（THF）2SiButPh2（2-Li）中的M（NMe2）4（M = Zr，1a; Hf，1b）和甲硅烷基阴离子（SiButPh2）-（2）经过配体交换得到[M（在THF中的NMe2）3（SiButPh2）2]-（M = Zr，3a; Hf，3b）和[M（NMe2）5]-（M = Zr，4a; Hf，4b）。该反应是可逆的，导致平衡：2 1a（或1b）+ 2 2 --3a（或3b）+ 4a（或4b）。在甲苯中，1a与2的反应生成[（Me2N）3Zr（SiButPh2）2]-[Zr（NMe2）5Li2（THF）4] +（5）作为离子对。甲硅烷基阴离子2在可逆反应中选择性攻击（Me2N）3Zr-N（SiMe3）2（6a）中的-N（SiMe3）2配体，得到3a和[N（SiMe3）2]-（7）：6a + 2 2 <-> 3a +7。还观察到并研究了以下平衡：2M（NMe2）4（1a; 1b）+

  DOI：

  10.1021/ic7010293
• 作为产物：
  描述：

  Hf(NMe₂)₄ 、 六甲基二硅氮烷 以 正己烷 为溶剂， 反应 24.0h， 生成 Hf(NMe₂)₃N(SiMe₃)₂
  参考文献：
  名称：

  규소함유 유기 금속 전구체 화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용한 금속-규소 산화물 박막의 제조 방법

  摘要：

  本发明利用含硅有机金属前体化合物通过有机金属化学气相沉积法（MOCVD）和原子层沉积法（ALD），形成高纯度金属-硅氧化物薄膜堆积的沉积方法。此外，通过上述有机金属化学气相沉积法（MOCVD）和原子层沉积法（ALD），可以确保优异的薄膜特性、均匀性，并提供热稳定的含硅有机金属前体化合物。

  公开号：

  KR102093226B1

文献信息

• Unusual Equilibria Involving Group 4 Amides, Silyl Complexes, and Silyl Anions via Ligand Exchange Reactions
  作者：Xianghua Yu、Hu Cai、Ilia A. Guzei、Ziling Xue

  DOI：10.1021/ja031899y

  日期：2004.4.1

  1a + 1b (eq 1). The silyl anion 2 selectively attacks the -N(SiMe3)2 ligand in Zr(NMe2)3[N(SiMe3)2] (6) to give 1a and N(SiMe3)2- (7). Reversible reaction occurs as well, where 7 selectively substitutes the silyl ligand in Zr(NMe2)3(SiButPh2)2- (1a) or Zr(NMe2)3(SiButPh2), giving the equilibrium 6 + 2 2 right harpoon over left harpoon 1a + 7 (eq 3). The thermodynamics of these equilibria has been studied:

  发现甲硅烷基阴离子 SiButPh2- (2) 取代 Zr(NMe2)4 (3) 中的酰胺配体，得到二甲硅烷基复合物 Zr(NMe2)3(SiButPh2)2- (1a) 和 Zr(NMe2)5- (1b) ) 在四氢呋喃中。该反应是可逆的，亲核酰胺 NMe2- 攻击 1a 中的 Zr-SiButPh2 键或反向反应中的 Zr(NMe2)3(SiButPh2)，导致不寻常的配体交换平衡 2 3 + 2 2 右鱼叉超过左鱼叉 1a + 1b（方程 1）。甲硅烷基阴离子 2 选择性地攻击 Zr(NMe2)3[N(SiMe3)2](6) 中的 -N(SiMe3)2 配体，得到 1a 和 N(SiMe3)2-(7)。也发生可逆反应，其中 7 选择性地取代 Zr(NMe2)3(SiButPh2)2- (1a) 或 Zr(NMe2)3(SiButPh2) 中的甲硅烷基配体，得到平衡 6 + 2 2 右鱼叉超过左鱼叉
• Amide−Silyl Ligand Exchanges and Equilibria among Group 4 Amide and Silyl Complexes
  作者：Hu Cai、Xianghua Yu、Shujian Chen、He Qiu、Ilia A. Guzei、Zi-Ling Xue

  DOI：10.1021/ic7010293

  日期：2007.9.1

  M(NMe2)4 (M = Zr, 1a; Hf, 1b) and the silyl anion (SiButPh2)- (2) in Li(THF)2SiButPh2 (2-Li) were found to undergo a ligand exchange to give [M(NMe2)3(SiButPh2)2]- (M = Zr, 3a; Hf, 3b) and [M(NMe2)5]- (M = Zr, 4a; Hf, 4b) in THF. The reaction is reversible, leading to equilibria: 2 1a (or 1b) + 2 2 <--> 3a (or 3b) + 4a (or 4b). In toluene, the reaction of 1a with 2 yields [(Me2N)3Zr(SiButPh2)2]-[Zr(NMe2)5Li2(THF)4]+

  发现Li（THF）2SiButPh2（2-Li）中的M（NMe2）4（M = Zr，1a; Hf，1b）和甲硅烷基阴离子（SiButPh2）-（2）经过配体交换得到[M（在THF中的NMe2）3（SiButPh2）2]-（M = Zr，3a; Hf，3b）和[M（NMe2）5]-（M = Zr，4a; Hf，4b）。该反应是可逆的，导致平衡：2 1a（或1b）+ 2 2 --3a（或3b）+ 4a（或4b）。在甲苯中，1a与2的反应生成[（Me2N）3Zr（SiButPh2）2]-[Zr（NMe2）5Li2（THF）4] +（5）作为离子对。甲硅烷基阴离子2在可逆反应中选择性攻击（Me2N）3Zr-N（SiMe3）2（6a）中的-N（SiMe3）2配体，得到3a和[N（SiMe3）2]-（7）：6a + 2 2 <-> 3a +7。还观察到并研究了以下平衡：2M（NMe2）4（1a; 1b）+
• 규소함유 유기 금속 전구체 화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용한 금속-규소 산화물 박막의 제조 방법
  申请人：- (주)디엔에프(120010456766) Corp. No ▼ 160111-0109896BRN ▼314-81-38516

  公开号：KR102093226B1

  公开（公告）日：2020-03-25

  본 발명은 규소함유 유기 금속 전구체 화합물을 이용하여 유기 금속 화학 증착법(MOCVD) 및 원자층 증착법(ALD)을 통해 고순도 금속 -규소 산화물 박막을 적층으로 형성하는 박막 증착 방법을 제공한다. 또한 상기한 유기금속 화학 증착법(MOCVD) 및 원자층 증착법(ALD)에 의하여 우수한 박막 특성, 단차피복성을 확보할 수 있으며, 열적으로 안정한 규소함유 유기 금속 전구체 화합물을 제공한다.

  本发明利用含硅有机金属前体化合物通过有机金属化学气相沉积法（MOCVD）和原子层沉积法（ALD），形成高纯度金属-硅氧化物薄膜堆积的沉积方法。此外，通过上述有机金属化学气相沉积法（MOCVD）和原子层沉积法（ALD），可以确保优异的薄膜特性、均匀性，并提供热稳定的含硅有机金属前体化合物。