Ti(tBuNC(H)C(H)NtBu)(NMe2)2 | 936747-43-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机盐 - 有机金属盐
• 英文名称: Ti(tBuNC(H)C(H)NtBu)(NMe2)2
• 英文别名: ethene-1,2-diylbis(tert-butylamido)bis(dimethylamido)titanium；tert-butyl-[(Z)-2-tert-butylazanidylethenyl]azanide;dimethylazanide;titanium(4+)
• CAS: 936747-43-2
• 化学式: C₁₄H₃₂N₄Ti
• 分子量: 304.315
• InChiKey: MJSSJWXJMQPNCY-IRYVOTIRSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.04
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-甲基-2-丁醇 、 Ti(tBuNC(H)C(H)NtBu)(NMe2)2 以 正己烷 为溶剂， 反应 12.0h， 以93%的产率得到ethene-1,2-diylbis(tert-butylamido)bis(tert-pentyloxo)titanium
  参考文献：
  名称：

  TITANIUM COMPLEX, PROCESSES FOR PRODUCING THE SAME, TITANIUM-CONTAINING THIN FILM, AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME

  摘要：

  该发明的一个主题是提供具有高蒸气压和高热稳定性的新型钛配合物，可作为通过CVD方法或ALD方法等技术生产含钛薄膜的优质材料，并进一步提供生产这些配合物、由这些配合物产生的含钛薄膜以及生产薄膜的工艺。该发明涉及生产由一般式（1）表示的钛配合物：（其中R1和R4各自独立地表示具有1-16个碳原子的烷基基团；R2和R3各自独立地表示氢原子或具有1-3个碳原子的烷基基团；R5表示具有1-16个碳原子的烷基基团，可能已被一个或多个氟原子取代），并使用该复合物生产含钛薄膜。

  公开号：

  US20120029220A1
• 作为产物：
  描述：

  tetrakis(dimethylamido)titanium(IV) 、 1,4-dilithio-1,4-di-tert-butyl-1,4-diazabutadiene 以 正己烷 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 Ti(tBuNC(H)C(H)NtBu)(NMe2)2
  参考文献：
  名称：

  TITANIUM COMPLEXES, PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF, TITANIUM -CONTAINING THIN FILMS, AND METHOD FOR FORMATION THEREOF

  摘要：

  公开号：

  EP1947081B1

文献信息

• TITANIUM COMPLEX, PROCESSES FOR PRODUCING THE SAME, TITANIUM-CONTAINING THIN FILM, AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
  申请人：Tada Ken-ichi

  公开号：US20120029220A1

  公开（公告）日：2012-02-02

  A subject for the invention is to provide novel titanium complexes which have a high vapor pressure and high thermal stability and serve as an excellent material for producing a titanium-containing thin film by a technique such as the CVD method or ALD method and to further provide processes for producing these complexes, titanium-containing thin films produced from the complexes, and a process for producing the thin films. The invention relates to producing a titanium complex represented by general formula (1): (wherein R 1 and R 4 each independently represent an alkyl group having 1-16 carbon atoms; R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1-3 carbon atoms; and R 5 represents an alkyl group which has 1-16 carbon atoms and may have been substituted with one or more fluorine atoms) and to producing a titanium-containing thin film using the complex.

  该发明的一个主题是提供具有高蒸气压和高热稳定性的新型钛配合物，可作为通过CVD方法或ALD方法等技术生产含钛薄膜的优质材料，并进一步提供生产这些配合物、由这些配合物产生的含钛薄膜以及生产薄膜的工艺。该发明涉及生产由一般式（1）表示的钛配合物：（其中R1和R4各自独立地表示具有1-16个碳原子的烷基基团；R2和R3各自独立地表示氢原子或具有1-3个碳原子的烷基基团；R5表示具有1-16个碳原子的烷基基团，可能已被一个或多个氟原子取代），并使用该复合物生产含钛薄膜。
• TITANIUM COMPLEXES, PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF, TITANIUM -CONTAINING THIN FILMS, AND METHOD FOR FORMATION THEREOF
  申请人：Tosoh Corporation

  公开号：EP1947081B1

  公开（公告）日：2010-01-20