(dichloro)isobutylsilane | 18236-87-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: (dichloro)isobutylsilane
• 英文别名: Dichloro(2-methylpropyl)silane
• CAS: 18236-87-8
• 化学式: C₄H₁₀Cl₂Si
• 分子量: 157.115
• InChiKey: MYWFLJDFFCFHNT-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  120-125°C
• 密度：
  1.0009 g/cm3(Temp: 26 °C)
• 闪点：
  10°C (50°F)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.34
• 重原子数：
  7
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

安全信息

• 海关编码：
  2931900090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (dichloro)isobutylsilane 在 己二腈 作用下， 生成 异丁基三氯硅烷
  参考文献：
  名称：

  Catalytic disproportionation of alkyl(and alkenyl)dichlorosilanes

  摘要：

  DOI：

  10.1007/bf00912272
• 作为产物：
  描述：

  ISOBUTYLMAGNESIUM BROMIDE 在 三氯硅烷 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 反应 1.0h， 以43%的产率得到(dichloro)isobutylsilane
  参考文献：
  名称：

  对硅硫化合物化学的贡献：LV。等规异丁基（异丙氧基）硅烷硫醇。制备和光谱性质

  摘要：

  在Et 3 N存在下，异丁基（异丙氧基）甲硅烷基溴i-Bu n（i-PrO）3 - n SiBr（n = 0-3）与H 2 S反应生成相应的硅烷硫醇i-Bu n（ i-PrO）3 - n SiSH。随着电子负性i-PrO基团数目的变化，跃迁能σ→σ ★和SiS键的IP以及硫孤对的第一个IP不会显着变化。双异头效应似乎是i-Bu（i-PrO）2 SiSH和i-Bu（i-PrO）2 SiH反应性提高的原因。

  DOI：

  10.1016/0022-328x(89)85359-8

文献信息

• Enantioselective Si–H Insertion Reactions of Diarylcarbenes for the Synthesis of Silicon-Stereogenic Silanes
  作者：Jake R. Jagannathan、James C. Fettinger、Jared T. Shaw、Annaliese K. Franz

  DOI：10.1021/jacs.0c04533

  日期：2020.7.8

  silanes. Adding an ortho substituent on one phenyl ring of a prochiral diazo enhances enantioselectivity up to 95:5 er with yields up to 98 %. Using in situ IR spectroscopy, the impact of the off-cycle azine formation is supported based on the structural dependence for relative rates of diazo decomposition. A catalytic cycle is proposed with the Si-H insertion as the rate-determining step, supported by kinetic

  我们报告了第一个对映选择性、分子间二芳基卡宾插入 Si-H 键以合成硅立体硅烷的例子。Dirhodium (II) 羧酸盐使用衍生自重氮化合物的卡宾催化 Si-H 插入，其中使用前手性硅烷实现对映体富集的硅中心的选择性形成。使用对称和前手性重氮反应物评估了 14 种前手性硅烷，以产生总共 25 种新型硅烷。在前手性重氮的一个苯环上添加邻位取代基可提高对映选择性高达 95:5 er，产率高达 98%。使用原位红外光谱，基于重氮分解相对速率的结构依赖性，支持非循环吖嗪形成的影响。提出了以 Si-H 插入作为速率决定步骤的催化循环，由动力学同位素实验支持。展示了源自该方法的对映体富集硅烷的转化，包括选择性合成新型硅茚满。
• Direct synthesis of organodichlorosilanes by the reaction of metallic silicon, hydrogen chloride and alkene/alkyne and by the reaction of metallic silicon and alkyl chloride
  作者：Masaki Okamoto、Satoshi Onodera、Yuji Yamamoto、Eiichi Suzuki、Yoshio Ono

  DOI：10.1039/b007068h

  日期：——

  from silicon with alkyl chlorides, propyl and butyl chlorides. During the reaction the alkyl chloride is dehydrochlorinated over the surface of copper originating from the catalyst to afford hydrogen chloride and alkene. The hydrogen chloride formed participates in the formation of the silicon–hydrogen bond in alkyldichlorosilane, and the reaction of silicon, hydrogen chloride and alkene also causes

  二氯乙基硅烷 是通过金属硅的反应合成的， 氯化氢 和 乙烯 使用 铜（我），氯化 作为 催化剂，硅的转化率和对硅的选择性 二氯乙基硅烷分别是36％和47％。在较低的反应温度或较高的乙烯：氯化氢比例下，可获得较高的选择性，但硅转化率较低。硅碳键的形成是由于表面甲硅烷基中间体与乙烯。与之反应丙烯 代替 乙烯 给了 二氯异丙基硅烷 （选择性为22％）和 二氯正丙基硅烷（选择性8％）和氯硅烷。二氯异丙基硅烷的一部分是通过硅的反应形成的，氯化氢 和 异丙基氯 由盐酸氯化形成 丙烯。用于乙炔 代替 烯烃导致二氯乙烯基硅烷的形成，选择性为34％。烷基二氯硅烷也直接由硅与烷基氯化物制得，丙基和丁基氯。在反应过程中，烷基氯在源自铜的铜表面上脱氯化氢。催化剂 负担 氯化氢 和 烯烃。这氯化氢 形成的物质参与烷基二氯硅烷中硅氢键的形成，以及硅的反应， 氯化氢 和 烯烃还引起烷基二氯硅烷的形成。与之反应异丙基氯 给出了非常高的选择性（85％）
• Selective synthesis of mono-alkyldichlorosilanes via the reaction of olefins with dichlorosilane catalyzed by group VIII metal phosphine complexes
  作者：Hamao Watanabe、Masafumi Aoki、Noritaka Sakurai、Ken-ichi Watanabe、Yoichiro Nagai

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)89105-6

  日期：1978.11

  hydrosilylation of 1-hexene with dichlorosilane, many phosphine complexes of group VIII metals, Ni, Ru, Rh, PD and Pt, were found to be active catalysts, giving n-hexyldichlorosilane exclusively. Tris(triphenylphosphine)chlororhodium was found to be the most convenient and effective catalyst for the selective synthesis of mono-organodichlorosilanes.

  在1-己烯与二氯硅烷的硅氢加成反应中，发现许多VIII族金属的膦配合物（Ni，Ru，Rh，PD和Pt）是活性催化剂，仅生成正己基二氯硅烷。发现三（三苯基膦）氯铑是选择性合成单有机二氯硅烷的最方便和有效的催化剂。
• Metastable and collision-induced fragmentation studies and thermochemistry of isomeric C4H11Si+ ions and their adducts with C4H12Si silanes
  作者：Cornelis E. C. A. Hop、Dovas A. Saulys、Donald F. Gaines、Jan E. Szulejko、Terrance B. McMahon

  DOI：10.1002/1096-9888(200008)35:8<1003::aid-jms28>3.0.co;2-v

  日期：2000.8

  ethylsilylium ion. Similarly, all isomeric propyl- and butyl-containing silylium ions are found to lose C(2)H(4) by rearrangement preceding dissociation. In the CI source of the mass spectrometer many of the silylium ions are found to cluster with the parent neutral silane present in the source to give stable [M - H](+)+M adduct ions. The MI and CID spectra of these adduct ions were also obtained.

  记录并比较了所有同分异构的[C（4）H（12）Si-H]（+）离子的亚稳态离子（MI）和碰撞诱导解离（CID）质谱。氘标记实验表明，大多数前体会产生甲硅烷基离子。发现具有两个或多个甲基基团的甲硅烷基离子在异构化后会通过直接转移到适当的乙基甲硅烷基离子上而失去C（2）H（4）。同样，发现所有同分异构的含丙基和丁基的甲硅烷基离子会因解离前的重排而失去C（2）H（4）。在质谱仪的CI离子源中，发现许多硅离子与离子源中存在的母体中性硅烷聚集在一起，从而生成稳定的[M-H]（+）+ M加合物离子。还获得了这些加成离子的MI和CID光谱。在除i-BuSiH（3）以外的所有加合物的MI光谱中，仅观察到起始硅烷基离子。在CID条件下，甲硅烷基离子的产生占主导地位。氘标记研究表明，这种解离可能伴随一些重排，特别是对于i-BuSiH（3）的加合物。还进行了高压质谱聚类平衡测量，以确定甲硅烷基离子与中性硅烷结合
• Moore, Darren L.; Taylor, Mark P.; Timms, Peter L., Journal of the Chemical Society, Dalton Transactions, 2000, # 16, p. 2673 - 2678
  作者：Moore, Darren L.、Taylor, Mark P.、Timms, Peter L.

  DOI：——

  日期：——