{[Chloro(diphenyl)silyl]methanetriyl}tris(trimethylsilane) | 72190-75-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: {[Chloro(diphenyl)silyl]methanetriyl}tris(trimethylsilane)
• 英文别名: chloro-diphenyl-[tris(trimethylsilyl)methyl]silane
• CAS: 72190-75-1
• 化学式: C₂₂H₃₇ClSi₄
• 分子量: 449.331
• InChiKey: WKQNUQCHYGKZFZ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  436.0±45.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.96±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.36
• 重原子数：
  27
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.45
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  甲醇 、 {[Chloro(diphenyl)silyl]methanetriyl}tris(trimethylsilane) 在 sodium methylate 作用下， 反应 6.0h， 生成 bis(trimethylsilyl)(methoxydiphenylsilyl)methane
  参考文献：
  名称：

  三（三甲基甲硅烷基）甲基硅卤化物与甲醇甲醇钠的反应。硅烯烃中间体的概率

  摘要：

  化合物TsiSiR 2 X [Tsi ＝ Me 3 Si）3 C; R = Me，X = Cl，Br，I，或R = Ph，X = F，Cl，Br，I）]与沸腾的2 M MeONa-MeOH反应，得到（Me 3 Si）2 CHSiR 2类型的产物OMe。有人建议，通过消除，类似于该反应进行ë 2所抵销烷基卤化物，涉及的MeO的同步攻击-在我3的Si基团，X的解放- ，和形成（ME 3 Si）的2 CSiR 2。化合物TsiSiPhMeF TsiSiPhCl 2类似地反应，得到（Me 3 Si）2 CHSiPhMe（OMe）和（Me 3 Si）2 CHSiPh（OMe）2 [后者可能是通过溶剂化最初形成的（Me 3 Si）2 CHSiPhCl（OMe）]。化合物TsiSiMe 2 OMe和TsiSiMe 3不反应，而TsiSiMe 2 H给出TsiH。化合物TsiSiCl 3与0.1 M M

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(00)81064-5
• 作为产物：
  描述：

  Silane, [(iododiphenylsilyl)methylidyne]tris[trimethyl- 在 四氯化碳 作用下， 反应 2.0h， 以11%的产率得到{[Chloro(diphenyl)silyl]methanetriyl}tris(trimethylsilane)
  参考文献：
  名称：

  有机硅碘化物的光诱导反应

  摘要：

  紫外光照射（Me 3 Si）CSiPh 2 I在MeOH，nC 6 H 14，CCl 4 Et 2 O和PhoMe中的结果解释为阳离子以及自由基有机硅中间体的形成。

  DOI：

  10.1039/c39810000175

文献信息

• Preparation of tris(trimethylsilyl)methyl (“trisyl”) derivatives of silicon
  作者：Sujan S. Dua、Colin Eaborn、Duncan A.R. Harper、Steven P. Hopper、Kazem D. Safa、David R.M. Walton

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)87861-4

  日期：1979.9

  Treatment of (Me3Si)3CLi (“trisyl”lithium, TsiLi) with appropriate silicon halides has given a range of compounds of the type (Me3Si)3CSiRR′X; e.g., TsiSiCl3, TsiSiMeCl2, TsiSiMe2X (X = Cl, OMe), TsiSiPh2X (X = F, Cl, OMe), and TsiSiPhMeH. The trisyl group causes very large steric hindrance to nucleophilic displacements at the silicon to which it is attached, so that (unless one or more hydride ligands

  用适当的卤化硅处理（Me 3 Si）3 CLi（“三基”锂，TsiLi）产生了一系列类型为（Me 3 Si）3 CSiRR'X的化合物。例如，TsiSiCl 3，TsiSiMeCl 2，TsiSiMe 2 X（X = Cl，OMe），TsiSiPh 2 X（X = F，Cl，OMe）和TsiSiPhMeH。三基对与其连接的硅的亲核位移造成很大的空间位阻，因此（除非存在一个或多个氢化物配体）在硅上不会发生大多数常见的位移。但是，LiAlH 4可以将卤化物还原为氢化物，并且氢化物可以通过致电子剂在亲电置换中转化为卤化物。甚至一种氢化物配体的存在也显着降低了阻碍，因此，例如，TsiSiPhHI与回流的甲醇反应生成TsiSiPhH（OMe）。
• Photo-induced reactions of an organosilicon iodide
  作者：Colin Eaborn、Kazem D. Safa、Alfred Ritter、Werner Binder

  DOI：10.1039/c39810000175

  日期：——

  The results of u.v. irradiation of (Me3Si)CSiPh2I in MeOH, n-C6H14, CCl4 Et2O, and PhoMe are interpreted in terms of the formation of cationic as well as free-radical organosilicon intermediates.

  紫外光照射（Me 3 Si）CSiPh 2 I在MeOH，nC 6 H 14，CCl 4 Et 2 O和PhoMe中的结果解释为阳离子以及自由基有机硅中间体的形成。
• A novel 1,3-migration of a silyl group from carbon to oxygen in a silanolate ion
  作者：Robert Damrauer、Colin Eaborn、Duncan A. R. Happer、Abdulrahman I. Mansour

  DOI：10.1039/c39830000348

  日期：——

  The silanols (Me3Si)3CSiMe2OH, (Me3Si)2C(SiMePh2)(SiMe2OH), and (PhMe2Si)3C(SiMe2OH) undergo rearrengement in MeONa-MeOH to give (Me3Si)2CH(SiMe2OSiMe2), (Me3Si)2CH(SiMe2OSiMePh2), and (PhMe2Si)2CH(SiMe2OSiMe2Ph), respectively.

  硅烷醇（Me 3 Si）3 CSiMe 2 OH，（Me 3 Si）2 C（SiMePh 2）（SiMe 2 OH）和（PhMe 2Si）3 C（SiMe 2OH）在MeONa-MeOH中进行重烯化得到（Me 3Si）2 CH（SiMe 2 OSiMe 2），（Me 3Si）2 CH（SiMe 2 OSiMePh 2）和（PhMe 2 Si）2 CH（SiMe 2 OSiMe 2 Ph）。
• DUA S. S.; EABORN C.; HAPPER D. A. R.; HOPPER S. P.; SAFA K. D.; WALTON D+, J. ORGANOMETAL. CHEM., 1979, 178, NO 1, 75-82
  作者：DUA S. S.、 EABORN C.、 HAPPER D. A. R.、 HOPPER S. P.、 SAFA K. D.、 WALTON D+

  DOI：——

  日期：——
• EABORN C.; HAPPER D. A. R.; SAFA K. D., J. ORGANOMETAL. CHEM., 1980, 191, NO 2, 355-362
  作者：EABORN C.、 HAPPER D. A. R.、 SAFA K. D.

  DOI：——

  日期：——