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2-[4-(2,3-epoxypropoxy)phenyl]-2-4-[1,1-bis-[4-(2,3-epoxypropoxy)phenyl]ethylphenyl]propane | 115254-47-2

中文名称
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中文别名
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英文名称
2-[4-(2,3-epoxypropoxy)phenyl]-2-4-[1,1-bis-[4-(2,3-epoxypropoxy)phenyl]ethylphenyl]propane
英文别名
Oxirane, 2,2'-[[1-[4-[1-methyl-1-[4-(2-oxiranylmethoxy)phenyl]ethyl]phenyl]ethylidene]bis(4,1-phenyleneoxymethylene)]bis-;2-[[4-[2-[4-[1,1-bis[4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]ethyl]phenyl]propan-2-yl]phenoxy]methyl]oxirane
2-[4-(2,3-epoxypropoxy)phenyl]-2-4-[1,1-bis-[4-(2,3-epoxypropoxy)phenyl]ethylphenyl]propane化学式
CAS
115254-47-2
化学式
C38H40O6
mdl
——
分子量
592.732
InChiKey
TVPNSPVSCKWFEU-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    7.6
  • 重原子数:
    44
  • 可旋转键数:
    14
  • 环数:
    7.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.37
  • 拓扑面积:
    65.3
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    6

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    丙二醇甲醚1-硫代甘油2-[4-(2,3-epoxypropoxy)phenyl]-2-4-[1,1-bis-[4-(2,3-epoxypropoxy)phenyl]ethylphenyl]propane四正丁基溴化膦 作用下, 反应 24.0h, 生成 3-[3-[4-[2-[4-[1,1-Bis[4-[3-(2,3-dihydroxypropylsulfanyl)-2-hydroxypropoxy]phenyl]ethyl]phenyl]propan-2-yl]phenoxy]-2-hydroxypropyl]sulfanylpropane-1,2-diol
    参考文献:
    名称:
    [EN] COMPOSITION FOR FORMING PROTECTIVE FILM CONTAINING DIOL STRUCTURE
    [FR] COMPOSITION DESTINÉE À FORMER UN FILM PROTECTEUR CONTENANT UNE STRUCTURE DIOL
    [JA] ジオール構造を含む保護膜形成用組成物
    摘要:
    半導体基板加工時にウエットエッチング液に対する良好なマスク(保護)機能、低ドライエッチング速度を有し、さらに段差基板に対しても被覆性及び埋め込み性が良好で、埋め込み後の膜厚差が小さく、平坦な膜を形成し得る保護膜形成組成物及び該組成物を用いて製造した保護膜、レジスト下層膜、レジストパターン付き基板及び半導体装置の製造方法を提供すること。分子内に互いに隣接する2つの水酸基を少なくとも1組含む構造を末端に有する、分子量が1500以下の化合物、及び有機溶剤を含む、半導体用ウエットエッチング液に対する保護膜形成組成物であって、該組成物中に存在する粒子の、動的光散乱法による平均粒子径が3nm以下である、半導体用ウエットエッチング液に対する保護膜形成組成物、である。
    公开号:
    WO2021251481A1
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文献信息

  • AROMATIC AMINE COMPOUND, CURING AGENT FOR EPOXY COMPOUND, CURABLE COMPOSITION, CURED PRODUCT, METHOD FOR PRODUCING CURED PRODUCT, AND METHOD FOR PRODUCING AROMATIC AMINE COMPOUND
    申请人:TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
    公开号:US20210130284A1
    公开(公告)日:2021-05-06
    An aromatic amine compound capable of satisfactorily forming a cured product having exceptional alkali resistance by reaction with an epoxy compound; a curing agent for an epoxy compound, the curing agent including the aromatic amine compound; a curable composition including the curing agent for an epoxy compound; a cured product of the curable composition; a method for producing the cured product; and a method for producing the abovementioned aromatic amine compound. The aromatic amine compound has a structure such that a specific position in a central skeleton comprising a fused ring such as a fluorene ring is substituted with a side-chain group including two aromatic groups linked by a flexible bond such as an amide bond, at least one amino group is bonded to the end of the side-chain group, and the structure has no hydroxyl groups.
    一种芳香胺化合物,通过与环氧化合物反应能够满意地形成具有异常碱性抗性的固化产品;一种环氧化合物的固化剂,该固化剂包括芳香胺化合物;一种包括环氧化合物的固化剂的可固化组合物;可固化组合物的固化产品;生产所述固化产品的方法;以及生产上述芳香胺化合物的方法。该芳香胺化合物具有这样的结构,即中心骨架中的特定位置包括类似于环的融合环,该位置被取代为包括通过柔性键(如酰胺键)连接的两个芳香基的侧链基团,至少一个基固定在侧链基团的末端,并且该结构不含羟基。
  • RESIN COMPOSITION
    申请人:TORAY INDUSTRIES, INC.
    公开号:US20190241716A1
    公开(公告)日:2019-08-08
    The present invention provides a resin composition having a high sensitivity and serving to produce a cured film with a low water absorption rate. The resin composition includes: (a) an alkali-soluble resin and (b1) an amido-phenol compound containing a phenolic hydroxyl group in which a monovalent group as represented by the undermentioned general formula (1) is located at the ortho position and/or (b2) an aromatic amido acid compound containing a carboxy group in which a monovalent group as represented by the undermentioned general formula (2) is located at the ortho position: wherein in general formula (1), X is a monovalent organic group having an alkyl group that contains 2 to 20 carbon atoms and bonds directly to the carbonyl carbon in general formula (1) or a monovalent organic group that has —(YO) n —; and in general formula (2), U is a monovalent organic group that has an alkyl group containing 2 to 20 carbon atoms and bonding directly to the amide nitrogen in general formula (2) or a monovalent organic group that has —(YO) n —; wherein Y is an alkylene group containing 1 to 10 carbon atoms and n is an integer of 1 to 20.
    本发明提供了一种树脂组合物,具有高灵敏度,并用于生产具有低吸率的固化膜。该树脂组合物包括:(a)可溶于碱的树脂和(b1)含有羟基的酰胺化合物,其中羟基化合物中的单价基在邻位上,和/或(b2)含有羧基的芳香酰胺酸化合物,其中羧基化合物中的单价基在邻位上,其通式如下所示:在通式(1)中,X是一个单价有机基,具有含有2到20个碳原子的烷基,并直接连接到通式(1)中的羰基碳,或具有—(YO)n—的单价有机基;在通式(2)中,U是一个单价有机基,具有含有2到20个碳原子的烷基,并直接连接到通式(2)中的酰胺氮,或具有—(YO)n—的单价有机基;其中Y是含有1到10个碳原子的烷基,n是1到20的整数。
  • Inkjet ink
    申请人:Satou Hiroyuki
    公开号:US20080085361A1
    公开(公告)日:2008-04-10
    The invention relates to a method for manufacturing an inkjet ink including a polyamic acid (A), including a step of at least reacting one or more compounds selected from the group of a monoamine (a3) and a compound having one acid anhydride group (a4) with a compound having two or more acid anhydride groups (a1) and a diamine (a2).
    该发明涉及一种制造喷墨墨的方法,包括至少将来自单胺(a3)和具有一个酸酐基团(a4)的化合物组合的群体中选择的一个或多个化合物与具有两个或更多酸酐基团(a1)和二胺(a2)反应的聚酰胺酸(A)。
  • NOVEL COMPOUND, POLYIMIDE RESIN AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING METHOD AND METHOD OF FORMING CURED FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, SURFACE PROTECTIVE FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT
    申请人:International Business Machines Corporation
    公开号:US20210317270A1
    公开(公告)日:2021-10-14
    Provided is a compound that can be used as a base resin for a photosensitive resin composition. The photosensitive resin can form a fine pattern and can achieve high resolution without impairing mechanical strength and solubility. The compound is represented by the general formula (1): wherein Z represents a linear, branched or cyclic divalent hydrocarbon group having 2 to 30 carbon atoms; X 1 to X 3 represent any of —CO 2 —, —CONR X1 —, —O—, —NR X1 —, —S—, —SO 2 —, —SO 3 — and —SO 2 NR X1 — and may be the same as or different from each other, provided that R X1 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms; Ar represents a divalent aromatic group having 2 to 30 carbon atoms; L 1 and L 2 independently represent a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms; and x and y are each independently 0 or 1.
    提供的是一种可以用作光敏树脂组合物的基树脂的化合物。这种光敏树脂可以形成精细图案,并且可以在不影响机械强度和溶解性的情况下实现高分辨率。该化合物由通式(1)表示:其中Z代表具有2到30个碳原子的线性、支链或环状二价碳氢基团;X1到X3代表任何一种—CO2—、—CONRX1—、—O—、—NRX1—、—S—、—SO2—、—SO3—和—SO2NRX1—中的一种,并且它们可以相同也可以不同,只要RX1是氢原子或具有1到30个碳原子的一价碳氢基团;Ar代表具有2到30个碳原子的二价芳香基团;L1和L2分别代表具有1到30个碳原子的二价碳氢基团;x和y分别独立地为0或1。
  • DIAMINE COMPOUND, AND HEAT-RESISTANT RESIN OR HEAT-RESISTANT RESIN PRECURSOR USING SAME
    申请人:TORAY INDUSTRIES, INC.
    公开号:US20170334837A1
    公开(公告)日:2017-11-23
    Provided are a photosensitive resin composition which has excellent pattern processabilities (high sensitivity and high resolution) and is excellent in chemical resistance and thermal resistance after thermally treated; a heat-resistant resin or heat-resistant resin precursor used for the composition; and a diamine compound which is a raw material of the resin and the precursor. The diamine compound is a diamine compound represented by a general formula (1).
    提供了一种具有优异图案加工性(高灵敏度和高分辨率)且在热处理后具有优异化学耐性和热耐性的光敏树脂组合物;用于该组合物的耐热树脂或耐热树脂前体;以及作为树脂和前体原料的二胺化合物。该二胺化合物是由通式(1)表示的二胺化合物。
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