1,4-oxathiane-2-yl-methacrylate | 1184819-83-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 氧硫烷类
• 英文名称: 1,4-oxathiane-2-yl-methacrylate
• 英文别名: 1,4-Oxathian-2-yl 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 1184819-83-7
• 化学式: C₈H₁₂O₃S
• 分子量: 188.247
• InChiKey: OYGHFIAJTIEFNB-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  279.9±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.16±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.5
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.62
• 拓扑面积：
  60.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,4-oxathiane-2-yl-methacrylate 在 甲烷磺酸 作用下， 以 tetrachloroethane, 1,1,2,2-d2 为溶剂， 生成 甲基丙烯酸
  参考文献：
  名称：

  ACRYLATE ESTER DERIVATIVES AND POLYMER COMPOUNDS

  摘要：

  一种化学式为(II-1)的环状醇：其中：R2、R3和R4分别独立地是氢原子、由1至6个碳原子组成的直链烷基基团、由3至6个碳原子组成的支链烷基基团或由3至6个碳原子组成的环状烷基基团；或者R2和R3或R3和R4结合形成由3至6个碳原子组成的亚烯基基团；m为1或2；R5、R6、R7、R8、R9和R10分别独立地是氢原子、由1至6个碳原子组成的直链烷基基团、由3至6个碳原子组成的支链烷基基团或由3至6个碳原子组成的环状烷基基团；A为氧原子；B为氧原子或硫原子。此外，一种制备化学式(II-1)的环状醇的方法。

  公开号：

  US20120316349A1
• 作为产物：
  描述：

  1,4-oxathiane-2-ol 、 甲基丙烯酰氯 在 吩噻嗪 、 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 1.5h， 以81%的产率得到1,4-oxathiane-2-yl-methacrylate
  参考文献：
  名称：

  ACRYLATE ESTER DERIVATIVES AND POLYMER COMPOUNDS

  摘要：

  一种化学式为(II-1)的环状醇：其中：R2、R3和R4分别独立地是氢原子、由1至6个碳原子组成的直链烷基基团、由3至6个碳原子组成的支链烷基基团或由3至6个碳原子组成的环状烷基基团；或者R2和R3或R3和R4结合形成由3至6个碳原子组成的亚烯基基团；m为1或2；R5、R6、R7、R8、R9和R10分别独立地是氢原子、由1至6个碳原子组成的直链烷基基团、由3至6个碳原子组成的支链烷基基团或由3至6个碳原子组成的环状烷基基团；A为氧原子；B为氧原子或硫原子。此外，一种制备化学式(II-1)的环状醇的方法。

  公开号：

  US20120316349A1

文献信息

• SALT, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160052877A1

  公开（公告）日：2016-02-25

  A salt represented by the formula (I); wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, L b1 represents a single bond or a divalent C 1 to C 24 saturated hydrocarbon groupwhere a methylene group may be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group and where a hydrogen atom may be replaced by a hydroxyl group or a fluorine atom, and Y represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or an optionally substituted C 3 to C 18 alicyclic hydrocarbon groupwhere a methylene group may be replaced by an oxygen atom, a carbonyl group or a sulfonyl group; and Ar represents a divalent C 6 to C 20 aromatic hydrocarbon group, and Z + represents an organic sulfonium cation or an organic iodonium cation.

  根据您的要求，以下是化合物的中文翻译： 由公式(I)表示的盐； 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1至C6的过氟代烷基团，Lb1代表一个单键或一个二价的C1至C24的饱和烃基团，其中甲基烯基团可以被一个氧原子或一个羰基团所取代，并且其中氢原子可以被一个羟基或一个氟原子所取代，并且Y代表一个氢原子，一个氟原子，或一个可选地被取代的C3至C18的芳环烃基团，其中甲基烯基团可以被一个氧原子，一个羰基团或一个磺酰基团所取代；并且Ar代表一个二价的C6至C20的芳香烃基团，以及Z+代表一个有机硫正离子或一个有机碘正离子。
• SALT, ACID GENERATOR, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160334702A1

  公开（公告）日：2016-11-17

  A salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 independently represent a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, R 1 and R 2 in each occurrence independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group, z represents an integer of 0 to 6, X 1 represents *—CO—O—, *—O—CO— or —O—, * represents a binding position to C(R 1 )(R 2 ) or C(Q 1 )(Q 2 ), A 1 represents a C 4 to C 24 hydrocarbon group having a C 4 to C 18 divalent alicyclic hydrocarbon moiety, A 2 represents a C 2 to C 12 divalent hydrocarbon group, R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom or a C 1 to C 6 monovalent saturated hydrocarbon group, R 5 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a C 1 to C 6 alkyl group where a hydrogen atom may be replaced by a fluorine atom, and Z + represents an organic cation.

  公式(I)表示的盐，其中Q1和Q2独立地代表一个氟原子或一个C1至C6的过氟烷基团，R1和R2每次出现独立地代表一个氢原子、一个氟原子或一个C1至C6的过氟烷基团，z代表0到6的整数，X1代表*—CO—O—，*—O—CO—或—O—，*代表与C(R1)(R2)或C(Q1)(Q2)的连接位置，A1代表具有C4至C18二价脂环烃基团的C4至C24的烃基团，A2代表C2至C12的二价烃基团，R3和R4独立地代表一个氢原子或一个C1至C6的一价饱和烃基团，R5代表一个氢原子、一个氟原子或一个C1至C6的烷基团，其中氢原子可以被氟原子替换，而Z+代表一个有机阳离子。
• SALT, ACID GENERATOR, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160200702A1

  公开（公告）日：2016-07-14

  A salt represented by the formula (I): wherein R 1 represents a C1 to C12 alkyl group in which a methylene group can be replaced by an oxygen atom or a carbonyl group; Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1 to C6 perfluoroalkyl group; A 1 represents a lactone ring-containing group which has 4 to 24 carbon atoms; R 2 represents an acid-labile group; and “m” represents an integer of 0 to 3.

  由公式(I)表示的盐： 其中 R1 代表一个C1至C12的烷基，其中一个亚甲基基团可以被一个氧原子或一个羰基团所取代； Q1 和 Q2 各自独立地代表一个氟原子或一个C1至C6的全氟烷基团； A1 代表一个含有内酯环的基团，该基团有4到24个碳原子； R2 代表一个酸不稳定的基团；并且 “m”代表一个0到3之间的整数。
• COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160130210A1

  公开（公告）日：2016-05-12

  A compound represented by formula (I), a resin including a structural unit derived from the compound and a resist composition including the resin: wherein R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C 1 to C 6 alkyl group in which a hydrogen atom may be replaced by a halogen atom, R 2 represents a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group or *—CHR f1 R f2 , * represents a binding site to a carbonyl group, R f1 and R f2 each independently represent a C 1 to C 4 perfluoroalkyl group or R f1 and R f2 may be bonded together with a carbon atom bonded thereto to form a ring, A 1 represents a single bond, a C 1 to C 6 alkanediyl group or **-A 3 -X 1 -(A 4 -X 2 ) a -(A 5 ) b -, ** represents a binding site to an oxygen atom, A 2 , A 3 , A 4 and A 5 each independently represent a C 1 to C 6 alkanediyl group, X 1 and X 2 each independently represent —O—, —CO—O— or —O—CO—, a and b each represent 0 or 1, and W 1 represents a C 5 to C 18 divalent alicyclic hydrocarbon group.

  化合物的化学式为（I），包括从该化合物衍生的结构单元的树脂和包括该树脂的抗蚀组合物： 其中R 1 代表氢原子、卤素原子或C 1 到C 6 烷基基团，其中氢原子可以被卤素原子取代，R 2 代表C 1 到C 6 全氟烷基基团或*—CHR f1 R f2 ，*代表与羰基结合位点，R f1 和R f2 各自独立代表C 1 到C 4 全氟烷基基团或R f1 和R f2 可以与结合在一起的碳原子形成环，A 1 代表单键，C 1 到C 6 烷二基基团或**-A 3 -X 1 -(A 4 -X 2 ) a -(A 5 ) b -，**代表与氧原子结合位点，A 2 、A 3 、A 4 和A 5 各自独立代表C 1 到C 6 烷二基基团，X 1 和X 2 各自独立代表—O—、—CO—O—或—O—CO—，a和b各自代表0或1，W 1 代表C 5 到C 18 的二价脂环烃基团。
• PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20160195809A1

  公开（公告）日：2016-07-07

  A photoresist composition comprising a resin having an acid-labile group; a salt represented by the formula (I); and a salt represented by the formula (B1).

  一种包括具有酸敏基团的树脂、由化学式（I）表示的盐以及由化学式（B1）表示的盐的光刻胶组合物。