sodium 1,1,2,2,3,3-hexafluoro-3-(decahydroisoquinoline-2-sulfonyl)propane-1-sulfonate | 1247773-27-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 哌啶类
• 英文名称: sodium 1,1,2,2,3,3-hexafluoro-3-(decahydroisoquinoline-2-sulfonyl)propane-1-sulfonate
• 英文别名: sodium;3-(3,4,4a,5,6,7,8,8a-octahydro-1H-isoquinolin-2-ylsulfonyl)-1,1,2,2,3,3-hexafluoropropane-1-sulfonate
• CAS: 1247773-27-8
• 化学式: C₁₂H₁₆F₆NO₅S₂*Na
• 分子量: 455.375
• InChiKey: BTPQICOYMADDPS-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.8
• 重原子数：
  27
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  111
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  12

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  四甲基亚砜 、 1-(cyclohexylmethoxy)naphthalene 、 sodium 1,1,2,2,3,3-hexafluoro-3-(decahydroisoquinoline-2-sulfonyl)propane-1-sulfonate 在 Eaton′s Reagent 作用下， 以 氯仿 、 水 为溶剂， 生成 1-(4-(cyclohexylmethoxy)naphthalen-1-yl)tetrahydro-1H-thiophen-1-ium 1,1,2,2,3,3-hexafluoro-3-((octahydroisoquinolin-2(1H)-yl)sulfonyl)propane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  Actinic-Ray- or Radiation-Sensitive Resin Composition, Compound and Method of Forming Pattern Using the Composition

  摘要：

  根据一种实施例，一种感光射线或辐射敏感的树脂组合物包括以下任何一种化合物（A），该化合物在暴露于感光射线或辐射时会产生酸和树脂（B），其溶解速度在碱性显影剂的作用下会增加。 （通式（I）中使用的字符具有描述中提到的含义。）

  公开号：

  US20120237874A1

文献信息

• Actinic-Ray- or Radiation-Sensitive Resin Composition, Compound and Method of Forming Pattern Using the Composition
  申请人：Yamaguchi Shuhei

  公开号：US20120237874A1

  公开（公告）日：2012-09-20

  According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes any of the compounds (A) of general formula (I) below that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid and a resin (B) whose rate of dissolution into an alkali developer is increased by the action of an acid. (The characters used in general formula (I) have the meanings mentioned in the description.)

  根据一种实施例，一种感光射线或辐射敏感的树脂组合物包括以下任何一种化合物（A），该化合物在暴露于感光射线或辐射时会产生酸和树脂（B），其溶解速度在碱性显影剂的作用下会增加。 （通式（I）中使用的字符具有描述中提到的含义。）
• Actinic ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic ray- or radiation-sensitive film and method of forming pattern
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US09454079B2

  公开（公告）日：2016-09-27

  According to one embodiment, there is provided an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition including (A) a compound represented by a general formula (1) below that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation, and (B) a resin.

  根据一种实施例，提供了一种光致射线或辐射敏感的树脂组合物，包括(A)一种化合物，该化合物由下列通式（1）表示，当暴露于光致射线或辐射时会产生酸，和(B)一种树脂。
• ACTINIC RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY- OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND METHOD OF FORMING PATTERN
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP2776889B1

  公开（公告）日：2019-04-03
• US9454079B2
  申请人：——

  公开号：US9454079B2

  公开（公告）日：2016-09-27
• TWI579263
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——