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dichloromethylvinylsilane

中文名称
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中文别名
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英文名称
dichloromethylvinylsilane
英文别名
Dichloromethyl(ethenyl)silane;dichloromethyl(ethenyl)silane
dichloromethylvinylsilane化学式
CAS
——
化学式
C3H6Cl2Si
mdl
——
分子量
141.072
InChiKey
DYIHHFHPHORINA-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.06
  • 重原子数:
    6
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.33
  • 拓扑面积:
    0
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    0

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    dichloromethylvinylsilane四甲基环戊二烯锂四氢呋喃 为溶剂, 以83%的产率得到Chloro-methyl-(2,3,4,5-tetramethyl-cyclopenta-2,4-dienyl)-vinyl-silane
    参考文献:
    名称:
    用于乙烯/1-辛烯共聚的[1,2]氮杂硅烷骨架的“受限几何”钛配合物的制备
    摘要:
    Me2Si 桥接的 ansa-Cp/酰胺半金属茂 [Me2Si(η5-Me4C5)(NtBu)]TiCl2,称为“受限几何催化剂 (CGC)”,是一种代表性的均相齐格勒催化剂。制备了具有 [1,2] 氮杂硅烷骨架的 CGC 衍生物,其中酰胺烷基取代基通过 Si 桥连接,并研究了这些物种的催化性能。Me4C5HSi(Me)(CH2CH=CH2)-NH(C(R)(R')CH=CH2)(R、R' = H 或甲基;Me4C5H = 四甲基环戊二烯基)在用Schrock 的 Mo 催化剂提供含有六元环骨架的 -Si(Me4C5H)(Me)CH2CH=CHC(R)(R')NH-。使用RCM的前体和产物,各种CGC衍生物,即[-Si(η5-Me4C5)(Me)CH2CH=CHC(R)(H)N-]TiMe2 (13, R = H; 15, R = Me), [-Si(η5-Me4C5)(Me)CH2CH2CH2CH2N]TiMe2
    DOI:
    10.3390/molecules22020258
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文献信息

  • Synthesis of trivalent phosphorus derivatives by light-induced dibromophosphination of akenes
    作者:M. N. Krivchun、A. V. Khramchikhin
    DOI:10.1134/s1070363217070131
    日期:2017.7
    Light-induced dibromophosphination of alkenes was studied. Dehydrobromination of the synthesized bromoalkylphosphonous dibromides gave the corresponding dibromophosphinoalkenes which were converted into alkenylphosphonous acids and their cyclic esters, benzo[1,3,2]dioxaphospholes.
    研究了光诱导的烯烃的二溴代磷酸化。合成的溴代烷基膦酸二溴化物的脱氢溴化反应生成相应的二溴膦基烯烃,将其转化为烯基膦酸及其环状酯苯并[1,3,2]二恶唑磷。
  • Copper‐Promoted Formation of Vinylsiloxanes
    作者:Marietta Białoń、Błażej Dziuk、Volodymyr Olijnyk
    DOI:10.1002/ejic.202000134
    日期:2020.5.14
    copper(I) oxide are reported. The process is catalyzed by HCl which can be in situ generated via hydrolysis of chlorosilanes by traces of water present in the system. An appearance of olefin/CuCl π‐intermediates can provide a stereoselectivity of the process and alter the pathway of siloxanes formation employing Cu2O as the source of oxygen. It was also shown that acetonitrile may be available as a solvent
    报道了氯乙烯基硅烷与氧化铜(I)的复分解反应。该过程由HCl催化,HCl可以通过系统中存在的痕量水通过氯硅烷的水解原位产生。烯烃/ CuClπ-中间体的出现可以提供该过程的立体选择性,并改变使用Cu 2 O作为氧源的硅氧烷形成的途径。还显示乙腈可作为溶剂用于构建具有较大制备能力的体系,包括那些基于在硅氧烷合成中使用大气氧的体系。
  • Asymmetric bidentate silanes
    申请人:Hewlett-Packard Company
    公开号:US05869724A1
    公开(公告)日:1999-02-09
    The present invention provides asymmetric bidentate silane reagents from modifying the surface of liquid chromatography supports, the supports and methods of making and using the same. When bonded to the surface of a support material, the resulting modified support material provides improved properties, such as better separations and more stable support materials, especially when used in liquid chromatography. These bidentate silanes have the general structure: R.sub.1 SiMe(NMe.sub.2)--(CH.sub.2).sub.n --SiMeR.sub.2 (NMe.sub.2). R.sub.1 is an alkyl group having from 1 to 30 carbon atoms, and R.sub.2 is an alkyl group having from 8 to 18 carbon atoms. R.sub.1 is a different alkyl group than R.sub.2. Me is a methyl group, and n has a value 2 or 3. In certain embodiments, R.sub.2 includes at least one functional group. When reacted with a silica surface, the resulting modified surface has a structure: PSiO--\x9bR.sub.1 SiMe--(CH.sub.2).sub.n --SiMeR!--OSiP. PSiO is a surface reacted silica.
    本发明提供了一种不对称双齿硅烷试剂,通过修饰液相色谱支撑体的表面来制备这些支撑体,并提供了制备和使用这些支撑体的方法。当与支撑材料的表面键合时,所得到的改性支撑材料具有更好的性能,例如更好的分离和更稳定的支撑材料,特别是在液相色谱中使用时。这些双齿硅烷具有一般结构:R.sub.1 SiMe(NMe.sub.2)--(CH.sub.2).sub.n--SiMeR.sub.2(NMe.sub.2)。其中,R.sub.1是具有1到30个碳原子的烷基,R.sub.2是具有8到18个碳原子的烷基,R.sub.1与R.sub.2是不同的烷基。Me是甲基基团,n的值为2或3。在某些实施例中,R.sub.2包括至少一个功能基团。当与硅胶表面反应时,所得到的改性表面具有结构:PSiO--\x9bR.sub.1 SiMe--(CH.sub.2).sub.n--SiMeR!--OSiP。其中,PSiO是表面反应的硅胶。
  • EP1596193
    申请人:——
    公开号:——
    公开(公告)日:——
  • JP2023/59377
    申请人:——
    公开号:——
    公开(公告)日:——
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