triethyldimethyldisilane | 31732-54-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: triethyldimethyldisilane
• 英文别名: 1,1,1-Triethyl-2,2-dimethyldisilane；dimethylsilyl(triethyl)silane
• CAS: 31732-54-4
• 化学式: C₈H₂₂Si₂
• 分子量: 174.434
• InChiKey: DEDBCSLBTIIYQL-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  171.1±9.0 °C(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.06
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  Et3Si-SiMe2Ph 在 盐酸 、 lithium aluminium tetrahydride 、 三氯化铝 作用下， 生成 triethyldimethyldisilane
  参考文献：
  名称：

  聚合有机硅系统。二十九。聚[（二亚硅烷基）低聚亚苯基]的热学性质

  摘要：

  各种取代的聚[（二亚硅烷基）低聚亚苯基]，[（SiR 1 R 2 SiR 1 R 2）（p -C 6 H 4）m ] n（R 1 = R 2 = Me，R 1 = R 2 = Et，R 1 = Ph，R 2 = Me，m= 1–4）进行了调查。在20–1000°C范围内对聚合物进行热重分析表明，从约400°C开始，重量迅速下降。基于聚合物的初始重量，聚合物在1000°C时的总重量损失为54.5-75.5％。对聚合物进行热解得到的挥发性产物的GC-MS分析，其中R 1 = R 2 = Me，m = 2，R 1 = R 2 = Et，m = 1–4在500°C时表明形成了硅Si-Si和Si-亚苯基键断裂产生的含低聚物，主要是。H（C 6 H 4）l H（l在m = 3和4的聚合物的热解中也观察到了= 1–4）。还使用1,2-二苯基四甲基二硅烷检查了聚合物降解的模型反应。

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(98)00702-5

文献信息

• Photochemical reactions of 2-(pentamethyldisilanyl)furan and 2-(pentamethyldigermanyl)furan. Formation of a radical pair
  作者：Kunio Mochida、Kohichi Kimijima、Masanobu Wakasa、Hisaharu Hayashi

  DOI：10.1016/0022-328x(94)87043-8

  日期：1994.2

  Photochemical reactions of 2-(pentamethyldisilanyl)furan and 2-(pentamethyldigermanyl)furan have been investigated by chemical trapping experiments and laser flash-photolysis. On irradiation, the furylated catenates of Group 14 elements undergo silicon-silicon σ bond and germanium-germanium σ bond homolysis to give a pair of silyl radicals and germyl radicals, respectively. In CCl4, these radicals

  通过化学捕获实验和激光闪光光解法研究了2-（五甲基二硅烷基）呋喃和2-（五甲基二硬脂基）呋喃的光化学反应。辐射时，第14组元素的糠基化链状酸酯均经历硅-硅σ键和锗-锗σ键均溶，分别得到一对甲硅烷基和胚芽自由基。在CCl 4中，这些自由基通过提取氯原子而转化为相应的氯化物。在非卤代溶剂（环己烷和其他烃类）中，甲硅烷基自由基发生歧化，以甲硅烷和甲硅烷为主要产物。三甲基锗烷基自由基主要在ipso上偶联成对基团的呋喃基的-位以产生相应的双自由基。该双自由基经历了二价物质二甲基亚锗烯的消除，同时形成了2-（三甲基锗烷基）呋喃。
• Dimethylsilylene: trisilane and a geminal diazide as new photochemical precursors. Evidence for an absorption maximum near 450 nm
  作者：Hrvoj Vancik、Gerhard Raabe、Michael J. Michalczyk、Robert West、Josef Michl

  DOI：10.1021/ja00299a067

  日期：1985.6

  Le diazidodimethylsilane et le diphenyl-1,3 hexamethyltrisilane sont consideres comme de nouveaux precurseurs du dimethylsilylene

  Le diazido二甲基硅烷 et le diphenyl-1,3 hexamethyltrisia sont comme de nouveaux precurseurs du dimethylsilylene
• Alkali metal promoted transfer of dimethylsilylene from dodecamethylcyclohexasilane to silanes and dienes
  作者：Robert T. Conlin、Laurie L. Peterson

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)89218-9

  日期：1982.7

  Addition of sodium/potassium alloy to THF solutions containing dodecamethylcyclohexasilane and a diene or a silane, affords silacyclopentenes and disilanes, respectively.

  将钠/钾合金添加到含有十二甲基环己硅烷和二烯或硅烷的THF溶液中，分别得到硅杂环戊烯和乙硅烷。
• Insertion of dimethylsilylene into the sulphur—hydrogen bond of trialkoxysilanethiols
  作者：S. Konieczny、K. Wrzesień、W. Wojnowski

  DOI：10.1016/0022-328x(93)80036-b

  日期：1993.3

  The first example of silylene insertion into a SH bond in solution is described. The trialkoxysilanethiols, significantly more acidic than carbon thiols, were found to be efficient trapping agents for photochemically-generated dimethylsilylene. Chemical evidence for insertion products is presented. A surprisingly high yield of products of insertion of more than one Me2Si unit was observed. In contrast

  描述了将亚甲硅烷基插入溶液中的SH键的第一个例子。发现三烯氧基硅烷硫醇比碳硫醇的酸性强得多，是光化学生成的二甲基亚甲硅烷基的有效捕集剂。提供了插入产品的化学证据。观察到插入一个以上Me 2 Si单元的产物惊人的高产率。相反，当使用烷基硫醇和苯硫酚时，没有发现正式的插入产物。提出了一种插入反应的机理，该反应涉及硫孤电子对与空的亚甲硅烷基p轨道的初始相互作用，然后发生质子移位，并受到EHT和从头算的支持。 硫醇和硅烷硫醇的轨道相互作用和去质子能的计算。
• Syntheses of chalcogen containing silyl- and germyl-mercury compounds
  作者：E.N. Gladyshev、N.S. Vyazankin、V.S. Andreevichev、A.A. Klimov、G.A. Razuvaev

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)88008-0

  日期：1971.5