(diphenyl)fluorosilane | 68260-14-0

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属盐
• 英文名称: (diphenyl)fluorosilane
• 英文别名: (tris(trimethylsilyl)methyl)(diphenyl)fluorosilane；Silane, [(fluorodiphenylsilyl)methylidyne]tris[trimethyl-；fluoro-diphenyl-[tris(trimethylsilyl)methyl]silane
• CAS: 68260-14-0
• 化学式: C₂₂H₃₇FSi₄
• 分子量: 432.876
• InChiKey: NIZZPCDZOKJJSG-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  140 °C(Solv: ethanol (64-17-5))
• 沸点：
  412.1±45.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.93±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.09
• 重原子数：
  27
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.45
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (diphenyl)fluorosilane 在 lithium aluminium tetrahydride 、 一氯化碘 作用下， 以 四氢呋喃 、 四氯化碳 、 乙醚 为溶剂， 生成 Silane, [(iododiphenylsilyl)methylidyne]tris[trimethyl-
  参考文献：
  名称：

  硅的三（三甲基硅烷基）甲基（“三烷基”）衍生物的制备

  摘要：

  用适当的卤化硅处理（Me 3 Si）3 CLi（“三基”锂，TsiLi）产生了一系列类型为（Me 3 Si）3 CSiRR'X的化合物。例如，TsiSiCl 3，TsiSiMeCl 2，TsiSiMe 2 X（X = Cl，OMe），TsiSiPh 2 X（X = F，Cl，OMe）和TsiSiPhMeH。三基对与其连接的硅的亲核位移造成很大的空间位阻，因此（除非存在一个或多个氢化物配体）在硅上不会发生大多数常见的位移。但是，LiAlH 4可以将卤化物还原为氢化物，并且氢化物可以通过致电子剂在亲电置换中转化为卤化物。甚至一种氢化物配体的存在也显着降低了阻碍，因此，例如，TsiSiPhHI与回流的甲醇反应生成TsiSiPhH（OMe）。

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(00)87861-4
• 作为产物：
  描述：

  三（三甲代甲硅烷基）甲烷 、 二苯基二氟硅烷 生成 (diphenyl)fluorosilane
  参考文献：
  名称：

  硅的三（三甲基硅烷基）甲基（“三烷基”）衍生物的制备

  摘要：

  用适当的卤化硅处理（Me 3 Si）3 CLi（“三基”锂，TsiLi）产生了一系列类型为（Me 3 Si）3 CSiRR'X的化合物。例如，TsiSiCl 3，TsiSiMeCl 2，TsiSiMe 2 X（X = Cl，OMe），TsiSiPh 2 X（X = F，Cl，OMe）和TsiSiPhMeH。三基对与其连接的硅的亲核位移造成很大的空间位阻，因此（除非存在一个或多个氢化物配体）在硅上不会发生大多数常见的位移。但是，LiAlH 4可以将卤化物还原为氢化物，并且氢化物可以通过致电子剂在亲电置换中转化为卤化物。甚至一种氢化物配体的存在也显着降低了阻碍，因此，例如，TsiSiPhHI与回流的甲醇反应生成TsiSiPhH（OMe）。

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(00)87861-4

文献信息

• Reaction of tris(trimethylsilyl)methylsilicon halides with methanolic sodium methoxide. Probability of sila-olefin intermediates
  作者：Colin Eaborn、Duncan A.R Happer、Kazem D Safa

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)81064-5

  日期：1980.6

  compounds TsiSiR2X [Tsi = Me3Si)3C; R = Me, X = Cl, Br, I, or R = Ph, X = F, Cl, Br, I)] react with boiling 2 M MeONa-MeOH to give products of the type (Me3Si)2CHSiR2OMe. It is suggested that the reaction proceeds through an elimination, analogous to E2 eliminations of alkyl halides, involving synchronous attack of MeO− at an Me3Si group, liberation of X−, and formation of (Me3Si)2CSiR2. The compounds

  化合物TsiSiR 2 X [Tsi ＝ Me 3 Si）3 C; R = Me，X = Cl，Br，I，或R = Ph，X = F，Cl，Br，I）]与沸腾的2 M MeONa-MeOH反应，得到（Me 3 Si）2 CHSiR 2类型的产物OMe。有人建议，通过消除，类似于该反应进行ë 2所抵销烷基卤化物，涉及的MeO的同步攻击-在我3的Si基团，X的解放- ，和形成（ME 3 Si）的2 CSiR 2。化合物TsiSiPhMeF TsiSiPhCl 2类似地反应，得到（Me 3 Si）2 CHSiPhMe（OMe）和（Me 3 Si）2 CHSiPh（OMe）2 [后者可能是通过溶剂化最初形成的（Me 3 Si）2 CHSiPhCl（OMe）]。化合物TsiSiMe 2 OMe和TsiSiMe 3不反应，而TsiSiMe 2 H给出TsiH。化合物TsiSiCl 3与0.1 M M
• Thermolysis of [tris(trimethylsilyl)methyl](diphenyl)fluorosilane. Isomerization of a sila-olefin intermediate
  作者：Colin Eaborn、Duncan A.R. Happer、Peter B. Hitchcock、Steven P. Hopper、Kazem D. Safa、Stephen S. Washburne、David R.M. Walton

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)82411-0

  日期：1980.3

  The compound (Me3Si)3CSiPh2F loses Me3SiF under reflux or on passage through a tube at 450°C to give three products, A, B, and C, in approximately 20/20/60 ratio. Products A and B, which are solids, were shown by X-ray crystallographic analysis to be the diastereoisomeric forms of 1-dimethylsila-2-trimethylsilyl-3-[(methyl)(phenyl)sila]indane. From its mass and 1H NMR spectra, C (a liquid) was tentatively

  化合物（Me 3 Si）3 CSiPh 2 F在回流下或在450°C下通过管时失去Me 3 SiF，从而以约20/20/60的比例得到三种产物A，B和C。通过X射线晶体学分析显示为固体的产物A和B为1-二甲基硅烷基-2-三甲基甲硅烷基-3-[（甲基）（苯基）硅烷基]茚满的非对映异构形式。根据其质量和1 H NMR光谱，初步确定C（一种液体）为1,3-双（二甲基硅基）-2-[（二甲基）（苯基）甲硅烷基]茚满。所有三种产品都将硅杂烯烃（ME的异构体3 Si）的2 CSiPh 2，并建议，后者首先被我的损失形成3的SiF从（MESI）3 CSiPh 2 F和平衡（ME 3 Si）的2 CSiPh 2 ⇌（ME 3 Si）的（PH 2 MESI）CSiMe 2 ⇌（ME 3的Si）（PhMe中2的Si）C SiMePh⇌（ME 2 PHSI）2 CSiMe 2是然后迅速建立; 然后发生涉及在SiC键上加成芳基C
• Al-Gurashi, Mohammad A. M. R.; Ayoko, G. Adefikayo; Eaborn, Colin, Bulletin de la Societe Chimique de France, 1995, vol. 132, p. 517 - 521
  作者：Al-Gurashi, Mohammad A. M. R.、Ayoko, G. Adefikayo、Eaborn, Colin、Lickiss, Paul D.

  DOI：——

  日期：——
• DUA S. S.; EABORN C.; HAPPER D. A. R.; HOPPER S. P.; SAFA K. D.; WALTON D+, J. ORGANOMETAL. CHEM., 1979, 178, NO 1, 75-82
  作者：DUA S. S.、 EABORN C.、 HAPPER D. A. R.、 HOPPER S. P.、 SAFA K. D.、 WALTON D+

  DOI：——

  日期：——
• EABORN C.; HAPPER D. A. R.; HITCHCOCK P. B.; HOPPER S. P.; SAFA K. D.; WA+, J. ORGANOMETAL. CHEM., 1980, 186, NO 3, 309-323
  作者：EABORN C.、 HAPPER D. A. R.、 HITCHCOCK P. B.、 HOPPER S. P.、 SAFA K. D.、 WA+

  DOI：——

  日期：——