碲化镓(GaTe)中阳离子空位对晶体管性能的影响机制,并通过抑制这种作用获得了一种高性能的光电晶体管器件。GaTe是一种重要的III-VI族半导体层状化合物材料,直接带隙约1.7 eV,在光电子器件、辐射探测器及太阳能电池领域具有广泛的应用研究价值。然而由于其复杂的单斜晶体结构和高度各向异性,使得样品制备及器件加工较为困难。目前关于GaTe纳米片的光电性能研究较少。
制备一种二维碲化镓材料的制备方法如下:首先采用垂直布里奇曼晶体生长法,将Ga:Te按物质的量比1:1进行配料,制备GaTe单晶体;接着,在Ar气氛下的米开罗那Universal2440-750手套箱内,选取大块表面光滑无褶皱的GaTe体材料,并沿自然解理面将其分离为多块。随后,同样在Ar气氛下,使用思高胶带从表层光亮、损伤较小的GaTe块体材料表面撕离一块厚度约为6-8 μm的GaTe薄片;最后,在Ar气氛下的米开罗那Universal2440-750手套箱内,将带有GaTe薄片的思高胶带多次粘合分离,直至胶带表面不再光亮,成功附着较为密集的数百纳米厚度的GaTe片层。