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碲化镓 | 12024-14-5

中文名称
碲化镓
中文别名
碲化镓(II)
英文名称
Gallium(II)telluride
英文别名
gallium;tellurium
碲化镓化学式
CAS
12024-14-5
化学式
GaTe
mdl
——
分子量
197.3
InChiKey
OFIYHXOOOISSDN-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    824°C
  • 密度:
    5.440
  • 暴露限值:
    ACGIH: TWA 0.1 mg/m3NIOSH: IDLH 25 mg/m3; TWA 0.1 mg/m3
  • 稳定性/保质期:
    在常温常压下稳定,应避免光、明火及高温环境。随着温度的下降,GaTe的光电导最大值会向短波方向移动。

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -0.76
  • 重原子数:
    2
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    0
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    0

安全信息

  • TSCA:
    Yes
  • 危险品标志:
    Xn
  • 安全说明:
    S22,S24/25
  • 危险类别码:
    R36/37/38,R22

SDS

SDS:aff84cf8ad7a24b2e5e67f56208a70c9
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制备方法与用途

简介

碲化镓(GaTe)中阳离子空位对晶体管性能的影响机制,并通过抑制这种作用获得了一种高性能的光电晶体管器件。GaTe是一种重要的III-VI族半导体层状化合物材料,直接带隙约1.7 eV,在光电子器件、辐射探测器及太阳能电池领域具有广泛的应用研究价值。然而由于其复杂的单斜晶体结构和高度各向异性,使得样品制备及器件加工较为困难。目前关于GaTe纳米片的光电性能研究较少。

制备

一种二维碲化镓材料的制备方法如下:首先采用垂直布里奇曼晶体生长法,将Ga:Te按物质的量比1:1进行配料,制备GaTe单晶体;接着,在Ar气氛下的米开罗那Universal2440-750手套箱内,选取大块表面光滑无褶皱的GaTe体材料,并沿自然解理面将其分离为多块。随后,同样在Ar气氛下,使用思高胶带从表层光亮、损伤较小的GaTe块体材料表面撕离一块厚度约为6-8 μm的GaTe薄片;最后,在Ar气氛下的米开罗那Universal2440-750手套箱内,将带有GaTe薄片的思高胶带多次粘合分离,直至胶带表面不再光亮,成功附着较为密集的数百纳米厚度的GaTe片层。