Methyl-di-tert-butylphosphinit | 70073-11-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机磷化合物
• 英文名称: Methyl-di-tert-butylphosphinit
• 英文别名: Ditert-butyl(methoxy)phosphane
• CAS: 70073-11-9
• 化学式: C₉H₂₁OP
• 分子量: 176.239
• InChiKey: SQKJUTNICYERFF-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  187.1±23.0 °C(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Methyl-di-tert-butylphosphinit 、 碘甲烷 生成 di-tert-butyl-methylphosphine oxide
  参考文献：
  名称：

  Dahl,O., Journal of the Chemical Society. Perkin transactions I, 1978, p. 947 - 954

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  甲醇 、 二叔丁基氯化膦 在 1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯 作用下， 反应 5.0h， 生成 Methyl-di-tert-butylphosphinit
  参考文献：
  名称：

  实用的原位生成亚膦酸酯配体，用于钯催化的（杂）芳基溴化物的羰基化形成酯

  摘要：

  在原位生成的次膦酸酯配体t Bu 2 POR（R = n Bu，n Pr，Et或Me）存在下，开发了一种用于（杂）芳基溴的烷氧羰基化的有效方法。为此目的，在不同醇存在下，将可商购的t Bu 2 PC1用作预配体。首次开发了与两种醇的交叉偶联反应-一种生成配体，另一种用作底物。通过这种方法，可以以更有效的方式进行配体优化，并且可以以良好的产率和选择性获得所需的产物。

  DOI：

  10.1039/c7cc02828h

文献信息

• Polymeric compositions and uses therefor
  申请人：——

  公开号：US20030176583A1

  公开（公告）日：2003-09-18

  The present invention relates to polycyclic polymers, methods for producing polycyclic polymers, and methods for their use as photoresists in the manufacture of integrated circuits. In one embodiment, the present invention relates to photoresist compositions formed from the polymerization of at least one halogenated polycyclic monomer or hydrohalogenated polycyclic monomer. In another embodiment, the present invention relates to photoresist compositions formed from the co-polymerization of at least one halogenated polycyclic monomer or hydrohalogenated polycyclic monomer with at least one non-halogenated polycyclic monomer. Additionally, the present invention relates to methods by which to post-treat such photoresist compositions in order to obtain one or more of: (1) a reduction in optical density of the polymer composition; and (2) a reduction in the amount of residual metal and/or monomer in the polymer composition. Also disclosed are catalyst systems for use in producing the photoresist compositions of the present invention which permit molecular weight control of the photoresist products.

  本发明涉及多环聚合物、生产多环聚合物的方法以及将其用作集成电路制造中的光刻胶的方法。在一个实施方案中，本发明涉及由至少一种卤代多环单体或氢卤代多环单体聚合而成的光刻胶组合物。在另一个实施方案中，本发明涉及由至少一种卤代多环单体或卤代多环单体与至少一种非卤代多环单体共聚合形成的光阻组合物。 此外，本发明还涉及对此类光致抗蚀剂组合物进行后处理的方法，以获得以下一种或多种效果：(1) 降低聚合物组合物的光密度；(2) 降低聚合物组合物中残余金属和/或单体的含量。本发明还公开了用于生产本发明光刻胶组合物的催化剂体系，该体系可控制光刻胶产品的分子量。
• Alkoxyphosphonium salts. 4. Kinetics and mechanisms of Arbuzov reactions
  作者：Edward S. Lewis、Donald Hamp

  DOI：10.1021/jo00160a017

  日期：1983.6
• POLYMERIC COMPOSITIONS AND USES THEREFORE
  申请人：SUMITOMO BAKELITE CO., LTD.

  公开号：EP1461373A1

  公开（公告）日：2004-09-29
• US6949609B2
  申请人：——

  公开号：US6949609B2

  公开（公告）日：2005-09-27
• US7612146B2
  申请人：——

  公开号：US7612146B2

  公开（公告）日：2009-11-03