4-[1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]biphenyl | 111203-78-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 三苯基化合物
• 英文名称: 4-[1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]biphenyl
• 英文别名: 4,4'-[1-([1,1'-Biphenyl]-4-yl)ethane-1,1-diyl]diphenol；4-[1-(4-hydroxyphenyl)-1-(4-phenylphenyl)ethyl]phenol
• CAS: 111203-78-2
• 化学式: C₂₆H₂₂O₂
• 分子量: 366.459
• InChiKey: RXWDMYWEKIFIFE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.8
• 重原子数：
  28
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.08
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-[1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]biphenyl 、 3-溴丙炔 在 4-甲氧基苯酚 、 三乙胺 作用下， 反应 24.0h， 生成 1-[1,1-Bis(4-prop-2-ynoxyphenyl)ethyl]-4-phenylbenzene
  参考文献：
  名称：

  COMPOUND, RESIN, COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD

  摘要：

  本发明提供了以下式（0）表示的化合物。

  公开号：

  US20210070727A1
• 作为产物：
  描述：

  苯酚 、 联苯单乙酮 、 盐酸 生成 4-[1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]biphenyl
  参考文献：
  名称：

  SIGEHMATSU, KADZUESI;NAKAGAVA, TAKASI

  摘要：

  DOI：

文献信息

• COMPOUND, RESIN, COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD AND CIRCUIT PATTERN FORMATION METHOD
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20210070685A1

  公开（公告）日：2021-03-11

  The present invention provides a compound having a specific structure represented by the following formula (0), a resin having a constituent unit derived from the compound, various compositions containing the compound and/or the resin, and various methods using the compositions.

  本发明提供一种具有以下式（0）所代表的特定结构的化合物，具有从该化合物衍生的组分单元的树脂，含有该化合物和/或树脂的各种组合物，以及使用这些组合物的各种方法。
• Compound, resin, composition, resist pattern formation method, and circuit pattern formation method
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US11130724B2

  公开（公告）日：2021-09-28

  The present invention employs a compound represented by the following formula (0): wherein RY is a linear, branched, or cyclic alkyl group of 1 to 30 carbon atoms or an aryl group of 6 to 30 carbon atoms; RZ is an N-valent group of 1 to 60 carbon atoms or a single bond; each RT is independently an alkyl group of 1 to 30 carbon atoms optionally having a substituent, an aryl group of 6 to 40 carbon atoms optionally having a substituent, an alkenyl group of 2 to 30 carbon atoms optionally having a substituent, an alkoxy group of 1 to 30 carbon atoms optionally having a substituent, a halogen atom, a nitro group, an amino group, a cyano group, a thiol group, a hydroxy group, or a group in which a hydrogen atom of a hydroxy group is replaced with an acid dissociation group, wherein the alkyl group, the alkenyl group, and the aryl group each optionally contain an ether bond, a ketone bond, or an ester bond, wherein at least one RT is a hydroxy group or a group in which a hydrogen atom of a hydroxy group is replaced with an acid dissociation group; X is an oxygen atom, a sulfur atom, or not a crosslink; each m is independently an integer of 0 to 9, wherein at least one m is an integer of 1 to 9; N is an integer of 1 to 4, wherein when N is an integer of 2 or larger, N structural formulas within the parentheses [ ] are the same or different; and each r is independently an integer of 0 to 2.

  本发明采用了下式 (0) 所代表的化合物： 其中 RY 是 1 至 30 个碳原子的直链、支链或环状烷基或 6 至 30 个碳原子的芳基； RZ 是 1 至 60 个碳原子的 N 价基团或单键； 每个 RT 独立地是 1 至 30 个碳原子的烷基，可选择具有取代基；6 至 40 个碳原子的芳基，可选择具有取代基；2 至 30 个碳原子的烯基，可选择具有取代基；1 至 30 个碳原子的烷氧基，可选择具有取代基；卤素原子；硝基；氨基；氰基；硫醇基、羟基或羟基的氢原子被酸离解基团取代的基团，其中烷基、烯基和芳基各自可选含有醚键、酮键或酯键，其中至少一个 RT 是羟基或羟基的氢原子被酸离解基团取代的基团； X 是氧原子、硫原子或不是交联剂；每个 m 独立地为 0 至 9 的整数，其中至少一个 m 为 1 至 9 的整数； N 是 1 至 4 的整数，其中当 N 是 2 或更大的整数时，括号[ ]内的 N 结构式相同或不同；以及 每个 r 独立地为 0 至 2 的整数。
• JPS62122782A
  申请人：——

  公开号：JPS62122782A

  公开（公告）日：1987-06-04
• JPS62289536A
  申请人：——

  公开号：JPS62289536A

  公开（公告）日：1987-12-16
• [EN] COMPOUND, RESIN, COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, AND CIRCUIT PATTERN FORMATION METHOD<br/>[FR] COMPOSÉ, RÉSINE, COMPOSITION, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE CIRCUIT<br/>[JA] 化合物、樹脂、組成物並びにレジストパターン形成方法及び回路パターン形成方法
  申请人：MITSUBISHI GAS CHEMICAL CO

  公开号：WO2018016640A1

  公开（公告）日：2018-01-25

  下記式（０）で表される、化合物。（０）（ＲＹ：水素原子、炭素数１～３０のアルキル基又は炭素数６～３０のアリール基、ＲＺ：炭素数１～６０のＮ価の基又は単結合、ＲＴ：置換基を有していてもよい炭素数１～３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６～３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２～３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１～３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、カルボン酸基、チオール基、水酸基又は水酸基の水素原子が含ビニルフェニルメチル基で置換された基（アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基は、エーテル結合、ケトン結合またはエステル結合を含んでいてもよい）、ＲＴの少なくとも１つは水酸基の水素原子が含ビニルフェニルメチル基で置換された基を含む。Ｘ：酸素原子、硫黄原子又は無架橋、ｍ：０～９の整数（少なくとも１つは１～９の整数）、Ｎ：１～４の整数、ｒ：０～２の整数）