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Bis(trimethylsilylamino)dichlorosilan | 250739-74-3

中文名称
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中文别名
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英文名称
Bis(trimethylsilylamino)dichlorosilan
英文别名
bis(trimethylsilylamino)dichlorosilane;1,1-Dichloro-N,N'-bis(trimethylsilyl)silanediamine;[[[dichloro-(trimethylsilylamino)silyl]amino]-dimethylsilyl]methane
Bis(trimethylsilylamino)dichlorosilan化学式
CAS
250739-74-3
化学式
C6H20Cl2N2Si3
mdl
——
分子量
275.401
InChiKey
XSCQEJPXSZLZHT-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.75
  • 重原子数:
    13
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    24.1
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    2

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    Bis(trimethylsilylamino)dichlorosilan正丁基锂 作用下, 以 正己烷 为溶剂, 反应 4.0h, 生成 Bis(N-lithiumtrimethylsilylamino)bis(dimethylamino)silan
    参考文献:
    名称:
    Engering, Josef; Peters, Eva-Maria; Jansen, Martin, Zeitschrift fur Naturforschung, B: Chemical Sciences, 2002, vol. 57, # 9, p. 976 - 982
    摘要:
    DOI:
  • 作为产物:
    描述:
    六甲基二硅氮烷四氯化硅 作用下, 以68 %的产率得到Bis(trimethylsilylamino)dichlorosilan
    参考文献:
    名称:
    通过三甲基甲硅烷基取代的聚硅氮烷制备高纯度化学计量的 Si3N4 陶瓷
    摘要:
    设计并成功合成了三甲基甲硅烷基取代的聚硅氮烷。它们用于通过热解过程制造高纯度化学计量的 Si 3 N 4陶瓷。三甲基甲硅烷基提高了聚硅氮烷的稳定性,并且在热解过程中容易逸出,从而有效降低了最终聚合物衍生的 Si 3 N 4中的氧和碳含量。Si 3 N 4陶瓷的C含量低于0.06wt%,O含量低于1.2wt%。Si 3 N 4陶瓷在高达 1400°C 时仍保持非晶态,但它们完全转变为 α-Si 3 N 4在 1500°C。低氧和碳含量的协同效应导致 Si 3 N 4的非晶态在高温下高度稳定。这种无定形 Si 3 N 4陶瓷可用于要求高纯度的尖端技术。
    DOI:
    10.1111/jace.19008
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文献信息

  • Reaktion von Bis(trimethylsilylamino)dichlorsilan mit Titantetrachlorid - Synthese und Kristallstruktur von [μ-ClTiCl2N(SiMe3)SiCl2NH2]2
    作者:Stefan Rannabauer、Regina Bettenhausen、Wolfgang Schnick
    DOI:10.1002/1521-3749(200202)628:2<373::aid-zaac373>3.0.co;2-2
    日期:2002.2
    TiCl4 reacts quantitatively with Cl2Si(NHSiMe3)2 in n-pentane under evolution of Me3SiCl yielding [μ-ClTiCl2N(SiMe3)-SiCl2NH2]2 (1), which is obtained as a yellow, crystalline solid forming small intergrown needles, that rapidly hydrolyse. The product 1 shows a thermal stability up to 80?C. The molecular structure of 1 has been solved by X-ray powder diffraction methods and it could be confirmed by
    TiCl4 与正戊烷中的 Cl2Si(NHSiMe3)2 在 Me3SiCl 的演化下发生定量反应,生成 [μ-ClTiCl2N(SiMe3)-SiCl2NH2]2 (1),其为黄色结晶固体,形成小的共生针状体,可快速水解. 产品 1 显示出高达 80℃的热稳定性。1 的分子结构已经通过 X 射线粉末衍射法解析出来,并且可以通过在 -70 ℃下进行单晶 X 射线结构测定来证实。因此,在固体 1 中是二聚体 ([μ-ClTiCl2N(SiMe3)SiCl2NH2]2, P21/n (no. 14), Z = 2, a = 1504.89(6), b = 1296.33(6), c = 710.90(4) pm,β = 91.276(2)?)。
  • Engering, Josef; Peters, Eva-Maria; Jansen, Martin, Zeitschrift fur Naturforschung, B: Chemical Sciences, 2002, vol. 57, # 9, p. 976 - 982
    作者:Engering, Josef、Peters, Eva-Maria、Jansen, Martin
    DOI:——
    日期:——
  • High‐purity stoichiometric Si <sub>3</sub> N <sub>4</sub> ceramics through trimethylsilyl‐substituted polysilazanes
    作者:Tianhao Li、Wei Zhang、Liantai Duan、Ke Chen、Qing Huang、Yinsheng Li、Zhengren Huang、Liu He、Yujie Song
    DOI:10.1111/jace.19008
    日期:——
    Trimethylsilyl-substituted polysilazanes were designed and successfully synthesized. They were used to fabricate high-purity stoichiometric Si3N4 ceramics through pyrolysis process. Trimethylsilyl groups improved the stability of polysilazanes and easily escaped during pyrolysis, which effectively reduced oxygen and carbon content in the final polymer-derived Si3N4. The C content of Si3N4 ceramic was
    设计并成功合成了三甲基甲硅烷基取代的聚硅氮烷。它们用于通过热解过程制造高纯度化学计量的 Si 3 N 4陶瓷。三甲基甲硅烷基提高了聚硅氮烷的稳定性,并且在热解过程中容易逸出,从而有效降低了最终聚合物衍生的 Si 3 N 4中的氧和碳含量。Si 3 N 4陶瓷的C含量低于0.06wt%,O含量低于1.2wt%。Si 3 N 4陶瓷在高达 1400°C 时仍保持非晶态,但它们完全转变为 α-Si 3 N 4在 1500°C。低氧和碳含量的协同效应导致 Si 3 N 4的非晶态在高温下高度稳定。这种无定形 Si 3 N 4陶瓷可用于要求高纯度的尖端技术。
  • Engering, Josef; Peters, Eva-Maria; Jansen, Martin, Zeitschrift fur Naturforschung, B: Chemical Sciences, <hi>2002</hi>, vol. 57, # 9, p. 976 - 982
    作者:Engering, Josef、Peters, Eva-Maria、Jansen, Martin
    DOI:——
    日期:——
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