MeCH(OSiEt3)OEt | 17841-50-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: MeCH(OSiEt3)OEt
• 英文别名: et3Si(Oet-1-Oet)；(1-ethoxy-ethoxy)-triethyl-silane；1-Aethoxy-1-triaethylsilyloxy-aethan；(1-Aethoxy-aethoxy)-triaethyl-silan；Acetaldehydethyl(triethyl)silylacetal
• CAS: 17841-50-8
• 化学式: C₁₀H₂₄O₂Si
• 分子量: 204.385
• InChiKey: CCLXUBLUVASKOP-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  78-79 °C(Press: 15-16 Torr)
• 密度：
  0.8682 g/cm3

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.39
• 重原子数：
  13.0
• 可旋转键数：
  7.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  18.46
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  2.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  et3Si(Oet-1-On-bu) 在 H₂SO₄ 作用下， 以 盐酸 、 硫酸 为溶剂， 生成 MeCH(OSiEt3)OEt
  参考文献：
  名称：

  Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 79, page 219 - 221

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Manganese and rhenium-catalyzed selective reduction of esters to aldehydes with hydrosilanes
  作者：Duo Wei、Ruqaya Buhaibeh、Yves Canac、Jean-Baptiste Sortais

  DOI：10.1039/d0cc03580g

  日期：——

  The selective reduction of esters to aldehydes, via the formation of stable alkyl silyl acetals, was, for the first time, achieved with both manganese, –Mn2(CO)10– and rhenium –Re2(CO)10– catalysts in the presence of triethylsilane as reductant. These two methods provide a direct access to a large variety of aliphatic and aromatic alkyl silyl acetals (30 examples) and to the corresponding aldehydes

  通过锰，-Mn 2（CO）10-和rh-Re 2（CO）10-锰催化剂的首次实现，通过形成稳定的烷基甲硅烷基缩醛将酯选择性还原为醛。存在三乙基硅烷作为还原剂。通过这两种方法，水解后可以直接进入大量的脂族和芳族烷基甲硅烷基缩醛（30个实例）和相应的醛（13个实例）。在室温下，在光照射条件下（LED，365 nm，40 W，9 h），反应以优异的收率和高选择性进行。
• [EN] METHODS AND COMPOUNDS FOR PHOTO LEWIS ACID GENERATION AND USES THEREOF<br/>[FR] PROCÉDÉS ET COMPOSÉS POUR LA PHOTOGÉNÉRATION D'ACIDES DE LEWIS ET LEURS UTILISATIONS
  申请人：UTI LIMITED PARTNERSHIP

  公开号：WO2013142956A1

  公开（公告）日：2013-10-03

  There are disclosed masked Lewis acids into compounds in which the Lewis acid can be released by exposure of the compound to light, especially ultraviolet light. These compounds can be represented by the following formula (I): ([(AEX(3-n))(n+1)Yn](n+1)-)m(Qm+)(n+1) (I). wherein briefly, E represents boron or aluminium, X is an aryl group and Y is -Ar'EAX,. These compounds are used as catalyst for hydrosilylation reaction, crosslinking of polymers, or ester deprotection reactions as photo Lewis acid generator (PhLAG).

  披露了遮蔽的路易斯酸进入化合物中，通过将化合物暴露于光，特别是紫外光，可以释放路易斯酸。这些化合物可以用以下公式（I）表示：（[(AEX(3-n))(n+1)Yn](n+1)-)m(Qm+)(n+1) (I)。其中，简要地说，E代表硼或铝，X是一个芳基团，Y是-Ar'EAX。这些化合物作为催化剂用于氢硅化反应、聚合物的交联或作为光路易斯酸发生器（PhLAG）的酯去保护反应。
• A Photo Lewis Acid Generator (PhLAG): Controlled Photorelease of B(C₆F₅)₃
  作者：Andrey Y. Khalimon、Warren E. Piers、James M. Blackwell、David J. Michalak、Masood Parvez

  DOI：10.1021/ja3042977

  日期：2012.6.13

  A molecule that releases the strong organometallic Lewis acid B(C(6)F(5))(3) upon irradiation with 254 nm light has been developed. This photo Lewis acid generator (PhLAG) now enables the photocontrolled initiation of several reactions catalyzed by this important Lewis acid. Herein is described the synthesis of the triphenylsulfonium salt of a carbamato borate based on a carbazole function, its establishment

  已开发出一种在 254 nm 光照射下释放强有机金属路易斯酸 B(C(6)F(5))(3) 的分子。这种光路易斯酸生成剂 (PhLAG) 现在可以光控引发由这种重要的路易斯酸催化的几种反应。本文描述了基于咔唑功能的氨基甲酸硼酸三苯基锍盐的合成，其作为 PhLAG 的建立，以及 B(C(6)F(5))(3) 的光释放在制造聚硅氧烷材料的薄膜。
• Sostakovskii, M. F.; Andrianov, K. A.; Sikhiev, I. A., Doklady Akademii Nauk SSSR, 1953, vol. 93, p. 681 - 683
  作者：Sostakovskii, M. F.、Andrianov, K. A.、Sikhiev, I. A.、Kotskin, D. A.

  DOI：——

  日期：——
• Prevalence of caries and developmental defects of enamel in 9-10 year old children living in areas in Brazil with differing water fluoride histories
  作者：E. Dini、R. Holt、R. Holt

  DOI：10.1038/sj.bdj.4800416a

  日期：2000.2.12