cis-4-(4'-aminophenylazo)benzoic acid | 787529-91-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 偶氮苯
• 英文名称: cis-4-(4'-aminophenylazo)benzoic acid
• CAS: 787529-91-3
• 化学式: C₁₃H₁₁N₃O₂
• 分子量: 241.249
• InChiKey: KJNBDJZDRNLJJG-NXVVXOECSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.38
• 重原子数：
  18.0
• 可旋转键数：
  3.0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  88.04
• 氢给体数：
  2.0
• 氢受体数：
  4.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  cis-4-(4'-aminophenylazo)benzoic acid 以 二甲基亚砜 为溶剂， 反应 1.5h， 生成 trans-4-(4-(Aminomethyl)phenylazo)benzoic acid
  参考文献：
  名称：

  Molecular design of photoswitchable surfaces with controllable wettability

  摘要：

  在这项工作中，我们开发了一种光控基板，该基板是通过3-缩水甘油醚丙基三甲氧基硅烷（GPTS）和4-(4′-氨基苯基偶氮)苯甲酸（APABA）的化学吸附作用，在硅表面制备的含偶氮苯的自组装单层（SAM）。通过X射线光电子能谱（XPS）对制备的表面进行了化学表征。在二甲基亚砜（DMSO）溶液中，通过紫外光谱研究了APABA分子的可逆光开关性能。为了了解和控制这种可逆光开关机制和润湿性，在紫外和可见光照射后，使用各种液体进行了接触角测量。这些接触角结果用于使用Lifshitz-van der Waals/酸-碱方法近似紫外和可见光下APABA改性表面能的成分。可见光照射后的总表面能（γs）（用于反式形成）计算为37.28 mJ m-2，而紫外光照射后的总表面能（用于顺式形成）也计算为36.95 mJ m-2。所有结果表明，使用光来控制分子结构内部和表面的分子事件具有巨大潜力。

  DOI：

  10.1039/c0jm03528a
• 作为产物：
  描述：

  trans-4-(4-(Aminomethyl)phenylazo)benzoic acid 以 二甲基亚砜 为溶剂， 生成 cis-4-(4'-aminophenylazo)benzoic acid
  参考文献：
  名称：

  Molecular design of photoswitchable surfaces with controllable wettability

  摘要：

  在这项工作中，我们开发了一种光控基板，该基板是通过3-缩水甘油醚丙基三甲氧基硅烷（GPTS）和4-(4′-氨基苯基偶氮)苯甲酸（APABA）的化学吸附作用，在硅表面制备的含偶氮苯的自组装单层（SAM）。通过X射线光电子能谱（XPS）对制备的表面进行了化学表征。在二甲基亚砜（DMSO）溶液中，通过紫外光谱研究了APABA分子的可逆光开关性能。为了了解和控制这种可逆光开关机制和润湿性，在紫外和可见光照射后，使用各种液体进行了接触角测量。这些接触角结果用于使用Lifshitz-van der Waals/酸-碱方法近似紫外和可见光下APABA改性表面能的成分。可见光照射后的总表面能（γs）（用于反式形成）计算为37.28 mJ m-2，而紫外光照射后的总表面能（用于顺式形成）也计算为36.95 mJ m-2。所有结果表明，使用光来控制分子结构内部和表面的分子事件具有巨大潜力。

  DOI：

  10.1039/c0jm03528a