Ta(NtBu)(OtBu)3 | 1009837-34-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机盐 - 有机金属盐
• 英文名称: Ta(NtBu)(OtBu)3
• 英文别名: (tert-butylimido)tris(tert-butyloxy)tantalum；(tert-butylimido)tri(tert-butyloxo)tantalum；Ta(N^tBu)(O^tBu)₃；(tert-butylimido)tri(tert-butoxo)tantalum
• CAS: 1009837-34-6
• 化学式: C₁₆H₃₆NO₃Ta
• 分子量: 471.415
• InChiKey: FNHUDCMNUXFFIC-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.31
• 重原子数：
  21.0
• 可旋转键数：
  3.0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  40.05
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  4.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Ta(NtBu)(OtBu)3 、 氧气 以 正己烷 为溶剂， 反应 72.0h， 以0.22 g的产率得到Ta₄(μ₄-OCMe₂CH₂O)(μ₃-O)(μ-O)₃(μ-O^tBu)(O^tBu)₉
  参考文献：
  名称：

  タンタルオキソ−アルコキソ錯体、その製造方法及びタンタル酸化物膜の作製方法

  摘要：

  提供一种用于制备钽氧-醇配合物的制膜材料，该配合物可用于制备钽酸盐膜，以及其制备方法。通过制备化学式（1）所示的新型钽氧-醇配合物，然后将该钽氧-醇配合物（1）与有机溶剂混合，制备制膜材料溶液，并使用该制膜材料溶液制备钽酸盐膜。【化1】【选择图】无。

  公开号：

  JP2015124159A
• 作为产物：
  描述：

  [TaCl3(N(t-Bu))(dimethoxyethane)] 、 lithium tert-butoxide 以 正己烷 、 甲苯 为溶剂， 反应 6.0h， 生成 Ta(NtBu)(OtBu)3
  参考文献：
  名称：

  IMIDE COMPLEX, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, METAL-CONTAINING THIN FILM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME

  摘要：

  公开号：

  EP2058295B1

文献信息

• 第５族金属オキソ−アルコキソ錯体の製造方法
  申请人：東ソー株式会社

  公开号：JP2019064964A

  公开（公告）日：2019-04-25

  【課題】 金属酸化物膜を作製するための材料として有用な第５族金属オキソ−アルコキソ錯体を短時間で効率よく製造する方法を提供する。【解決手段】 第５族金属アルコキシド；アンモニア、第一級アミン又は第二級アミン；カルボニル化合物を４０℃以上の温度で反応させることにより、第５族金属オキソ−アルコキソ錯体を短時間で効率よく製造する。【選択図】 なし

  提供一种在短时间内高效制备第5族金属氧化物膜的材料，即第5族金属氧-醇醚络合物的方法。通过在40摄氏度以上的温度下使第5族金属醇醚氧化物与氨、一级胺或二级胺以及羰基化合物反应，可以高效地在短时间内制备第5族金属氧-醇醚络合物。
• 第５族金属フェニルイミド−トリアルコキソ錯体及びその製造方法
  申请人：東ソー株式会社

  公开号：JP2015124165A

  公开（公告）日：2015-07-06

  【課題】第５族金属酸化物膜具体的にはニオブ酸化物又はタンタル酸化物の膜を湿式法で作製するための材料である第５族金属オキソ−アルコキソ錯体の前駆体として有用な、フェニルイミド−トリ（ｔｅｒｔ−ブチルオキソ）錯体、及びその製造方法の提供。【解決手段】アルキルイミド−トリ（ｔｅｒｔ−ブチルオキソ）錯体にアニリン誘導体を反応させて、式（１）で示されるフェニルイミド−トリ（ｔｅｒｔ−ブチルオキソ）錯体を製造する。（Ｍはニオブ原子又はタンタル原子；Ｒ１〜Ｒ５は各々独立にＨ又はＣ１〜Ｃ６のアルキル基）【選択図】なし

  这是一篇有关制备第五族金属氧化物膜的文章，具体来说是制备铌酸化物或钽酸化物膜的材料，使用第五族金属氧-醇配合物作为前体。其中，苯基亚胺-三（叔丁氧基）配合物是有用的前体，可通过将苯胺诱导体与烷基亚胺-三（叔丁氧基）配合物反应来制备。在公式（1）中，M代表铌或钽原子，R1～R5分别独立表示H或C1～C6烷基。
• GROUP 5 METAL OXO-ALKOXO COMPLEX, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING GROUP 5 METAL OXIDE FILM
  申请人：Tosoh Corporation

  公开号：EP2939996B1

  公开（公告）日：2018-03-21