4-(1-(4-chlorophenyl)-1-(4-hydroxyphenyl)propyl)phenol | 1064170-44-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 三苯基化合物
• 英文名称: 4-(1-(4-chlorophenyl)-1-(4-hydroxyphenyl)propyl)phenol
• 英文别名: 4-[1-(4-Chlorophenyl)-1-(4-hydroxyphenyl)propyl]phenol
• CAS: 1064170-44-0
• 化学式: C₂₁H₁₉ClO₂
• 分子量: 338.834
• InChiKey: BYVADQHNENKKLA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.3
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

文献信息

• NOVEL DIAZONAPHTHOQUINONESULFONIC ACID BISPHENOL DERIVATIVE USEFUL IN PHOTO LITHOGRAPHIC SUB MICRON PATTERNING AND A PROCESS FOR PREPARATION THEREOF
  申请人：Reddy Vummadi Venkat

  公开号：US20100081084A1

  公开（公告）日：2010-04-01

  The present invention provides novel diazonaphthoquinonesulfonic acid bisphenol derivatives. More particularly, the present invention relates to photo restive coating comprising alkali-soluble resin, a photoactive compound and a surfactant. The photoresist film prepared has less then one micron. The photoactive compound is soluble or swellable in aqueous alkaline solutions and is diazonaphthoquinonesulfonic bisphenol esters of the general formula (A), wherein DNQ represents a 2-Diazo-1-naphthoquinone-4-sulfonyl, 2-Diazo-1-naphthoquinone-5-sulfonyl, 1-Diazo-2-naphthoquinone-4-sulfonyl groups and R1 R1 represents an alkyl, aryl and substituted aryl groups. The invention also provides a process for coating and imaging the light-sensitive composition.

  本发明提供了新型二氮基萘醌磺酸双酚衍生物。更具体地说，本发明涉及包括碱溶性树脂、光敏化合物和表面活性剂的光敏涂层。制备的光刻膜厚度小于1微米。光敏化合物在水性碱性溶液中可溶或可膨胀，是一般式（A）中的二氮基萘醌磺酸双酚酯，其中DNQ代表2-二氮基-1-萘醌-4-磺酰基、2-二氮基-1-萘醌-5-磺酰基、1-二氮基-2-萘醌-4-磺酰基基团，R1代表烷基、芳基和取代芳基基团。本发明还提供了一种涂覆和成像光敏组合物的方法。
• NOVEL DIAZONAPHTHOQUINONESULFONIC ACID BISPHENOL DERIVATIVE USEFUL IN PHOTO LITHOGRAPHIC SUB MICRON PATTERNING AND A PROCESS FOR PREPARATION THEREOF
  申请人：Council of Scientific & Industrial Research

  公开号：EP2137140B1

  公开（公告）日：2010-11-10
• US8563215B2
  申请人：——

  公开号：US8563215B2

  公开（公告）日：2013-10-22
• [EN] NOVEL DIAZONAPHTHOQUINONESULFONIC ACID BISPHENOL DERIVATIVE USEFUL IN PHOTO LITHOGRAPHIC SUB MICRON PATTERNING AND A PROCESS FOR PREPARATION THEREOF<br/>[FR] NOUVEAU DÉRIVÉ ESTER D'ACIDE DIAZONAPHTOQUINONESULFONIQUE ET DE BISPHÉNOL UTILE DANS LA FORMATION DE MOTIFS SUBMICRONIQUES PHOTOLITHOGRAPHIQUES ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION
  申请人：COUNCIL SCIENT IND RES

  公开号：WO2008117308A2

  公开（公告）日：2008-10-02

  (EN) The present invention provides novel diazonaphthoquinonesulfonic acid bisphenol derivatives. More particularly, the present invention relates to photo restive coating comprising alkali-soluble resin, a photoactive compound and a surfactant. The photoresist film prepared has less then one micron.The photoactive compound is soluble or swellable in aqueous alkaline solutions and is diazonaphthoquinonesulfonic bisphenol esters of the general formula (A), wherein DNQ represents a 2-Diazo-1-naphthoquinone-4-sulfonyl, 2-Diazo-1- naphthoquinone-5-sulfonyl, 1-Diazo-2-naphthoquinone-4-sulfonyl groups and R1 R1 represents an alkyl, aryl and substituted aryl groups. The invention also provides a process for coating and imaging the light-sensitive composition.(FR) La présente invention porte sur de nouveaux dérivés esters d'acide diazonaphtoquinonesulfonique et de bisphénol. Plus particulièrement, la présente invention porte sur un revêtement de photorésist comprenant une résine soluble dans les alcalis, un composé photo-actif et un agent tensio-actif. Le film de photorésist préparé fait moins d'un micron. Le composé photo-actif est soluble ou gonflable dans les solutions alcalines aqueuses et est un ester d'acide diazonaphtoquinonesulfonique et de bisphénol, représenté par la formule générale (A) dans laquelle DNQ représente un groupe 2-diazo-1-naphtoquinone-4-sulfonyle, 2-diazo-1-naphtoquinone-5-sulfonyle, 1-diazo-2-naphtoquinone-4-sulfonyle et R1 représente un groupe alkyle, aryle ou aryle substitué. L'invention porte également sur un procédé pour le revêtement et l'imagerie de la composition sensible à la lumière.