Silicon-silicon interaction in bis(silylene)iron, disilanyliron, and bis(silyl)iron complexes
作者:Keiji Ueno、Hiromi Tobita、Hiroshi Ogino
DOI:10.1016/0022-328x(92)80099-j
日期:1992.6
29Si NMR coupling constants in a disilanyliron complex CpFe(CO)2SiMe2SiMe(OtBu)2 (1: CP = η5C5H5), a bis(silylene)iron complex Cp(OC)FeSiMe2 ⋯ O(tBu) ⋯ SiMeOtBu)} (2), and a cis-bis(silyl)iron complex (OC)4FeSiMe2CH2CH2SiMePh} (3) were measured by the INEPT-INADE-QUATE technique. The coupling constant for 2 (28.6 Hz) is much smaller than that for 1 (128 Hz) with a direct Si-Si bond, but larger than
29的Si NMR在disilanyliron复杂CpFe的量(CO)的耦合常数2森达2森达(O吨丁基)2(1:CP =η 5 Ç 5 ħ 5),双(亚甲硅烷基)铁配合物的Cp(OC)的Fe 森达用INEPT-进行了测量:2 O(t Bu)⋯SiMeO t Bu)}(2)和顺式-双(甲硅烷基)铁络合物(OC)4 Fe SiMe 2 CH 2 CH 2 SiMePh}(3)。 INADE-QUATE技术。耦合常数为2(28.6 Hz)远小于具有直接Si-Si键的1(128 Hz),但大于没有直接Si-Si键的3(2.7 Hz)。使用扩展的Hückel方法进行的模型计算表明,双(亚甲硅基)铁络合物Cp(OC)Fe SiH 2 ⋯O(H)⋯SiH 2 }中的两个硅原子之间没有直接键合。这意味着,在连接2可以被描述为两个的总和偕联轴器,2 Ĵ(SiFeSi)和2 Ĵ(SiOSi)。