deca-N-methyl-N²,N^2'-ethane-1,2-diyl-bis-[1,3,5]triazine-2,4,6-triamine | 53215-28-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 三嗪类
• 英文名称: deca-N-methyl-N²,N^2'-ethane-1,2-diyl-bis-[1,3,5]triazine-2,4,6-triamine
• 英文别名: 2-N-[2-[[4,6-bis(dimethylamino)-1,3,5-triazin-2-yl]-methylamino]ethyl]-2-N,4-N,4-N,6-N,6-N-pentamethyl-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine
• CAS: 53215-28-4
• 化学式: C₁₈H₃₄N₁₂
• 分子量: 418.548
• InChiKey: YYRIKVPAUMYVEQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  30
• 可旋转键数：
  9
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.67
• 拓扑面积：
  96.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  12

文献信息

• GRAFT PATTERN FORMING METHOD AND CONDUCTIVE PATTERN FORMING METHOD
  申请人：Kawamura Koichi

  公开号：US20090092766A1

  公开（公告）日：2009-04-09

  The invention provides a graft pattern forming method including contacting a radical-polymerizable unsaturated compound with a surface of a base material capable of generating radicals by exposure; and exposing imagewise with laser light having a wavelength of 360 to 700 nm to form a graft polymer directly bonded to the base material patternwise on the surface of the base material. The invention also provides a conductive pattern forming method including imparting conductivity to the graft pattern formed patternwise obtained by the graft pattern forming method.
• [EN] GRAFT PATTERN FORMING METHOD AND CONDUCTIVE PATTERN FORMING METHOD<br/>[FR] PROCEDE DE FORMATION DE MOTIF DE GREFFE ET PROCEDE DE FORMATION DE MOTIF CONDUCTEUR
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO LTD

  公开号：WO2006123834A2

  公开（公告）日：2006-11-23

  [EN] The invention provides a graft pattern forming method including contacting a radical-polymerizable unsaturated compound with a surface of a base material capable of generating radicals by exposure; and exposing imagewise with laser light having a wavelength of 360 to 700 nm to form a graft polymer directly bonded to the base material patternwise on the surface of the base material. The invention also provides a conductive pattern forming method including imparting conductivity to the graft pattern formed patternwise obtained by the graft pattern forming method.
  [FR] L'invention concerne un procédé de formation d'un motif de greffe qui consiste à mettre en contact un composé insaturé polymérisable par voie radicalaire avec une surface d'un matériau de base capable de produire des radicaux par exposition; et à l'exposer à une lumière laser de longueur d'onde comprise entre 360 et 700 nm sous forme d'image pour obtenir un polymère greffé directement lié au matériau de base sous forme de motif sur la surface du matériau de base. Par ailleurs, l'invention concerne un procédé de formation d'un motif conducteur qui confère au motif de greffe une conductivité électrique sous forme d'image, obtenu par le procédé de formation de motif de greffe.