Trimethyl-[[2,2,5,5-tetrakis(trimethylsilyl)silolan-1-ylidene]-[[2,2,5,5-tetrakis(trimethylsilyl)silolan-1-ylidene]-trimethylsilylsilyl]silyl]silane | 951242-53-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: Trimethyl-[[2,2,5,5-tetrakis(trimethylsilyl)silolan-1-ylidene]-[[2,2,5,5-tetrakis(trimethylsilyl)silolan-1-ylidene]-trimethylsilylsilyl]silyl]silane
• 英文别名: trimethyl-[[2,2,5,5-tetrakis(trimethylsilyl)silolan-1-ylidene]-[[2,2,5,5-tetrakis(trimethylsilyl)silolan-1-ylidene]-trimethylsilylsilyl]silyl]silane
• CAS: 951242-53-8
• 化学式: C₃₈H₉₈Si₁₄
• 分子量: 948.393
• InChiKey: PPYVZBMDNXAGQP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  14.6
• 重原子数：
  52
• 可旋转键数：
  11
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Trimethyl-[[2,2,5,5-tetrakis(trimethylsilyl)silolan-1-ylidene]-[[2,2,5,5-tetrakis(trimethylsilyl)silolan-1-ylidene]-trimethylsilylsilyl]silyl]silane 以 氘代苯 为溶剂， 反应 2.0h， 以51%的产率得到Trimethyl-[1,2,4,4,7-pentakis(trimethylsilyl)-1,2,3-trisilaspiro[2.4]hept-1-en-7-yl]silane
  参考文献：
  名称：

  Tetrasila-1,3-二烯中SiSi双键的热和光化学裂解

  摘要：

  通过用钠还原相应的 1,2,2-三溴二硅烷，合成了一种新型稳定的四硅-1,3-二烯 3。X 射线分析表明，3 的 tetrasila-1,3-diene 骨架高度扭曲，但采用背斜构象，与先前报道的 tetrasila-1,3-diene 显示向斜构象相反。在 80 °C 下加热或使用 3 在苯中的过滤光 (λ > 390 nm) 进行照射后，3 的 SiSi 双键之一发生完全解离，产生新的环三甲硅烷 4 和甲硅烷基 2，表明初始 SiSi 双键3分解为相应的二甲硅烷基甲硅烷基8和甲硅烷基2；环三甲硅烷 4 将通过分子内甲硅烷基插入 8 的 SiSi 键形成。

  DOI：

  10.1021/ja0741473
• 作为产物：
  描述：

  Dibromo-[1-bromo-2,2,5,5-tetrakis(trimethylsilyl)silolan-1-yl]-trimethylsilylsilane 在 sodium 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 72.0h， 以13%的产率得到Trimethyl-[[2,2,5,5-tetrakis(trimethylsilyl)silolan-1-ylidene]-[[2,2,5,5-tetrakis(trimethylsilyl)silolan-1-ylidene]-trimethylsilylsilyl]silyl]silane
  参考文献：
  名称：

  Tetrasila-1,3-二烯中SiSi双键的热和光化学裂解

  摘要：

  通过用钠还原相应的 1,2,2-三溴二硅烷，合成了一种新型稳定的四硅-1,3-二烯 3。X 射线分析表明，3 的 tetrasila-1,3-diene 骨架高度扭曲，但采用背斜构象，与先前报道的 tetrasila-1,3-diene 显示向斜构象相反。在 80 °C 下加热或使用 3 在苯中的过滤光 (λ > 390 nm) 进行照射后，3 的 SiSi 双键之一发生完全解离，产生新的环三甲硅烷 4 和甲硅烷基 2，表明初始 SiSi 双键3分解为相应的二甲硅烷基甲硅烷基8和甲硅烷基2；环三甲硅烷 4 将通过分子内甲硅烷基插入 8 的 SiSi 键形成。

  DOI：

  10.1021/ja0741473

文献信息

• Thermal and Photochemical Cleavage of SiSi Double Bond in Tetrasila-1,3-diene
  作者：Kei Uchiyama、Selvarajan Nagendran、Shintaro Ishida、Takeaki Iwamoto、Mitsuo Kira

  DOI：10.1021/ja0741473

  日期：2007.9.1

  A novel stable tetrasila-1,3-diene 3 was synthesized by the reduction with sodium of the corresponding 1,2,2-tribromodisilane. X-ray analysis shows that the tetrasila-1,3-diene skeleton of 3 is highly twisted but adopts an anticlinal conformation in contrast to the previously reported tetrasila-1,3-dienes showing a synclinal conformation. Upon heating at 80 °C or irradiation using filtered light (λ

  通过用钠还原相应的 1,2,2-三溴二硅烷，合成了一种新型稳定的四硅-1,3-二烯 3。X 射线分析表明，3 的 tetrasila-1,3-diene 骨架高度扭曲，但采用背斜构象，与先前报道的 tetrasila-1,3-diene 显示向斜构象相反。在 80 °C 下加热或使用 3 在苯中的过滤光 (λ > 390 nm) 进行照射后，3 的 SiSi 双键之一发生完全解离，产生新的环三甲硅烷 4 和甲硅烷基 2，表明初始 SiSi 双键3分解为相应的二甲硅烷基甲硅烷基8和甲硅烷基2；环三甲硅烷 4 将通过分子内甲硅烷基插入 8 的 SiSi 键形成。