(diisopropylamino)tribromosilane | 73459-90-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 英文名称: (diisopropylamino)tribromosilane
• 英文别名: Tribrom(diisopropylamino)silan；N-propan-2-yl-N-tribromosilylpropan-2-amine
• CAS: 73459-90-2
• 化学式: C₆H₁₄Br₃NSi
• 分子量: 367.981
• InChiKey: RXFOXGJIAFDJCK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.73
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  3.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (diisopropylamino)tribromosilane 在 lithium fluoride 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 30.0h， 以84%的产率得到Diisopropylaminotrifluorsilan
  参考文献：
  名称：

  Hensen, Karl; Pickel, Peter, Liebigs Annalen der Chemie, 1980, # 2, p. 223 - 228

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  溴化硅(IV) 、 二异丙胺 以 正己烷 为溶剂， 以68%的产率得到(diisopropylamino)tribromosilane
  参考文献：
  名称：

  Hensen, Karl; Pickel, Peter, Liebigs Annalen der Chemie, 1980, # 2, p. 223 - 228

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Synthesis methods for amino(halo)silanes
  申请人：American Air Liquide, Inc.

  公开号：US09701695B1

  公开（公告）日：2017-07-11

  Disclosed are methods of synthesizing an amino(halo)silane comprising the step of reacting a halosilane having the formula SiaHbXc with an aminosilane having the formula SidHe(NR1R2)f to produce the amino(halo)silane having the formula SiwHxXy(NR1R2)z, wherein X=Br or I; each R1 and R2 is independently selected from a C1-C10 alkyl, aryl, or hetero group; a, d, and w independently=1 to 4; b+c=2a+2; b=1 to 2a+1; c=1 to 2a+1; e+f=2d+2; e=1 to 2d+1; f=1 to 2d+1; x+y+z=2w+2; and R1 and R2 may be joined to form a nitrogen-containing heterocycle.

  本发明涉及一种合成氨基（卤）硅烷的方法，包括以下步骤：将具有SiaHbXc式的卤硅烷与具有SidHe（NR1R2）f式的氨基硅烷反应，以产生具有SiwHxXy（NR1R2）z式的氨基（卤）硅烷，其中X = Br或I；每个R1和R2独立地选自C1-C10烷基，芳基或杂原子基团；a，d和w独立地= 1至4；b + c = 2a + 2；b = 1至2a + 1；c = 1至2a + 1；e + f = 2d + 2；e = 1至2d + 1；f = 1至2d + 1；x + y + z = 2w + 2；R1和R2可以连接以形成含氮杂环。
• AMINO(BROMO)SILANE PRECURSORS FOR ALD/CVD SILICON-CONTAINING FILM APPLICATIONS AND METHODS OF USING THE SAME
  申请人：American Air Liquide, Inc.

  公开号：US20160108064A1

  公开（公告）日：2016-04-21

  Disclosed are Si-containing film forming compositions, methods of synthesizing the same, and methods of using the same to deposit silicon-containing films using vapor deposition processes. The disclosed Si-containing film forming composition comprising an amino(bromo)silane precursor having the formula: SiH x Br y (NR 1 R 2 ) 4-x-y wherein x=0, 1 or 2; y=1, 2 or 3; x+y<4; each R 1 and R 2 is independently selected from C 1 -C 6 alkyl, aryl, or hetero group; and R 1 and R 2 may be joined to form a cyclic nitrogen-containing heterocycle. The disclosed Si-containing film forming compositions includes an amino(bromo)silane precursor selected from the group consisting of SiH 2 Br(NEt 2 ), SiH 2 Br(N(iPr) 2 ), SiH 2 Br(N(iBu) 2 ) and SiBr(NMe 2 ) 3 .

  本发明涉及含硅薄膜形成组合物、其合成方法以及使用它们通过蒸发沉积工艺沉积含硅薄膜的方法。所述含硅薄膜形成组合物包括具有以下式子的氨基（溴）硅烷前体：SiHxBry（NR1R2）4-x-y，其中x=0、1或2；y=1、2或3；x+y<4；每个R1和R2独立地选自C1-C6烷基、芳基或杂原子基团；R1和R2可以结合形成含氮杂环。所述含硅薄膜形成组合物包括从SiH2Br（NEt2）、SiH2Br（N（iPr）2）、SiH2Br（N（iBu）2）和SiBr（NMe2）3组成的氨基（溴）硅烷前体。
• HENSEN K.; PICKEL P., LIEBIGS ANN. CHEM., 1980, NO 2, 223-228
  作者：HENSEN K.、 PICKEL P.

  DOI：——

  日期：——