1,3,3-Trimethyl-1,3-disilapropan | 18148-13-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机盐 - 有机金属盐
• 英文名称: 1,3,3-Trimethyl-1,3-disilapropan
• 英文别名: 2-Methyl-2,4-disilapentan；dimethyl(methylsilylmethyl)silane
• CAS: 18148-13-5
• 化学式: C₄H₁₄Si₂
• 分子量: 118.326
• InChiKey: JQLHOYGYUAMAFN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.65
• 重原子数：
  6
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

安全信息

• 海关编码：
  2931900090

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  α-Bromdimethylsilan 生成 1,3,3-Trimethyl-1,3-disilapropan
  参考文献：
  名称：

  氯硅烷与（氢甲硅烷基）烷基格氏试剂的反应

  摘要：

  氯硅烷被（氢甲硅烷基）甲基，-乙基和-丙基格氏试剂还原。动力学研究表明，还原反应在氯硅烷中是一阶还原反应，在格氏试剂中是二阶还原反应。结论是，对于（氢甲硅烷基）甲基化合物，氢的不稳定性是由于相邻亚甲基的电子给体引起的，而对于（氢甲硅烷基）乙基和-丙基化合物中，亚甲基参与的相邻基团可能在弱化硅氢键方面发挥了一定作用。

  DOI：

  10.1016/s0022-328x(00)86606-1

文献信息

• Silyl and silylmethyl radicals, silylenes, sila-alkenes, and small ring silacycles in reactions of organochlorosilanes with alkali metal vapours
  作者：L.E. Gusel'nikov、Yu.P. Polyakov、E.A. Volnina、N.S. Nametkin

  DOI：10.1016/0022-328x(85)87334-4

  日期：1985.9

  ClCH2Si(H)MeCl (XIII), ClCH2SiM2Cl (XIV), ClMe2SiSiMe2Cl (XV), ClCH2CH2CH2Si(H)MeCl (XVI), ClCH2CH2CH2SiMe2Cl (XVII), ClCH2CH2OSiMe2Cl (XVIII), ClMe2SiCH2SiMe2Cl (XIX), ClMe2SiCH2CH2SiMe2Cl (XX), and ClMe2SiCH2CH2CH2SiMe2Cl (XXI) with K/Na alloy vapours at 0.1–1 Torr and 300–320°C yields products derived from the reactions of short-lived intermediates, such as silyl and silylmethyl radicals, silylenes

  有机氯硅烷Me 3 SiCl（I），Me 2 PrSiCl（II），Me 3 SiSiMe 2 Cl（III），Me 3 SiCH 2 SiMe 2 Cl（IV），ClCH 2 SiMe 3（V），ClCH 2 SiMe 2的脱卤SiMe 3（VI），ClCH 2 Me 2 SiSiMe 2 CH 2 Cl（VII），Me 2 SiCl 2（VIII），MePrSiCl 2（IX），Me 3 SiCH 2 SiMeCl 2（X），Me 2 SiCH2 CH 2 SiMeCl 2（XI），Me 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 SiMeCl 2（XII），ClCH 2 Si（H）MeCl（XIII），ClCH 2 SiM 2 Cl（XIV），ClMe 2 SiSiMe 2 Cl（XV） ），ClCH 2 CH 2 CH 2 Si（H）MeCl（XVI），ClCH 2 CH 2 CH 2 SiMe
• Disilane Cleavage with Selected Alkali and Alkaline Earth Metal Salts
  作者：Tobias Santowski、Alexander G. Sturm、Kenrick M. Lewis、Thorsten Felder、Max C. Holthausen、Norbert Auner

  DOI：10.1002/chem.201902722

  日期：2019.10.11

  production chain. In this work, disilane cleavage by using alkali and alkaline earth metal salts is reported. The reaction with metal hydrides, in particular lithium hydride (LiH), leads to efficient reduction of chlorine containing disilanes but also induces disproportionation into mono‐ and oligosilanes. Alkali and alkaline earth chlorides, formed in the course of the reduction, specifically induce

  在Müller-Rochow直接工艺中工业规模生产甲基氯甲硅烷伴随着残渣的形成，即直接工艺残渣（DPR），由乙硅烷Me n Si 2 Cl 6- n（n= 1–6）。已经将大量的研究努力致力于将这些二硅烷再循环到甲硅烷中，以允许重新引入硅氧烷生产链中。在这项工作中，报道了通过使用碱金属和碱土金属盐裂解乙硅烷。与金属氢化物特别是氢化锂（LiH）的反应可有效还原含氯的乙硅烷，但也会引起歧化成单硅烷和低硅烷。在还原过程中形成的碱金属和碱土金属氯化物会特别引起高度氯化的乙硅烷歧化，而高度甲基化的乙硅烷（n > 3）仍未反应。在氯化锂的存在下，通过使用浓盐酸/乙醚溶液，几乎可以将DPR转化为甲硅烷。
• FRITZ G.; MAAS J.; HORNUNG A., Z. ANORG. UND ALLG. CHEM., 1980, 460, NO 1, 115-143
  作者：FRITZ G.、 MAAS J.、 HORNUNG A.

  DOI：——

  日期：——
• GUSELNIKOV, L. E.;POLYAKOV, YU. P.;VOLNINA, E. A.;NAMETKIN, N. S., J. ORGANOMET. CHEM., 1985, 292, N 1-2, 189-203
  作者：GUSELNIKOV, L. E.、POLYAKOV, YU. P.、VOLNINA, E. A.、NAMETKIN, N. S.

  DOI：——

  日期：——
• The reactions of chlorosilanes with (hydrosilyl)alkyl grignard reagents
  作者：A.W.P. Jarvie、R.J. Rowley

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)86606-1

  日期：1973.9

  Chlorosilanes are reduced by (hydrosilyl)methyl, -ethyl and -propyl Grignard reagents. Kinetic studies demonstrate that the reduction is first order in chlorosilane and second order in Grignard reagent, and it is concluded that for the (hydrosilyl)methyl compounds the lability of the hydrogen is due to electron donation from the adjacent methylene group, whereas for the (hydrosilyl)ethyl and -propyl

  氯硅烷被（氢甲硅烷基）甲基，-乙基和-丙基格氏试剂还原。动力学研究表明，还原反应在氯硅烷中是一阶还原反应，在格氏试剂中是二阶还原反应。结论是，对于（氢甲硅烷基）甲基化合物，氢的不稳定性是由于相邻亚甲基的电子给体引起的，而对于（氢甲硅烷基）乙基和-丙基化合物中，亚甲基参与的相邻基团可能在弱化硅氢键方面发挥了一定作用。