摘要:
本文揭示了用于沉积高纯度氧化锡的化合物。还披露了使用这些化合物进行氧化锡薄膜沉积的方法。这些薄膜表现出高一致性、高刻蚀选择性并具有光学透明性。这些化合物的化学式如下:Rx-Sn-A4-x,其中:A选自(YaR'z)和含有3至7个成员的含氮杂环基团的群;每个R基独立地选自具有1至10个碳原子的烷基或芳基群;每个R'基独立地选自具有1至10个碳原子的烷基、酰基或芳基群;x为0至4的整数;a为0至1的整数;Y选自N、O、S和P的群;z为1(当Y为O、S或Y不存在时)或z为2(当Y为N或P时)。