dimethylgallium | 106693-86-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机过渡后金属化合物
• 英文名称: dimethylgallium
• 英文别名: Gallium, dimethyl-
• CAS: 106693-86-1
• 化学式: C₂H₆Ga
• 分子量: 99.7926
• InChiKey: IGOGAEYHSPSTHS-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.79
• 重原子数：
  3
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  dimethylgallium 、 1,3,5,7,9,11,14-heptacyclopentyltricyclo[7.3.3.15,11]heptasiloxane-endo-3,7,14-triol 以 甲苯 为溶剂， 以49%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  Gerritsen, Gijsbert; Duchateau, Robbert; Santen, Rutger A. van, Organometallics, 2003, vol. 22, p. 100 - 110

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  三甲基镓 以 gas 为溶剂， 生成 氢化镓 、 甲基镓 、 dimethylgallium
  参考文献：
  名称：

  三甲基镓在193 nm处的激光光解：用于甲基自由基和乙烷生产的量子产率

  摘要：

  三甲基镓（TMG）光解产物的量子产率是通过一种新的方法确定的，该方法涉及使用TMG-丙酮-d 6混合物进行同位素分析。获得了以下与模型有关的量子产率：单甲基镓（MMG），0.5；单甲基镓（MMG），0.5。二甲基镓（DMG），0.2；镓0.3; 分子消除的乙烷0.3; 游离甲基1.5。发现了在216和220 nm处的两种新的电子吸收，并暂时归因于DMG *。

  DOI：

  10.1016/0009-2614(90)85050-m

文献信息

• Photolysis of group III (Al, Ga, In) trimethyl compounds: Detection of organic photofragments CH3 and C2H6 by picosecond laser mass spectroscopy
  作者：Th. Beuermann、M. Stuke

  DOI：10.1016/0009-2614(91)87056-h

  日期：1991.3

  The metal alkyls trimethylaluminum (TMA), trimethylgallium (TMG) and trimethylindium (TMI) were decomposed under collision-free conditions by tunable UV laser light in the range 190-310 nm and the photoproducts detected by laser mass spectroscopy using short and ultrashort laser pulses. At moderate laser fluences, these compounds decompose via a one-photon process. The simple separation of one or two methyl ligands leads to the metal-dimethyl radical (Al(CH3)2, Ga(CH3)2, In(CH3)2), and the metal-monomethyl radical (AlCH3, GaCH3, InCH3) as photoproducts. The vibronically excited metal-dimethyl radical can further decay - without the absorption of additional photons - into the metal atom plus ethane molecule. This has been proved for the first time by laser mass-spectroscopic detection of the ethane molecule as being a direct photoproduct of the investigated trialkyls. The quantum yields for the wavelength-dependent fragmentation are presented.
• Laser photolysis of trimethylgallium at 193 nm: Quantum yields for methyl radical and ethane production
  作者：W. Braun、R. Klein、A. Fahr、H. Okabe、A. Mele

  DOI：10.1016/0009-2614(90)85050-m

  日期：1990.3

  products from trimethylgallium (TMG) photolysis were determined via a new method involving isotopic analysis using TMG-acetone-d6 mixtures. The following model-dependent quantum yields were obtained: monomethylgallium (MMG), 0.5; dimethylgallium (DMG), 0.2; gallium, 0.3; molecularly eliminated ethane, 0.3; free methyl, 1.5. Two new electronic absorptions at 216 and 220 nm were found and are tentatively ascribed

  三甲基镓（TMG）光解产物的量子产率是通过一种新的方法确定的，该方法涉及使用TMG-丙酮-d 6混合物进行同位素分析。获得了以下与模型有关的量子产率：单甲基镓（MMG），0.5；单甲基镓（MMG），0.5。二甲基镓（DMG），0.2；镓0.3; 分子消除的乙烷0.3; 游离甲基1.5。发现了在216和220 nm处的两种新的电子吸收，并暂时归因于DMG *。
• Gerritsen, Gijsbert; Duchateau, Robbert; Santen, Rutger A. van, Organometallics, 2003, vol. 22, p. 100 - 110
  作者：Gerritsen, Gijsbert、Duchateau, Robbert、Santen, Rutger A. van、Yap, Glenn P. A.

  DOI：——

  日期：——