3,9-Bis[2-(4,6-diamino-1,3,5-triazin-2-yl)ethyl]spiro[5.5]undecane-2,4,8,10-tetrone

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 三嗪类
• 英文名称: 3,9-Bis[2-(4,6-diamino-1,3,5-triazin-2-yl)ethyl]spiro[5.5]undecane-2,4,8,10-tetrone
• 英文别名: 3,9-bis[2-(4,6-diamino-1,3,5-triazin-2-yl)ethyl]spiro[5.5]undecane-2,4,8,10-tetrone
• 化学式: C₂₁H₂₆N₁₀O₄
• 分子量: 482.5
• InChiKey: LSCYSSYUBYLBIU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -1.4
• 重原子数：
  35
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.52
• 拓扑面积：
  250
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  14

文献信息

• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, CURED FILM AND PRODUCTION PROCESS THEREOF, AND ELECTRONIC PART
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US20140234777A1

  公开（公告）日：2014-08-21

  It is an object of the present invention to improve the curability of a resin composition and a photosensitive composition suitably employed to form e.g., a surface protecting film and an interlaminar insulating film of e.g., an electronic part, while reducing the internal stress remaining in a substrate when the composition is used to form a cured film on the substrate. The photosensitive composition includes a resin (A) having a phenolic hydroxyl group, a crosslinking agent (B1) having at least two oxazoline groups and a crosslinking agent (B2) having at least two groups represented by —CH 2 OR (wherein R is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an acetyl group) and a photosensitive acid-generating agent (C).

  本发明的目的是提高树脂组合物和光敏组合物的可固化性，适用于形成电子部件的表面保护膜和层间绝缘膜等，同时在组合物用于在基板上形成固化膜时减少基板中剩余的内部应力。光敏组合物包括具有酚羟基的树脂(A)，至少具有两个噁唑烷基的交联剂(B1)，至少具有两个由—CH2OR（其中R是氢原子，具有1至10个碳原子的烷基或乙酰基）表示的基团的交联剂(B2)和光敏酸发生剂(C)。
• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RESIN FILM HAVING PATTERN, RESIN FILM HAVING PATTERN, AND SEMICONDUCTOR CIRCUIT SUBSTRATE
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US20210286262A1

  公开（公告）日：2021-09-16

  A photosensitive resin composition contains: a polymer (A) having a terminal group represented by Formula (a1) and a repeating structural unit represented by Formula (a2); a crosslinking agent (B); and a photocation generator (C). Y represents a reactive group that reacts with the crosslinking agent (B) by action of a cation generated from the photocation generator (C) upon light irradiation; each X independently represents an oxygen atom, a sulfur atom, an ester bond, an amide bond, or —SO 2 —; R 1 represents a divalent hydrocarbon group or a divalent group in which a functional group other than the reactive group and heterocycles is introduced into the divalent hydrocarbon group; and R 2 represents a divalent hydrocarbon group, a divalent group in which a functional group other than the reactive group and heterocycles is introduced into the divalent hydrocarbon group, or a heterocycle-containing group that does not have the reactive group. —X—R 1 —Y  (a1) R 2 —X—R 1 —X (a2)
• US9541827B2
  申请人：——

  公开号：US9541827B2

  公开（公告）日：2017-01-10
• [EN] PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERNED RESIN FILM, PATTERNED RESIN FILM, AND SEMICONDUCTOR CIRCUIT SUBSTRATE<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM DE RÉSINE À MOTIFS, FILM DE RÉSINE À MOTIFS ET SUBSTRAT DE CIRCUIT À SEMI-CONDUCTEURS<br/>[JA] 感光性樹脂組成物、パターンを有する樹脂膜の製造方法、パターンを有する樹脂膜、および半導体回路基板
  申请人：JSR CORP

  公开号：WO2020021827A1

  公开（公告）日：2020-01-30

  下記式（ａ１）に示す末端基と、下記式（ａ２）に示す繰り返し構造単位とを有する重合体（Ａ）、架橋剤（Ｂ）、および光カチオン発生剤（Ｃ）を含有する感光性樹脂組成物。　［式（ａ１）および式（ａ２）中、Ｙは、光照射により前記光カチオン発生剤（Ｃ）から発生するカチオンの作用により、前記架橋剤（Ｂ）と反応する反応性基を示し；Ｘは、それぞれ独立に酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合または－ＳＯ2－を示し；Ｒ1は、２価の炭化水素基、または前記２価の炭化水素基において前記反応性基および複素環以外の官能基が導入された２価の基を示し；Ｒ2は、２価の炭化水素基、前記２価の炭化水素基において前記反応性基および複素環以外の官能基が導入された２価の基、または前記反応性基を有さない複素環含有基を示す。］
• [EN] PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE<br/>[JA] 感光性樹脂組成物
  申请人：JSR CORP

  公开号：WO2020217699A1

  公开（公告）日：2020-10-29

  本発明の課題は、低誘電率且つ低誘電正接で、環境の温度変化に対して伸び性の変化が小さい絶縁膜を形成可能な感光性樹脂組成物を提供することにある。本発明の感光性樹脂組成物は、式（ａ１）に示す構造単位（ａ１）を有する重合体（Ａ）、架橋剤（Ｂ）、および光カチオン発生剤（Ｃ）を含有する。 ［Ｒ1は、非置換もしくは置換の含窒素複素芳香族環、または非置換もしくは置換の芳香族炭化水素環であり；Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に非置換または置換の芳香族炭化水素環であり；Ｒ4は、非置換または置換の炭素数２～２０のアルキル基であり；Ｒ5は、非置換または置換の炭素数１～２０のアルキル基であり；Ｘは、それぞれ独立に酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合、または－ＳＯ2－である。］