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4-carboxyphenyl-4'-carboxybenzoate | 85763-38-8

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
4-carboxyphenyl-4'-carboxybenzoate
英文别名
4-(4-Carboxyphenoxy)carbonylbenzoic acid
4-carboxyphenyl-4'-carboxybenzoate化学式
CAS
85763-38-8
化学式
C15H10O6
mdl
——
分子量
286.241
InChiKey
QVRLAEPVGADHJB-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.6
  • 重原子数:
    21
  • 可旋转键数:
    5
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    101
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    6

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    参考文献:
    名称:
    SPANSWICK, JAMES;KUHLMANN, GEORGE E.
    摘要:
    DOI:
  • 作为产物:
    描述:
    4-甲酰基苯基4-甲酰基苯甲酸sodium chloritesodium dihydrogenphosphate 作用下, 以 叔丁醇 为溶剂, 反应 5.0h, 以79%的产率得到4-carboxyphenyl-4'-carboxybenzoate
    参考文献:
    名称:
    歯科用接着性組成物
    摘要:
    【课题】在不降低对牙釉质等亲和性的情况下,提供高粘接强度的牙科粘接组成物。【解决手段】包含一般式(1)所示的可聚合单体和含有酸性基团的可聚合单体的组成物。〔X是二价基团;Ar1和Ar2分别是独立选择的二至四价的芳香基团;L1和L2分别是独立选择的主链含有2至60个原子的二至四价的碳氢基团;R1和R2分别是独立选择的H或甲基;另外,m1、m2、n1和n2分别是独立选择1至3的整数〕【选择图】无
    公开号:
    JP2017149660A
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文献信息

  • 歯科用接着性組成物
    申请人:株式会社トクヤマデンタル
    公开号:JP2017149660A
    公开(公告)日:2017-08-31
    【課題】歯質などへの親和性を低下させず、高い接着強度の歯科用接着性組成物の提供。【解決手段】一般式(1)に示す重合性単量体と、酸性基含有重合性単量体とを含む組成物。〔Xは2価の基;Ar1及びAr2は各々独立に2〜4価の芳香族基;L1及びL2は各々独立に主鎖の原子数が2〜60で、2〜4価の炭化水素基;R1及びR2は各々独立にH又はメチル基;また、m1、m2、n1およびn2は各々独立に1〜3の整数〕【選択図】なし
    【课题】在不降低对牙釉质等亲和性的情况下,提供高粘接强度的牙科粘接组成物。【解决手段】包含一般式(1)所示的可聚合单体和含有酸性基团的可聚合单体的组成物。〔X是二价基团;Ar1和Ar2分别是独立选择的二至四价的芳香基团;L1和L2分别是独立选择的主链含有2至60个原子的二至四价的碳氢基团;R1和R2分别是独立选择的H或甲基;另外,m1、m2、n1和n2分别是独立选择1至3的整数〕【选择图】无
  • NOVEL COMPOUND, POLYIMIDE RESIN AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING METHOD AND METHOD OF FORMING CURED FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, SURFACE PROTECTIVE FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT
    申请人:International Business Machines Corporation
    公开号:US20210317270A1
    公开(公告)日:2021-10-14
    Provided is a compound that can be used as a base resin for a photosensitive resin composition. The photosensitive resin can form a fine pattern and can achieve high resolution without impairing mechanical strength and solubility. The compound is represented by the general formula (1): wherein Z represents a linear, branched or cyclic divalent hydrocarbon group having 2 to 30 carbon atoms; X 1 to X 3 represent any of —CO 2 —, —CONR X1 —, —O—, —NR X1 —, —S—, —SO 2 —, —SO 3 — and —SO 2 NR X1 — and may be the same as or different from each other, provided that R X1 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms; Ar represents a divalent aromatic group having 2 to 30 carbon atoms; L 1 and L 2 independently represent a divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms; and x and y are each independently 0 or 1.
    提供的是一种可以用作光敏树脂组合物的基树脂的化合物。这种光敏树脂可以形成精细图案,并且可以在不影响机械强度和溶解性的情况下实现高分辨率。该化合物由通式(1)表示:其中Z代表具有2到30个碳原子的线性、支链或环状二价碳氢基团;X1到X3代表任何一种—CO2—、—CONRX1—、—O—、—NRX1—、—S—、—SO2—、—SO3—和—SO2NRX1—中的一种,并且它们可以相同也可以不同,只要RX1是氢原子或具有1到30个碳原子的一价碳氢基团;Ar代表具有2到30个碳原子的二价芳香基团;L1和L2分别代表具有1到30个碳原子的二价碳氢基团;x和y分别独立地为0或1。
  • PROCESS FOR PREPARING AN ORGANIC ACID OR ITS DERIVATIVES USING A HOMOGENEOUS MC-TYPE CATALYST AND AN O2/CO2 MIXTURE
    申请人:Yoo Jin S.
    公开号:US20080091043A1
    公开(公告)日:2008-04-17
    The present invention relates to a process for producing an organic acid or its derivatives, which comprises oxidation of a hydrocarbon substrate in the presence of a homogeneous MC-type catalyst and an oxidant. In particular, the present invention relates to a process comprising oxidation of a hydrocarbon substrate in the presence of a homogeneous MC-type catalyst selected from Co/Br, Mn/Br, Co/Mn/Br and Co/Mn/M/Br and an O 2 /CO 2 mixed gas oxidant where the partial pressure of O 2 is controlled to 30-40%, thereby improving the oxidation rate, the conversion, the selectivity and the yield even under milder conditions. Especially, the present invention remarkably reduces down to a negligible level the production of color impurities and other impurities such as 4-CBA and p-toluic acid, which had been conventionally removed by hydrogenation reduction. Further, the loss in acetic acid solvent due to combustion can also be drastically decreased using the method of the present invention.
    本发明涉及一种生产有机酸或其衍生物的方法,其中在均相MC型催化剂和氧化剂的存在下氧化碳氢化合物底物。特别地,本发明涉及一种方法,其中在氧化碳氢化合物底物的存在下,在选择自Co/Br、Mn/Br、Co/Mn/Br和Co/Mn/M/Br的均相MC型催化剂和O2/CO2混合氧化剂的情况下,控制O2的分压为30-40%,从而在较温和的条件下提高氧化速率、转化率、选择性和产率。特别地,本发明显著降低到可以忽略不计的水平,如4-CBA和对甲苯酸等色杂质和其他杂质的产生,这些杂质通常通过氢化还原去除。此外,使用本发明的方法还可以大大减少由于燃烧而导致的乙酸溶剂损失。
  • Stretched film structure of the poly-1,3-phenylene terephthalate type
    申请人:MITSUI PETROCHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
    公开号:EP0052927A2
    公开(公告)日:1982-06-02
    A monoaxially or biaxially stretched film structure, or a heat-set structure thereof, of an unstretched film of an aromatic polyester having an intrinsic viscosity, determined in p-chlorophenol at 50°C, of 0.4 to 2.0 and composed of [A] polybasic carboxylic acid component units consisting of terephthalic acid units (a1) and units (a2) of a polybasic carboxylic acid otherthan terephthalic acid, the proportion of the units (a2) being up to 25 mole% based on the units (a,) and units (a2) combined, and [B] polyol component units consisting of resorcinol units (b1) and units (b2) of a polyol other than resorcinol, the proportion of the units (b2) being up to 25 mole% based on the units (b1) and (b2) combined.
    一种单轴或双轴拉伸薄膜结构,或其热固结构,由芳香族聚酯的未拉伸薄膜组成,其固有粘度(在对氯苯酚中于 50℃测定)为 0.4 至 2.A] 由对苯二甲酸单元(a1)和对苯二甲酸以外的多基性羧酸单元(a2)组成的多基性羧酸组分单元,单元(a2)的比例为单元(a. )和单元(a2)总和的 25 摩尔%、)和单元(a2)的总和,单元(a2)的比例不超过 25 摩尔%,以及 [B] 由间苯二酚单元(b1)和间苯二酚以外的多元醇单元(b2)组成的多元醇组分单 元,单元(b2)的比例不超过 25 摩尔%,单元(b1)和单元(b2)的总和。
  • Thermotropic aromatic polyester
    申请人:UBE INDUSTRIES, LTD.
    公开号:EP0417651A2
    公开(公告)日:1991-03-20
    A thermotropic aromatic polyester comprising (a) an aromatic dicarbonyl ingredient comprising recurring aromatic units of the formulae (I) and/or (II): and, optionally, other recurring aromatic dicarbonyl units, (b) an aromatic dioxy ingredient comprising recurring aromatic units of the formula (III) wherein R=-H, C₁₋₈ alkyl, aryl or Halogen atom, and optionally, (c) an aromatic oxycarbonyl ingredient comprising recurring aromatic oxycarbonyl units, of, for example, the formula (IV):
    一种热致性芳香族聚酯,包括(a)由式(I)和/或(II)中的递归芳香族单元组成的芳香族二羰基成分 (b) 一种芳香族二羰基成分,由式(III)的重复芳香族单元组成 其中 R=-H、C₁₋₈烷基、芳基或卤原子,以及 (c) 由例如式 (IV) 的重复芳香氧羰基单元组成的芳香氧羰基成分:
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