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tris(trimethylsilyl)methane | 80395-51-3

中文名称
——
中文别名
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英文名称
tris(trimethylsilyl)methane
英文别名
Silane, [(dimethylphenylsilyl)methylidyne]tris[trimethyl-;dimethyl-phenyl-[tris(trimethylsilyl)methyl]silane
<dimethyl(phenyl)silyl>tris(trimethylsilyl)methane化学式
CAS
80395-51-3
化学式
C18H38Si4
mdl
——
分子量
366.842
InChiKey
BAFNAOFIFUCHDX-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    5.97
  • 重原子数:
    22
  • 可旋转键数:
    5
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.67
  • 拓扑面积:
    0
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    0

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    tris(trimethylsilyl)methane 作用下, 以 四氯化碳 为溶剂, 反应 216.0h, 以40%的产率得到(tris(trimethylsilyl)methyl)dimethylbromosilane
    参考文献:
    名称:
    (ME的反应3 Si)的3 CSiMe 2结式(R =CHCH 2 CH 2 CHCH 2,CCPh,Ph和CH 2与亲电的pH)
    摘要:
    形成在TsiSiMe的反应除了多重键的没有产品2 - [R物种(TSI =(ME 3 Si)的3 C; R 1 =CHCH 2,CH 2 CHCH 2,或(CCPh)用卤素TsiSiMe 2 CH = CH 2产生(a)在CCl 4中用ICl处理的TsiSiMe 2 Cl ;(b)在CCl 4中用Br 2处理的TsiSiMe 2 Br ;(c)在TclSiMe 2 I(缓慢)用I 2在CCl 4和(d)TsiSiMe 2 OCOCF 3中进行处理上用纯CF治疗3 CO 2 H. TsiSiMe 2 CH 2 CHCH 2,得到:(1)TsiSiMe 2 Cl和TsiSiMe 2我与ICl的四氯化碳中处理4 ; (b)在CCl 4中用Br 2处理的TsiSiMe 2 Br ;(c)用CCl 2中的I 2处理的TsiSiMe 2 I ;及(d)TsiSiMe 2 OCOCF 3迅速上用纯CF治疗3
    DOI:
    10.1016/0022-328x(85)80199-6
  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    [二甲基(苯基)甲硅烷基]三(三甲基甲硅烷基)甲烷的分子结构
    摘要:
    拥挤分子(Me 3 Si)3 C(SiMe 2 Ph)的结构已通过单晶X射线衍射确定。立体应变清单本身主要是在我的延长3 SiC和Me 2 PhSiC键(平均长度1.920(6) )和关闭CSiC的了我内角3的Si和Me 2 PHSI基团(平均105.2(10)°),具有相应的大C(1)SiC角(113.5(13)°; C(1)是中心碳原子)。
    DOI:
    10.1016/s0022-328x(00)81024-4
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文献信息

  • Eaborn, Colin; Lickiss, Paul D.; Ramadan, Nazmi A., Journal of the Chemical Society. Perkin transactions II, 1984, # 2, p. 267 - 270
    作者:Eaborn, Colin、Lickiss, Paul D.、Ramadan, Nazmi A.
    DOI:——
    日期:——
  • EABORN, C.;LICKISS, P. D.;RAMADAN, NAZMI, A., J. CHEM. SOC. PERKIN TRANS., 1984, N 2, 267-270
    作者:EABORN, C.、LICKISS, P. D.、RAMADAN, NAZMI, A.
    DOI:——
    日期:——
  • DAMJA, R. I.;EABORN, C.;SHAM, WING-CHEONG, J. ORGANOMET. CHEM., 1985, 291, N 1, 25-33
    作者:DAMJA, R. I.、EABORN, C.、SHAM, WING-CHEONG
    DOI:——
    日期:——
  • Reactions of (Me3Si)3CSiMe2R compounds (R = CHCH2 CH2CHCH2, CCPh, Ph, and CH2Ph) with electrophiles
    作者:Ramadan I. Damja、Colin Eaborn、Wing-Cheong Sham
    DOI:10.1016/0022-328x(85)80199-6
    日期:1985.8
    No products of addition to the multiple bond are formed in reactions of TsiSiMe2R species (Tsi = (Me3Si)3C; R = CHCH2, CH2CHCH2, or (CCPh) with halogens or hydrogen halides. TsiSiMe2CHCH2 gave (a) TsiSiMe2Cl on treatment with ICl in CCl4; (b) TsiSiMe2Br on treatment with Br2 in CCl4; (c) TsiSiMe2I (slowly) on treatment with I2 in CCl4 and (d) TsiSiMe2OCOCF3 on treatment with neat CF3CO2H. TsiSiMe2CH2CHCH2
    形成在TsiSiMe的反应除了多重键的没有产品2 - [R物种(TSI =(ME 3 Si)的3 C; R 1 =CHCH 2,CH 2 CHCH 2,或(CCPh)用卤素TsiSiMe 2 CH = CH 2产生(a)在CCl 4中用ICl处理的TsiSiMe 2 Cl ;(b)在CCl 4中用Br 2处理的TsiSiMe 2 Br ;(c)在TclSiMe 2 I(缓慢)用I 2在CCl 4和(d)TsiSiMe 2 OCOCF 3中进行处理上用纯CF治疗3 CO 2 H. TsiSiMe 2 CH 2 CHCH 2,得到:(1)TsiSiMe 2 Cl和TsiSiMe 2我与ICl的四氯化碳中处理4 ; (b)在CCl 4中用Br 2处理的TsiSiMe 2 Br ;(c)用CCl 2中的I 2处理的TsiSiMe 2 I ;及(d)TsiSiMe 2 OCOCF 3迅速上用纯CF治疗3
  • The molecular structure of [dimethyl(phenyl)silyl]tris(trimethylsilyl)methane
    作者:Colin Eaborn、Peter B. Hitchcock、Paul D. Lickiss
    DOI:10.1016/s0022-328x(00)81024-4
    日期:1981.11
    The structure of the crowded molecule (Me3Si)3C(SiMe2Ph) has been determined by single crystal X-ray diffraction. The steric strain manifest itself mainly in lengthening of the Me3SiC and Me2PhSiC bonds (average length 1.920(6) ) and closing up of the CSiC angles within the Me3Si and Me2PhSi groups (average 105.2(10)°), with correspondingly large C(1)SiC angles (113.5(13)°; C(1) is the central
    拥挤分子(Me 3 Si)3 C(SiMe 2 Ph)的结构已通过单晶X射线衍射确定。立体应变清单本身主要是在我的延长3 SiC和Me 2 PhSiC键(平均长度1.920(6) )和关闭CSiC的了我内角3的Si和Me 2 PHSI基团(平均105.2(10)°),具有相应的大C(1)SiC角(113.5(13)°; C(1)是中心碳原子)。
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