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4-(1-(4-fluorophenyl)-1-(4-hydroxyphenyl)ethyl)phenol | 741-35-5

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
4-(1-(4-fluorophenyl)-1-(4-hydroxyphenyl)ethyl)phenol
英文别名
4-[1-(4-Fluorophenyl)-1-(4-hydroxyphenyl)ethyl]phenol
4-(1-(4-fluorophenyl)-1-(4-hydroxyphenyl)ethyl)phenol化学式
CAS
741-35-5
化学式
C20H17FO2
mdl
MFCD01847906
分子量
308.352
InChiKey
LSOHKDXCUAVCFZ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    170-172 °C
  • 沸点:
    471.6±40.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.231±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.5
  • 重原子数:
    23
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.1
  • 拓扑面积:
    40.5
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    3

文献信息

  • NOVEL DIAZONAPHTHOQUINONESULFONIC ACID BISPHENOL DERIVATIVE USEFUL IN PHOTO LITHOGRAPHIC SUB MICRON PATTERNING AND A PROCESS FOR PREPARATION THEREOF
    申请人:Reddy Vummadi Venkat
    公开号:US20100081084A1
    公开(公告)日:2010-04-01
    The present invention provides novel diazonaphthoquinonesulfonic acid bisphenol derivatives. More particularly, the present invention relates to photo restive coating comprising alkali-soluble resin, a photoactive compound and a surfactant. The photoresist film prepared has less then one micron. The photoactive compound is soluble or swellable in aqueous alkaline solutions and is diazonaphthoquinonesulfonic bisphenol esters of the general formula (A), wherein DNQ represents a 2-Diazo-1-naphthoquinone-4-sulfonyl, 2-Diazo-1-naphthoquinone-5-sulfonyl, 1-Diazo-2-naphthoquinone-4-sulfonyl groups and R1 R1 represents an alkyl, aryl and substituted aryl groups. The invention also provides a process for coating and imaging the light-sensitive composition.
    本发明提供了新型二氮基磺酸生物。更具体地说,本发明涉及包括碱溶性树脂、光敏化合物和表面活性剂的光敏涂层。制备的光刻膜厚度小于1微米。光敏化合物在性碱性溶液中可溶或可膨胀,是一般式(A)中的二氮基磺酸酯,其中DNQ代表2-二氮基-1-醌-4-磺酰基、2-二氮基-1-醌-5-磺酰基、1-二氮基-2-醌-4-磺酰基基团,R1代表烷基、芳基和取代芳基基团。本发明还提供了一种涂覆和成像光敏组合物的方法。
  • Optical Element and Achromatic Lens
    申请人:Hatanaka Kunio
    公开号:US20090143560A1
    公开(公告)日:2009-06-04
    There are provided an optical element that comprises a polymer which has a structural unit derived from a specific dihydroxy compound typified by 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoro propane (bisphenol AF) and in which the relationship between a refractive index n D and an Abbe number ν D satisfies the following formula (I): n D +0.0076×ν D ≦1.78  (I) and that is used for correction of chromatic aberration, and an achromatic lens using the optical element.
    提供了一种光学元件,其包括一种聚合物,该聚合物具有从特定的二羟基化合物中导出的结构单元,该二羟基化合物以2,2-双(4-羟基苯基)-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷双酚AF)为代表,并且折射率nD和阿贝数νD之间的关系满足以下公式(I):nD+0.0076×νD≦1.78(I),并且用于矫正色差,以及使用该光学元件的消色差透镜。
  • OPTICAL DEVICE AND ACHROMATIC LENS
    申请人:Teijin Chemicals, Ltd.
    公开号:EP1947131A1
    公开(公告)日:2008-07-23
    There are provided an optical element that comprises a polymer which has a structural unit derived from a specific dihydroxy compound typified by 2,2-bis(4-hydroxyphenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoro propane (bisphenol AF) and in which the relationship between a refractive index nD and an Abbe number νD satisfies the following formula (I): nD+0.0076×νD≤1.78 and that is used for correction of chromatic aberration, and an achromatic lens using the optical element.
    提供了一种光学元件,它由一种聚合物组成,该聚合物的结构单元来源于一种特定的二羟基化合物,典型的是 2,2-双(4-羟基苯基)-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷双酚 AF),其中折射率 nD 和阿贝数 νD 之间的关系满足下式(I):nD+0.0076×νD≤1.78。 用于校正色差,以及使用该光学元件的消色差透镜。
  • NOVEL DIAZONAPHTHOQUINONESULFONIC ACID BISPHENOL DERIVATIVE USEFUL IN PHOTO LITHOGRAPHIC SUB MICRON PATTERNING AND A PROCESS FOR PREPARATION THEREOF
    申请人:Council of Scientific & Industrial Research
    公开号:EP2137140B1
    公开(公告)日:2010-11-10
  • US7700714B2
    申请人:——
    公开号:US7700714B2
    公开(公告)日:2010-04-20
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