3-Ethylthioxanthone | 84964-64-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 硫色烯
• 英文名称: 3-Ethylthioxanthone
• 英文别名: 3-Ethylthioxanthen-9-one
• CAS: 84964-64-7
• 化学式: C₁₅H₁₂OS
• 分子量: 240.326
• InChiKey: YDSUSJVDEFGZHF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.8
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.13
• 拓扑面积：
  42.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-Ethylthioxanthone 在 硫酸 、 magnesium 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 21.5h， 生成 3-Ethyl-9-(3-dimethylaminopropylidene)thioxanthene
  参考文献：
  名称：

  Potential psychotropic and antihistamine agents: 1- and 3-alkyl-9-(3-dimethylaminopropylidene)-thioxanthenes and 3-alkyl-11-piperazino-10,11-dihydrodibenzo[b,f]thiepins

  摘要：

  在钾氢氧化物和铜的存在下，3-甲基硫代苯酚和3-乙基硫代苯酚与2-碘苯甲酸和（2-碘苯基）乙酸反应，生成了酸IVab和Xab。酸IVab通过与硫酸混合物环化生成1-和3-烷基硫代黄酮（Va + VIa，Vb + VIb），通过结晶或色谱分离并通过光谱鉴定单个化合物。稍微优势的3-烷基衍生物Vab与3-二甲基氨基丙基氯化镁反应，生成三级醇VIIab，通过酸催化脱水转化为标题化合物Iab。类似地，1-乙基硫代黄酮（VIb）通过三级醇VIII生成标题化合物IX。酸Xab通过多聚磷酸环化明确生成酮XIab，通过醇XIIab转化为氯衍生物XIIIab。与1-甲基哌嗪和1-（2-羟乙基）哌嗪的取代反应导致标题化合物IIab和IIIb。制备的化合物（I-III）具有抗组胺活性，更或多或少具有中枢抑制剂作用。化合物Ib，IIb和IIIb表现出明显的癫痫样活性，而化合物Ib还表现出抗去甲肾上腺素活性。化合物IX在高剂量下仅具有中枢抑制作用，但具有抗惊厥作用和显着的镇咳作用。

  DOI：

  10.1135/cccc19823134
• 作为产物：
  描述：

  1-溴-3-乙基苯 在 铜 氢氧化钾 、 硫酸 、 magnesium 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 23.5h， 生成 3-Ethylthioxanthone
  参考文献：
  名称：

  Potential psychotropic and antihistamine agents: 1- and 3-alkyl-9-(3-dimethylaminopropylidene)-thioxanthenes and 3-alkyl-11-piperazino-10,11-dihydrodibenzo[b,f]thiepins

  摘要：

  在钾氢氧化物和铜的存在下，3-甲基硫代苯酚和3-乙基硫代苯酚与2-碘苯甲酸和（2-碘苯基）乙酸反应，生成了酸IVab和Xab。酸IVab通过与硫酸混合物环化生成1-和3-烷基硫代黄酮（Va + VIa，Vb + VIb），通过结晶或色谱分离并通过光谱鉴定单个化合物。稍微优势的3-烷基衍生物Vab与3-二甲基氨基丙基氯化镁反应，生成三级醇VIIab，通过酸催化脱水转化为标题化合物Iab。类似地，1-乙基硫代黄酮（VIb）通过三级醇VIII生成标题化合物IX。酸Xab通过多聚磷酸环化明确生成酮XIab，通过醇XIIab转化为氯衍生物XIIIab。与1-甲基哌嗪和1-（2-羟乙基）哌嗪的取代反应导致标题化合物IIab和IIIb。制备的化合物（I-III）具有抗组胺活性，更或多或少具有中枢抑制剂作用。化合物Ib，IIb和IIIb表现出明显的癫痫样活性，而化合物Ib还表现出抗去甲肾上腺素活性。化合物IX在高剂量下仅具有中枢抑制作用，但具有抗惊厥作用和显着的镇咳作用。

  DOI：

  10.1135/cccc19823134

文献信息

• Acid- and radical-generating agent and method for generating acid and radical
  申请人：FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation

  公开号：US10451967B2

  公开（公告）日：2019-10-22

  It is a subject of the present invention to provide an acid- and radical-generating agent which has high sensitivity to an active energy ray having a wavelength of around 300 to 450 nm, and can exert both high acid-generating performance and high radical-generating performance, and has heat resistance; and a method for generating an acid and a radical. The present invention relates to a compound represented by the general formula (A); an acid- and radical-generating agent comprising the compound; and a method for generating an acid and a radical: wherein n pieces of R1 each independently represent an alkyl group, which may have a specific functional group in the chain, or in which a hydrogen atom may be substituted by a halogen atom; an alkoxy group, in which a hydrogen atom may be substituted by a halogen atom; an aryl group or an aryloxy group, in which a hydrogen atom may be substituted by a halogen atom, an alkyl group or a haloalkyl group; or an arylalkyl group or an arylalkyloxy group, in which a hydrogen atom may be substituted by a halogen atom, an alkyl group or a haloalkyl group; n pieces of R2 and R3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxycarbonyl group; R4 to R7 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an alkenyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, a dialkylamino group or a nitro group; Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, or a carbonyl group; n pieces of Z each independently represent a sulfonyl group or an alkoxyphosphoryl group; n represents 1 or 2.

  本发明的一个目的是提供一种对波长约为300至450纳米的活性能量射线具有高灵敏度的酸和自由基生成剂，能够发挥高酸生成性能和高自由基生成性能，并具有耐热性；以及一种生成酸和自由基的方法。本发明涉及一种由通式（A）表示的化合物；包括该化合物的酸和自由基生成剂；以及生成酸和自由基的方法：其中n个R1分别独立表示一种烷基基团，该烷基基团可能在链中具有特定的功能基团，或者氢原子可能被卤原子取代；一种烷氧基团，其中氢原子可能被卤原子取代；一种芳基或芳氧基，其中氢原子可能被卤原子，烷基或卤代烷基取代；或一种芳基烷基或芳基氧基，其中氢原子可能被卤原子，烷基或卤代烷基取代；n个R2和R3分别独立表示氢原子，烷基基团或烷氧羰基团；R4到R7分别独立表示氢原子，卤原子，烷基基团，烷氧基团，烯基基团，芳基，烷氧羰基团，二烷基氨基团或硝基；Y表示氧原子，硫原子或羰基；n个Z分别独立表示磺酰基或烷氧基磷酰基；n表示1或2。
• Verfahren zur Verhinderung von Ausblüherscheinungen auf mineralischen Substraten
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0441221A1

  公开（公告）日：1991-08-14

  Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Verhinderung von Ausblüherscheinungen auf mineralischen Substraten durch Beschichten der Oberfläche der mineralischen Substrate mit wäßrigen Copolymerdispersionen und Trocknen der Beschichtung, dadurch gekennzeichnet, daß man für die Beschichtung ein Gemisch aus A) einem Copolymer mit einer Glastemperatur von -25 bis +30°C aus a) 25 bis 80 Gew.-% mindestens eines Monomeren aus der Gruppe aus Acrylestern von bis zu 20 C-Atome enthaltenden, kein tertiäres H-Atom aufweisenden Alkanolen und Vinylestern von bis zu 12 C-Atome enthaltenden Carbonsäuren, b) 0 bis 70 Gew.-% mindestens eines Monomeren aus der Gruppe aus vinylaromatischen Monomeren und Methacrylestern von bis zu 20 C-Atome enthaltenden, kein tertiäres H-Atom aufweisenden Alkanolen, c) 0 bis 19 Gew.-% eines Acryl- oder Methacrylesters von 3 bis 20 C-Atome enthaltenden, ein tertiäres H-Atom aufweisenden Alkanolen, und d) 0 bis 15 Gew.-%, wobei die Gew.-% jeweils auf die Summe der Monomeren bezogen ist, an weiteren, copolymerisierbaren olefinisch ungesättigten Verbindungen und B) 0,1 bis 5 Gew.-Teile, bezogen auf die Menge des Copolymerisats A als 100 Gew.-Teile, eines aromatischen Ketons verwendet und die Beschichtung bei oder nach ihrer Trocknung mit ultraviolettem Licht bestrahlt und einen so geschützten Betonstein.

  本发明涉及一种通过在矿物基材表面涂覆水性共聚物分散体并干燥涂层来防止矿物基材上的风化的工艺，其特征在于，对于涂层而言，下列物质的混合物将被用于防止矿物基材上的风化 A) 玻璃化转变温度为-25 至 +30°C 的共聚物 a) 25-80%（按重量计）的至少一种单体，该单体来自含 20 个碳原子且无三级 H 原子的烷醇的丙烯酸酯和含 12 个碳原子的羧酸的乙烯基酯组成的组、 b) 0-70%（重量百分比）的至少一种单体，该单体来自乙烯基芳香族单体和含 20 个碳原子且不含三级 H 原子的烷醇的甲基丙烯酸酯组成的组、 c) 0 至 19%（重量百分比）含有 3 至 20 个碳原子且具有一个三级 H 原子的烷 醇的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯，以及 d) 其他可共聚的烯烃不饱和化合物 0 至 15%（按重量计），在每种情况下，重量 百分比以单体总和为基础。 和 B) 0.1 至 5 重量份的芳香酮，以 100 重量份的共聚物 A 的量为基准 在干燥过程中或干燥后，用紫外线照射涂层，得到受保护的混凝土砌块。
• PHOTOBASE GENERATOR
  申请人：San-Apro Limited

  公开号：EP3078717A1

  公开（公告）日：2016-10-12

  Provided are a photobase generator having higher sensitivity to light than do conventional photobase generators, and a photosensitive resin composition containing the photobase generator. The present invention is a photobase generator characterized in containing a salt represented by general formula (1). (In formula (1), R1-R4 are mutually independent groups represented by general formula (2), C1-18 alkyl groups, or Ar, with at least one being a group represented by general formula (2); in formula (2), (D) is a divalent group bonded on at least one side to elemental boron, and Ar1 is the same as the aforementioned Ar; and Q+ is a monovalent onium cation.)         -(D)-Ar1     (2)

  本发明提供了一种比传统光碱发生器对光具有更高灵敏度的光碱发生器，以及一种含有该光碱发生器的光敏树脂组合物。本发明是一种光碱发生器，其特征在于含有通式（1）表示的盐。(在式(1)中，R1-R4是由通式(2)、C1-18烷基或Ar代表的相互独立的基团，其中至少有一个是由通式(2)代表的基团；在式(2)中，(D)是至少有一面与元素硼键合的二价基团，Ar1与上述Ar相同；Q+是一价鎓阳离子)。 -(D)-Ar1 (2)
• PROTIVA, M.;SEDIVY, Z.;HOLUBEK, J.;SVATEK, E.;METYSOVA, J.;BARTOSOVA, M., COLLECT. CZECH. CHEM. COMMUN., 1982, 47, N 11, 3134-3147
  作者：PROTIVA, M.、SEDIVY, Z.、HOLUBEK, J.、SVATEK, E.、METYSOVA, J.、BARTOSOVA, M.

  DOI：——

  日期：——
• ACID- AND RADICAL-GENERATING AGENT AND METHOD FOR GENERATING ACID AND RADICAL
  申请人：WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US20160342084A1

  公开（公告）日：2016-11-24

  It is a subject of the present invention to provide an acid- and radical-generating agent which has high sensitivity to an active energy ray having a wavelength of around 300 to 450 nm, and can exert both high acid-generating performance and high radical-generating performance, and has heat resistance; and a method for generating an acid and a radical. The present invention relates to a compound represented by the general formula (A); an acid- and radical-generating agent comprising the compound; and a method for generating an acid and a radical: wherein n pieces of R 1 each independently represent an alkyl group, which may have a specific functional group in the chain, or in which a hydrogen atom may be substituted by a halogen atom; an alkoxy group, in which a hydrogen atom may be substituted by a halogen atom; an aryl group or an aryloxy group, in which a hydrogen atom may be substituted by a halogen atom, an alkyl group or a haloalkyl group; or an arylalkyl group or an arylalkyloxy group, in which a hydrogen atom may be substituted by a halogen atom, an alkyl group or a haloalkyl group; n pieces of R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxycarbonyl group; R 4 to R 7 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an alkenyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, a dialkylamino group or a nitro group; Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, or a carbonyl group; n pieces of Z each independently represent a sulfonyl group or an alkoxyphosphoryl group; n represents 1 or 2.