Pyrido[1,2-b][1,2]benzoxazol-6-ium

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并异恶唑
• 英文名称: Pyrido[1,2-b][1,2]benzoxazol-6-ium
• 化学式: C11H8NO+
• 分子量: 170.19
• InChiKey: IYFYTPCIZFLNQV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  17.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

文献信息

• ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：TAKAHASHI Hidenori

  公开号：US20110318693A1

  公开（公告）日：2011-12-29

  An embodiment of the composition contains a resin (P) containing a repeating unit (A) that is configured to decompose when exposed to actinic rays or radiation to thereby generate an acid. The repeating unit (A) contains a cation structure with a monocyclic or polycyclic heterocycle containing a nitrogen atom.

  该组合物的实施例包含一种树脂（P），其中包含一个重复单元（A），当暴露于光致射线或辐射时，该单元（A）被配置为分解以产生酸。 重复单元（A）包含具有含氮杂环的单环或多环阳离子结构。
• RESIST COMPOSITION FOR SEMICONDUCTOR, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：TSUCHIMURA Tomotaka

  公开号：US20110318691A1

  公开（公告）日：2011-12-29

  An embodiment of the composition contains any of compounds of general formula (I) below: