三氯硅烷-d | 15230-61-2

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属盐
• 中文名称: 三氯硅烷-d
• 英文名称: trichlorosilane-d
• 英文别名: Deuterotrichlorosilane；trichloro(deuterio)silane
• CAS: 15230-61-2
• 化学式: Cl₃HSi
• 分子量: 136.445
• InChiKey: ZDHXKXAHOVTTAH-QYKNYGDISA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.42
• 重原子数：
  4
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  三氯硅烷-d 、 三氟化锑 在 SbCl₅ 作用下， 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 trifluorosilane-d
  参考文献：
  名称：

  SiDF3 ν4 波段的 CO2 激光斯塔克光谱：C0 旋转常数和振动诱导偶极矩

  摘要：

  摘要 将CO 2 激光斯塔克光谱应用于SiDF 3 的ν 4 (SiF 3 简并拉伸)基带。发现由振动引起的偶极矩引起的 (Δ l , Δ K ) = (2, -1) 类型的电场相关相互作用在 ν 4 振动状态下产生显着的扰动。在斯塔克光谱中观察到了几个遵循 Δ( K − l ) = ± 3 选择规则的扰动诱导的旋转跃迁，并且 C 0 旋转常数，对于对称顶分子来说很难获得，被确定为4133.55(19) 兆赫。由分析得出的振动诱导偶极矩 μ r 和普通 (2, -1) 相互作用常数 r 4 分别为 ±0.03516(13) D 和 ±1.896(52) MHz，± 符号表示 μ r 和 r 4个符号相同。乐队起源，科里奥利常数Cζ 4 和振动-旋转常数α 4 C 分别为994.302604(16) cm -1 、2210.26(20) MHz 和10.070(25) MHz。偶极矩在基态下为

  DOI：

  10.1016/0022-2852(89)90113-6
• 作为产物：
  描述：

  氘代盐酸 、 硅烷 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 三氯硅烷-d
  参考文献：
  名称：

  SiDF3 ν4 波段的 CO2 激光斯塔克光谱：C0 旋转常数和振动诱导偶极矩

  摘要：

  摘要 将CO 2 激光斯塔克光谱应用于SiDF 3 的ν 4 (SiF 3 简并拉伸)基带。发现由振动引起的偶极矩引起的 (Δ l , Δ K ) = (2, -1) 类型的电场相关相互作用在 ν 4 振动状态下产生显着的扰动。在斯塔克光谱中观察到了几个遵循 Δ( K − l ) = ± 3 选择规则的扰动诱导的旋转跃迁，并且 C 0 旋转常数，对于对称顶分子来说很难获得，被确定为4133.55(19) 兆赫。由分析得出的振动诱导偶极矩 μ r 和普通 (2, -1) 相互作用常数 r 4 分别为 ±0.03516(13) D 和 ±1.896(52) MHz，± 符号表示 μ r 和 r 4个符号相同。乐队起源，科里奥利常数Cζ 4 和振动-旋转常数α 4 C 分别为994.302604(16) cm -1 、2210.26(20) MHz 和10.070(25) MHz。偶极矩在基态下为

  DOI：

  10.1016/0022-2852(89)90113-6
• 作为试剂：
  描述：

  3-chloropropene-d5 在 dihydrogen hexachloroplatinate 三氯硅烷-d 作用下， 生成 γ-chloropropyltrichlorosilane-d6
  参考文献：
  名称：

  Direct spectroscopic study of silaolefins. Vibrational frequencies of R2SiCD2 (R = CH3, CD3) in an argon matrix

  摘要：

  DOI：

  10.1016/0022-328x(84)85163-3

文献信息

• Oxygen atom reactions with SiHCl3 in solid argon: The infrared spectrum of SiCl3OH
  作者：Amy E. Shirk、James S. Shirk

  DOI：10.1016/0022-2852(82)90095-9

  日期：1982.3

  Abstract SiCl 3 OH is identified as a major reaction product of uv photolysis of SiHCl 3 O 3 and vacuum uv photolysis of SiHCl 3 O 2 mixtures in solid argon. The ir spectrum of normal and isotopically substituted SiCl 3 OH molecules is reported. The frequencies were fitted to a general valence force field.

  摘要 SiCl 3 OH 被确定为 SiHCl 3 O 3 的紫外光解和 SiHCl 3 O 2 混合物在固体氩中的真空紫外光解的主要反应产物。报告了正常和同位素取代的SiCl 3 OH 分子的红外光谱。频率适合一般价力场。
• Process for the preparation of novel organosilicon compounds
  申请人：Union Carbide Corporation

  公开号：US04160775A1

  公开（公告）日：1979-07-10

  Organic compounds having the formula CH.sub.2 .dbd.C(R.degree.)CH.sub.3-m X.sub.m including those having alkallyl groups such as: CH.sub.2 .dbd.C(C.sub.n H.sub.2n+1)CH< and CH.sub.2 .dbd.C(C.sub.n H.sub.2n+1)CH.sub.2 --, wherein R.degree. is a monovalent hydrocarbon group are reacted with organohydrosiloxanes under hydrosilation reaction conditions to form useful organofunctional polysiloxanes. The functional groups represented by X include a hydrocarbonoxy group, a cyanohydrocarbonoxy group, an acyloxy group, a halogen atom, a hydroxy group, a cyano group or a group having the formula --OC(O)NR.sub.2 wherein R is a monovalent nitrogen-free organic radical, a divalent hydrocarbon group or hydrogen and may be the same or different throughout the same group or molecule, n is an integer of 1 to 18, m is an integer of 1 and when X is hydrocarbonoxy or acyloxy, m is 1 or 2. The very low degree (if any) of isomerization of the CH.sub.2 .dbd.C(R.degree.)CH.sub.3-m group to unreactive species during the hydrosilation reaction results in high yields of the desired organofunctional polysiloxanes in the process of the present invention.

  具有化学式CH.sub.2 .dbd.C(R.degree.)CH.sub.3-m X.sub.m的有机化合物，包括具有烷基基团的化合物，例如：CH.sub.2 .dbd.C(C.sub.n H.sub.2n+1)CH<和CH.sub.2 .dbd.C(C.sub.n H.sub.2n+1)CH.sub.2 --，其中R.degree.是一价的碳氢化合物基团，与有机氢氧化硅烷在氢硅化反应条件下反应，形成有用的有机功能性聚硅氧烷。X所代表的功能基团包括碳氢氧基团、氰基碳氢氧基团、酰氧基团、卤素原子、羟基、氰基或具有化学式--OC（O）NR.sub.2的基团，其中R是一价的无氮有机基团、双价的碳氢基团或氢，并且可以在同一基团或分子中相同或不同，n为1到18的整数，m为1的整数，当X为碳氢氧基或酰氧基时，m为1或2。在氢硅化反应过程中，CH.sub.2 .dbd.C(R.degree.)CH.sub.3-m基团向不反应的物种的异构化程度非常低（如果有的话），从而导致所需有机功能性聚硅氧烷的高产率。
• D'Errico, John J.; Sharp, Kenneth G., Inorganic Chemistry, 1989, vol. 28, # 11, p. 2177 - 2180
  作者：D'Errico, John J.、Sharp, Kenneth G.

  DOI：——

  日期：——
• Pulsed discharge jet spectroscopy of DSiF and the equilibrium molecular structure of monofluorosilylene
  作者：Warren W. Harper、David A. Hostutler、Dennis J. Clouthier

  DOI：10.1063/1.473484

  日期：1997.3.15

  The jet-cooled laser induced fluorescence excitation spectrum of the Ã 1A′′−X̃ 1A band system of DSiF has been observed using the pulsed discharge jet technique. Vibrational analysis of the spectrum yielded upper state harmonic vibrational frequencies of ω1=1322, ω2=444, and ω3=867 cm−1. Vibronic bands involving all of the upper state fundamentals of HSiF and DSiF have now been rotationally analyzed, allowing a determination of the excited state equilibrium structure as re′(SiH)=1.526±0.014 Å, re′(SiF)=1.597±0.003 Å, and θe′(HSiF)=115.0±0.6°. The harmonic frequencies and centrifugal distortion constants were used to obtain harmonic force fields and average (rz) structures for the ground and excited states. The ground state average structure was used to estimate the equilibrium structure of re″(SiH)=1.528±0.005 Å, re″(SiF)=1.603±0.003 Å, and θe″(HSiF)=96.9±0.5°.
• Reaction of 2,4,6-tri-t-butylphenyllithium with bromotrichlorosilane. Generation of trichlorosilyllithium, LiSiCl3
  作者：H. Oehme、H. Weiss

  DOI：10.1016/0022-328x(87)80359-5

  日期：1987.1