trifluorosilane-d | 14989-13-0

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属盐
• 英文名称: trifluorosilane-d
• 英文别名: Deuterio(trifluoro)silane
• CAS: 14989-13-0
• 化学式: F₃HSi
• 分子量: 87.0807
• InChiKey: WPPVEXTUHHUEIV-QYKNYGDISA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.61
• 重原子数：
  4
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  trifluorosilane-d 以 gaseous matrix 为溶剂， 生成 monofluorosilylene
  参考文献：
  名称：

  喷射冷却的 HSiF 和 DSiF 的单振动能级发射光谱

  摘要：

  利用单振动能级发射光谱技术，研究了喷射冷却的 HSiF 和 DSiF 的基态振动流形。使用三氟硅烷（HSiF3 或 DSiF3）作为前体，在脉冲放电射流中产生自由基。首次确定了两种同位素的气相基态谐波振动频率。使用振动频率和文献值对离心变形常数进行法向坐标分析可以确定所有六个基态力常数。我们之前的基态旋转常数与计算出的对 α 常数的谐波贡献相结合，以获得平均 (rz) 结构和平衡 (rez) 结构的估计。

  DOI：

  10.1063/1.1374956
• 作为产物：
  描述：

  三氟-硅烷 、 氘 在 Co⁽²⁺⁾*2H^(1-)*N₂*3P(C₆H₅)3=CoH₂(N₂)(P(C₆H₅)3)3 作用下， 以 苯 为溶剂， 生成 trifluorosilane-d
  参考文献：
  名称：

  有机硅化学。第23部分。某些甲硅烷基钴（III）配合物以及氘，氢化硅烷化和O-硅烷化反应的均相催化

  摘要：

  配合物[CoH（X 2）L 3 ]（X = H或N; L = PPh 3）与硅烷SiR 3 H反应，生成新的甲硅烷基钴（III）配合物[CoH 2（SiR 3）L 3 ] [R 3＝ F 3，MeF 2或（OEt）3 ]。描述了这些配合物的特征及其与N 2，H 2，HCl，CCl 4和CO的反应。有了CO，新的钴（I）甲硅烷基[Co（SiF 3）（CO）2 L 2] 形成了。R的电负性降低时，甲硅烷基对SiR 3 H损失的稳定性降低，这使得较不稳定的配合物参与催化过程。SiR 3 H与D 2（R = F，OEt，Et或Me），SiH（OEt）3或Me 3 Si [OSi（H）Me] n OSiMe 3与EtOH和SiH（OEt）的反应）3与1-己烯是通过[COH（X催化2）L- 3 ]或由[治疗之环2 {的Si（OET）3 } L 3 ]。氘代反应为氘代硅烷SiR 3 D提供了容易的路线。

  DOI：

  10.1039/dt9790000695

文献信息

• Actinide–Silicon Multiradical Bonding: Infrared Spectra and Electronic Structures of the Si(μ-X)AnF₃ (An = Th, U; X = H, F) Molecules
  作者：Han-Shi Hu、Fan Wei、Xuefeng Wang、Lester Andrews、Jun Li

  DOI：10.1021/ja409527u

  日期：2014.1.29

  silylene group. These silicon-bearing molecules as the lowest-energy isomer of XSiAnF3 represent the first silicon-actinide systems with unusual "triplet" silylenes and Si-An single bonds with multiradical character. They are in dramatic contrast to the uranium-carbon analogs, XC≡UF3, which form triple-bonded singlet ground states with C3v symmetry. The calculated vibrational frequencies of the Si(μ-X)AnF3

  我们报告了一系列 Si(μ-X)AnF3 (An = Th, U; X = H, F) 与硅 - 锕系 (IV) 单键和意想不到的多自由基特征形成稀有三线态亚甲硅烷的络合物。这些桥接分子是通过激光烧蚀的铀和钍原子与氟化硅的反应在微观尺度上制备的，并从氩和氖基质中的红外光谱和相对论量子化学计算中识别出来。为了比较，进行了铀与 CF4 和 CHF3 反应的类似氖基质实验。我们的密度泛函理论计算表明，具有 U(IV) 氧化态的 Si-U 单键物种 Si(μ-X)UF3 (X = H, F) 和 H 或 F 的准前桥配体是最稳定的在所有异构体中，而天真预期的具有 U(VI) 氧化态的三键物种 XSi≡UF3 和具有 U(V) 氧化态的双键物种 XSi(•)=(•)UF3 的能量明显更高。还发现来自与 XSiF3 反应的类似钍产物更喜欢具有 Si-Th 单键和桥连 H 或 F 配体的 Si(μ-X)ThF3
• CO2 laser Stark spectroscopy of the ν4 band of SiDF3: The C0 rotational constant and vibrationally induced dipole moment
  作者：Kensuke Harada、Ichirou Nagano、Susumu Kimura、Keiichi Tanaka、Takehiko Tanaka

  DOI：10.1016/0022-2852(89)90113-6

  日期：1989.11

  Abstract The CO 2 laser Stark spectroscopy was applied to the ν 4 (SiF 3 degenerate stretch) fundamental band of SiDF 3 . It was found that electric field-dependent interactions of the (Δ l , Δ K ) = (2, −1) type, caused by the vibrationally induced dipole moment, give remarkable perturbations in the ν 4 vibrational state. Several perturbation-induced rovibrational transitions obeying the Δ( K − l

  摘要 将CO 2 激光斯塔克光谱应用于SiDF 3 的ν 4 (SiF 3 简并拉伸)基带。发现由振动引起的偶极矩引起的 (Δ l , Δ K ) = (2, -1) 类型的电场相关相互作用在 ν 4 振动状态下产生显着的扰动。在斯塔克光谱中观察到了几个遵循 Δ( K − l ) = ± 3 选择规则的扰动诱导的旋转跃迁，并且 C 0 旋转常数，对于对称顶分子来说很难获得，被确定为4133.55(19) 兆赫。由分析得出的振动诱导偶极矩 μ r 和普通 (2, -1) 相互作用常数 r 4 分别为 ±0.03516(13) D 和 ±1.896(52) MHz，± 符号表示 μ r 和 r 4个符号相同。乐队起源，科里奥利常数Cζ 4 和振动-旋转常数α 4 C 分别为994.302604(16) cm -1 、2210.26(20) MHz 和10.070(25) MHz。偶极矩在基态下为
• D'Errico, John; Sharp, Kenneth G., Journal of the Chemical Society, Dalton Transactions, 1989, p. 1879 - 1882
  作者：D'Errico, John、Sharp, Kenneth G.

  DOI：——

  日期：——
• Pulsed discharge jet spectroscopy of DSiF and the equilibrium molecular structure of monofluorosilylene
  作者：Warren W. Harper、David A. Hostutler、Dennis J. Clouthier

  DOI：10.1063/1.473484

  日期：1997.3.15

  The jet-cooled laser induced fluorescence excitation spectrum of the Ã 1A′′−X̃ 1A band system of DSiF has been observed using the pulsed discharge jet technique. Vibrational analysis of the spectrum yielded upper state harmonic vibrational frequencies of ω1=1322, ω2=444, and ω3=867 cm−1. Vibronic bands involving all of the upper state fundamentals of HSiF and DSiF have now been rotationally analyzed, allowing a determination of the excited state equilibrium structure as re′(SiH)=1.526±0.014 Å, re′(SiF)=1.597±0.003 Å, and θe′(HSiF)=115.0±0.6°. The harmonic frequencies and centrifugal distortion constants were used to obtain harmonic force fields and average (rz) structures for the ground and excited states. The ground state average structure was used to estimate the equilibrium structure of re″(SiH)=1.528±0.005 Å, re″(SiF)=1.603±0.003 Å, and θe″(HSiF)=96.9±0.5°.
• Organosilicon chemistry. Part 23. Some silylcobalt(III) complexes and the homogeneous catalysis of deuteriation, hydrosilylation, and O-silylation reactions
  作者：Nicholas J. Archer、Robert N. Haszeldine、R. V. (Dick) Parish

  DOI：10.1039/dt9790000695

  日期：——

  The complexes [CoH(X2)L3](X = H or N; L = PPh3) react with silanes, SiR3H, to give the new silylcobalt(III) complexes [CoH2(SiR3)L3][R3= F3, MeF2, or (OEt)3]. The characterization of these complexes and their reactions with N2, H2, HCl, CCl4, and CO are described. With CO the new cobalt(I) silyl [Co(SiF3)(CO)2L2] is formed. The stability of the silyls to loss of SiR3H decreases as the electronegativity

  配合物[CoH（X 2）L 3 ]（X = H或N; L = PPh 3）与硅烷SiR 3 H反应，生成新的甲硅烷基钴（III）配合物[CoH 2（SiR 3）L 3 ] [R 3＝ F 3，MeF 2或（OEt）3 ]。描述了这些配合物的特征及其与N 2，H 2，HCl，CCl 4和CO的反应。有了CO，新的钴（I）甲硅烷基[Co（SiF 3）（CO）2 L 2] 形成了。R的电负性降低时，甲硅烷基对SiR 3 H损失的稳定性降低，这使得较不稳定的配合物参与催化过程。SiR 3 H与D 2（R = F，OEt，Et或Me），SiH（OEt）3或Me 3 Si [OSi（H）Me] n OSiMe 3与EtOH和SiH（OEt）的反应）3与1-己烯是通过[COH（X催化2）L- 3 ]或由[治疗之环2 的Si（OET）3 } L 3 ]。氘代反应为氘代硅烷SiR 3 D提供了容易的路线。