silylpotassium | 13812-63-0

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 各种混合金属/非金属
• 英文名称: silylpotassium
• 英文别名: potassium silyl；potassium;silanide
• CAS: 13812-63-0
• 化学式: H₃Si*K
• 分子量: 70.2076
• InChiKey: MLRJATRVAWDLHJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -4.18
• 重原子数：
  2
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  silylpotassium 、 2-iodo decaborane(14) 以 乙二醇二甲醚 为溶剂， 以98%的产率得到potassium 2-iodo decaborate(13)
  参考文献：
  名称：

  Amberger, E.; Leidl, P., Chemische Berichte, 1969, vol. 102, p. 2764 - 2769

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  硅烷 、 氢化钾 以 二乙二醇 为溶剂， 生成 silylpotassium
  参考文献：
  名称：

  Lobreyer, Thomas; Oeler, Johannes; Sundermeyer, Wolfgang, Chemische Berichte, 1991, vol. 124, # 11, p. 2405 - 2410

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Process for depositing low dielectric constant materials
  申请人：Todd A. Michael

  公开号：US20070032676A1

  公开（公告）日：2007-02-08

  Chemical vapor deposition processes result in films having low dielectric constants when suitable chemical precursors are utilized. Preferred chemical precursors include siloxanes, (fluoroalkyl)fluorosiloxanes, (fluoroalkyl)silanes, (alkyl)fluorosilanes, (fluoroalkyl)fluorosilanes, alkylsiloxysilanes, alkoxysilanes, alkylalkoxysilanes, silylmethanes, alkoxysilylmethanes, alkylalkoxysilylmethanes, alkoxymethanes, alkylalkoxymethanes, and mixtures thereof. The precursors are particularly suited to thermal CVD for producing low dielectric constant films at relatively low temperatures, particularly without the use of additional oxidizing agents. Such films are useful in the microelectronics industry.

  化学气相沉积工艺使用适当的化学前体时，产生具有低介电常数的薄膜。首选的化学前体包括硅氧烷、(氟烷基)氟硅氧烷、(氟烷基)硅烷、(烷基)氟硅烷、(氟烷基)氟硅烷、烷基硅氧硅烷、烷氧硅烷、烷基烷氧硅烷、硅基甲烷、烷氧硅基甲烷、烷基烷氧硅基甲烷、烷氧甲烷、烷基烷氧甲烷及其混合物。这些前体特别适用于热化学气相沉积，可在相对较低的温度下生产低介电常数薄膜，特别是在不使用额外氧化剂的情况下。这种薄膜在微电子行业中非常有用。
• Formation of α-[KSiH₃] by hydrogenolysis of potassium triphenylsilyl
  作者：V. Leich、T. P. Spaniol、J. Okuda

  DOI：10.1039/c5cc06187c

  日期：——

  Molecular potassium silyl [K(Me₆TREN)SiPh₃] was used as precursor for the synthesis of the hydrogen storage material α-[KSiH₃] under mild conditions. Facilitated by the neutral amine ligand Me₆TREN, the hydrogenolysis proceeded selectively across the Si–C_Phbond.

  分子钾硅基[K(Me6TREN)SiPh3]被用作合成氢储存材料α-[KSiH3]的前体，在温和条件下进行。在中性胺配体Me6TREN的促进下，氢解反应选择性地发生在Si-CPh键上。
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: B: B-Verb.4, 3.7, page 88 - 89
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: B: B-Verb.4, 4.13, page 219 - 219
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Noeth, H.; Fritz, P., Zeitschrift fur Anorganische und Allgemeine Chemie
  作者：Noeth, H.、Fritz, P.

  DOI：——

  日期：——