三氟-硅烷 | 13465-71-9

• 分子结构分类: 无机化合物 - 混合金属/非金属化合物 - 类金属盐
• 中文名称: 三氟-硅烷
• 英文名称: trifluorosilane
• CAS: 13465-71-9
• 化学式: F₃HSi
• 分子量: 86.0886
• InChiKey: WPPVEXTUHHUEIV-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  -131°C
• 沸点：
  -97,5°C
• 密度：
  1.86 (0°C) [CRC10]

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.61
• 重原子数：
  4
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

安全信息

• TSCA：
  No
• 危险类别码：
  R35,R26
• 危险品运输编号：
  UN 1859
• 安全说明：
  S24/25,S3/7,S38,S45,S9

制备方法与用途

制备方法

SiHCl₃＋SbF₃→SiHF₃＋SiHCl₂F＋SiHClF₂，主要产物为SiHF₃，产率可达90％，后二者含量较少。SiHF₃在液氮温度下不稳定，会发生分解反应：4SiHF₃→SiH₄＋3SiF₄。

合成制备方法

SiHCl₃＋SbF₃→SiHF₃＋SiHCl₂F＋SiHClF₂，主要产物为SiHF₃，产率可达90％，后二者含量较少。SiHF₃在液氮温度下不稳定，会发生分解反应：4SiHF₃→SiH₄＋3SiF₄。

用途简介

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  三氟-硅烷 以 gaseous matrix 为溶剂， 生成 monofluorosilylene
  参考文献：
  名称：

  喷射冷却的 HSiF 和 DSiF 的单振动能级发射光谱

  摘要：

  利用单振动能级发射光谱技术，研究了喷射冷却的 HSiF 和 DSiF 的基态振动流形。使用三氟硅烷（HSiF3 或 DSiF3）作为前体，在脉冲放电射流中产生自由基。首次确定了两种同位素的气相基态谐波振动频率。使用振动频率和文献值对离心变形常数进行法向坐标分析可以确定所有六个基态力常数。我们之前的基态旋转常数与计算出的对 α 常数的谐波贡献相结合，以获得平均 (rz) 结构和平衡 (rez) 结构的估计。

  DOI：

  10.1063/1.1374956
• 作为产物：
  描述：

  三氯硅烷 、 三氟化砷 以 neat (no solvent) 为溶剂， 生成 三氟-硅烷
  参考文献：
  名称：

  Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Si: MVol.B, 258, page 701 - 703

  摘要：

  DOI：
• 作为试剂：
  描述：

  三氟亚硝基甲烷 在 三氟-硅烷 作用下， 生成 N-(Trifluormethyl)-O-(trifluorsilyl)-hydroxylamin
  参考文献：
  名称：

  Kirpichnikova,A.A. et al., Journal of general chemistry of the USSR, 1973, vol. 43, # 8, p. 1852

  摘要：

  DOI：

文献信息

• F3SiSH and (F3Si)2S: Conflicting Observations Resolved by Unambiguous Syntheses
  作者：Helmut Beckers、Hans Bürger

  DOI：10.1002/1521-3749(200106)627:6<1217::aid-zaac1217>3.0.co;2-b

  日期：2001.6

  (F3SiS)2SiF2. Diese Fluorsilylsulfane haben eine bemerkenswert unterschiedliche thermische Stabilitat. Wahrend sich (F3SiS)2SiF2 bereits bei Raumtemperatur zersetzt, ist das bei dieser Temperatur stabile (F3Si)2S eine vielseitige Ausgangsverbindung zur Synthese von F3Si-Derivaten. Das Silylsulfan F3SiSH konnte neben F3SiBr durch selektive Spaltung einer SiS-Bindung von flussigem (F3Si)2S mit HBr in reiner

  液态 I 与红色 HgS 之间的反应主要产生二甲硅烷基硫烷 (F3Si)2S，以及少量迄今未知的 ( S)2SiF2。这些氟甲硅烷基硫烷具有不同的热稳定性。( )2S 是 衍生物的通用前体，在环境温度下它是稳定的，而 ( S)2SiF2 分解迅速。 SH 与 Br 一起是通过在液相中用 HBr 选择性裂解 ( )2S 中的一个 Si-S 键而获得的，并且首次得到明确表征。与之前的报道相反，当 SiF4 在石英管中以 1298 K 温度通过 SiS2 时，会形成 ( )2O 而不是 (F2SiS)2。( )2S、 SH 及其氘代衍生物 SD 的拉曼光谱和红外光谱已被测量并分配给振动基础。已记录多核核磁共振谱。 SH 和 ( )2S： Klarung widespruchlicher Beobachtungen
• Unstable intermediates. Part 167. Electron spin resonance studies of trifluorosilyl and related radicals
  作者：Martyn C. R. Symons

  DOI：10.1039/dt9760001568

  日期：——

  not obtained from O(SiF3)2 or SiF3(NMe2), but species similar to A containing two strongly coupled 19F nuclei have been detected. These are identified as F2SiOSiF3 and SiF2(NMe2) respeclively. The radical O(SiF3) is obtained in certain samples of SiF4.

  的SiF暴露4至60条钴γ在77K射线给出显示强超精细耦合到一个物种（A）29 Si和三个19与弱耦合˚F核，一起到四个其它等效19 ˚F核。该物种暂定为与邻近的SiF 4分子弱相互作用的SiF 3 ,，但讨论了其他可能性，从Si 2 F 6和SiF 3 H一起获得了与A非常相似但具有不同亚结构的物种。在后一种情况下用SiF 2 H 3。物种A不是从O（SiF 3）2或SiF 3（NMe 2），但已检测到类似于A的物种，其中包含两个强耦合的19 F核。这些分别被明确地标识为F 2 SiOSiF 3和SiF 2（NMe 2）。在某些SiF 4样品中获得了基团O（SiF 3）。
• Actinide–Silicon Multiradical Bonding: Infrared Spectra and Electronic Structures of the Si(μ-X)AnF₃ (An = Th, U; X = H, F) Molecules
  作者：Han-Shi Hu、Fan Wei、Xuefeng Wang、Lester Andrews、Jun Li

  DOI：10.1021/ja409527u

  日期：2014.1.29

  silylene group. These silicon-bearing molecules as the lowest-energy isomer of XSiAnF3 represent the first silicon-actinide systems with unusual "triplet" silylenes and Si-An single bonds with multiradical character. They are in dramatic contrast to the uranium-carbon analogs, XC≡UF3, which form triple-bonded singlet ground states with C3v symmetry. The calculated vibrational frequencies of the Si(μ-X)AnF3

  我们报告了一系列 Si(μ-X)AnF3 (An = Th, U; X = H, F) 与硅 - 锕系 (IV) 单键和意想不到的多自由基特征形成稀有三线态亚甲硅烷的络合物。这些桥接分子是通过激光烧蚀的铀和钍原子与氟化硅的反应在微观尺度上制备的，并从氩和氖基质中的红外光谱和相对论量子化学计算中识别出来。为了比较，进行了铀与 CF4 和 CHF3 反应的类似氖基质实验。我们的密度泛函理论计算表明，具有 U(IV) 氧化态的 Si-U 单键物种 Si(μ-X)UF3 (X = H, F) 和 H 或 F 的准前桥配体是最稳定的在所有异构体中，而天真预期的具有 U(VI) 氧化态的三键物种 XSi≡UF3 和具有 U(V) 氧化态的双键物种 XSi(•)=(•)UF3 的能量明显更高。还发现来自与 XSiF3 反应的类似钍产物更喜欢具有 Si-Th 单键和桥连 H 或 F 配体的 Si(μ-X)ThF3
• Organosilicon chemistry. Part 26. Silyl derivatives of substitued cobalt carbonyls of the type [Co(SiR₃)(CO)_nL_4–n]
  作者：Robert N. Haszeldine、Adrian P. Mather、R. V. (Dick) Parish

  DOI：10.1039/dt9800000923

  日期：——

  The series of cobalt(I) silyl complexes [Co(SiR3)(CO)n L4–n](R = F, n= 1–3; R = Ph or OEt, n= 2 or 3; L = tertiary phosphine or arsine) has been prepared, and the reaction of [Co(SiR3)(CO)4] with PPh3 has been studied. For R = Ph, substitution of CO occurs rapidly to give the unstable cis-[Co(SiPh3)(CO)3(PPh3)], which isomerises slowly to the stable trans form. For R = Et, however, decomposition occurs

  钴（I）甲硅烷基配合物系列[Co（SiR 3）（CO）n L 4– n ]（R = F，n = 1-3； R = Ph或OEt，n = 2或3； L =三级制备膦或a），并研究了[Co（SiR 3）（CO）4 ]与PPh 3的反应。对于R = Ph，CO的取代迅速发生，从而产生不稳定的顺式-[Co（SiPh 3）（CO）3（PPh 3）]，该异构体缓慢异构化为稳定的反式。但是，对于R = Et，会发生分解，生成Si 2 Et 6和[Co（CO）3（PPh 3）} 2 ]。[Co（SiR 3）（CO）2 L 2 ]的三种不同的几何异构体已通过不同的制备途径获得。
• Organosilicon chemistry. Part 23. Some silylcobalt(III) complexes and the homogeneous catalysis of deuteriation, hydrosilylation, and O-silylation reactions
  作者：Nicholas J. Archer、Robert N. Haszeldine、R. V. (Dick) Parish

  DOI：10.1039/dt9790000695

  日期：——

  The complexes [CoH(X2)L3](X = H or N; L = PPh3) react with silanes, SiR3H, to give the new silylcobalt(III) complexes [CoH2(SiR3)L3][R3= F3, MeF2, or (OEt)3]. The characterization of these complexes and their reactions with N2, H2, HCl, CCl4, and CO are described. With CO the new cobalt(I) silyl [Co(SiF3)(CO)2L2] is formed. The stability of the silyls to loss of SiR3H decreases as the electronegativity

  配合物[CoH（X 2）L 3 ]（X = H或N; L = PPh 3）与硅烷SiR 3 H反应，生成新的甲硅烷基钴（III）配合物[CoH 2（SiR 3）L 3 ] [R 3＝ F 3，MeF 2或（OEt）3 ]。描述了这些配合物的特征及其与N 2，H 2，HCl，CCl 4和CO的反应。有了CO，新的钴（I）甲硅烷基[Co（SiF 3）（CO）2 L 2] 形成了。R的电负性降低时，甲硅烷基对SiR 3 H损失的稳定性降低，这使得较不稳定的配合物参与催化过程。SiR 3 H与D 2（R = F，OEt，Et或Me），SiH（OEt）3或Me 3 Si [OSi（H）Me] n OSiMe 3与EtOH和SiH（OEt）的反应）3与1-己烯是通过[COH（X催化2）L- 3 ]或由[治疗之环2 的Si（OET）3 } L 3 ]。氘代反应为氘代硅烷SiR 3 D提供了容易的路线。